三星率先將EUV用于DRAM內(nèi)存顆粒生產(chǎn)中，預(yù)計(jì)12英寸晶圓生產(chǎn)率翻番
當(dāng)前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內(nèi)存顆粒的生產(chǎn)中。
這家韓國(guó)巨頭今日宣布，已經(jīng)出貨100萬(wàn)第一代10nm EUV級(jí)（D1x）DDR4 DRAM模組，并完成全球客戶評(píng)估，這為今后高端PC、手機(jī)、企業(yè)級(jí)服務(wù)器等應(yīng)用領(lǐng)域開(kāi)啟新大門(mén)。
得益于EUV技術(shù)，可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復(fù)步驟，并進(jìn)一步提升產(chǎn)能。
三星表示，將從第四代10nm級(jí)（D1a）DRAM或高端級(jí)14nm級(jí)DRAM開(kāi)始全面導(dǎo)入EUV，明年基于D1a大規(guī)模量產(chǎn)DDR5和LPDDR5內(nèi)存芯片，預(yù)計(jì)會(huì)使12英寸晶圓的生產(chǎn)率翻番。
不過(guò)，目前支持DDR5的PC平臺(tái)尚未亮相，LPDDR5倒是已經(jīng)逐漸鋪開(kāi)。三星量產(chǎn)的第一代EUV DDR5 DRAM單芯片容量為16Gb（2GB），地點(diǎn)是平澤市的V2線。
根據(jù)三星此前的預(yù)判，EUV將幫助公司至少推進(jìn)到3nm尺度。
責(zé)任編輯：gt
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