據(jù)澎湃新聞今日?qǐng)?bào)道，在第三屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)上，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）全球副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波表示，該公司對(duì)向中國(guó)出口集成電路光刻機(jī)持開(kāi)放態(tài)度，對(duì)全球客戶(hù)均一視同仁，在法律法規(guī)框架下，都將全力支持。

IT之家昨日?qǐng)?bào)道，ASML 在第三屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)上展示了先進(jìn)的 DUV 光刻機(jī)。據(jù)了解，該產(chǎn)品可生產(chǎn) 7nm 及以上制程芯片。

DUV ：深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV ：極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。

從制程范圍來(lái)看，DUV 基本上只能做到 25nm，Intel 憑借自對(duì)準(zhǔn)二/四重曝光的模式做到了 10nm，但是卻無(wú)法達(dá)到 10nm 以下。只有 EUV 能滿(mǎn)足 10nm 以下的晶圓制造，并且還可以向 5nm、3nm 繼續(xù)延伸。

此外，ASML 在本次展會(huì)上也帶來(lái)了其整體光刻解決方案，包括先進(jìn)控制能力的光刻機(jī)臺(tái)計(jì)算光刻和測(cè)量通過(guò)建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高。

沈波表示，ASML 最早一臺(tái)機(jī)器是在 1988 年進(jìn)入中國(guó)的。目前中國(guó)的 700 多臺(tái)裝機(jī)涵蓋了 ASML 公司絕大部分類(lèi)型產(chǎn)品。且光刻機(jī)并非存在 “新舊更迭”現(xiàn)象，不同的集成電路的需求受應(yīng)用場(chǎng)景影響而導(dǎo)致制程量級(jí)并不相同。目前 80、90 年代的產(chǎn)品現(xiàn)在市場(chǎng)上仍然會(huì)有很多需求，且 7 納米、5 納米、3 納米芯片的數(shù)量在整個(gè)芯片供應(yīng)鏈中大概只占 10% 多一點(diǎn)。但對(duì)于現(xiàn)在的物聯(lián)網(wǎng)、汽車(chē)電子、軌道交通、超高壓輸電等 “新基建”來(lái)說(shuō)，仍是需要大量 “成熟制程”的芯片。

沈波還表示，ASML 在中國(guó)也建立了自己的培訓(xùn)中心，培養(yǎng)光刻行業(yè)人才 , 在深圳和北京成了兩家技術(shù)開(kāi)發(fā)中心，做計(jì)算光刻、量測(cè)等開(kāi)發(fā)。

對(duì)于網(wǎng)友最關(guān)心的 EUV 光刻機(jī)出口許可方面，他表示：ASML 必須要在遵守法律法規(guī)的前提下進(jìn)行光刻機(jī)出口。但我們對(duì)向中國(guó)出口光刻機(jī)是保持很開(kāi)放態(tài)度的，我們對(duì)全球客戶(hù)都一視同仁，只要是我們能夠提供的技術(shù)和設(shè)備，我們都會(huì)全力支持。實(shí)際上，2020 年第二、第三季度，公司發(fā)往中國(guó)大陸地區(qū)的光刻機(jī)臺(tái)數(shù)超過(guò)了全球總數(shù)的 20%。
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