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三星攜手ASML開發(fā)下一代EUV光刻機方面的合作

lhl545545 ? 來源:集微網(wǎng) ? 作者:集微網(wǎng) ? 2020-12-02 10:53 ? 次閱讀
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據(jù)報道,三星正尋求加強與荷蘭半導體設備制造商ASML的技術和投資合作。

該報道稱,包括CEO Peter Burnink在內(nèi)的ASML高管于上周訪問了三星的半導體工廠,討論了在EUV光刻機供應和開發(fā)方面的合作。

ASML高管與三星副董事長金基南進行了會談。業(yè)內(nèi)人士認為,三星在此次會談中要求ASML供應更多的EUV光刻機,并討論了雙方在開發(fā)下一代EUV光刻機方面的合作。

據(jù)悉,三星需要更多的EUV光刻機來擴大其在全球晶圓制造市場的份額。然而,作為世界上唯一的EUV光刻機制造商,ASML向臺積電提供的設備要多于三星。

因此三星希望與ASML建立技術聯(lián)盟,以確保下一代EUV光刻機的供應。對于ASML來說,與三星的投資合作是必要的,因為開發(fā)下一代EUV光刻機需要大量投資。

該報道指出,三星希望投資開發(fā)高數(shù)值孔徑的EUV光刻機,以提高半導體微制造所需的電路分辨率。該設備的價格預計為每臺5000億韓元,比目前的EUV設備高出2到3倍。ASML計劃在2023年年中推出該設備的原型,三星則希望優(yōu)先獲得ASML的供應,以在技術上領先臺積電。

不過,三星一位官員表示,會議并沒有做出具體的投資決定。他說,ASML高管到訪三星是為了回應李在镕10月份訪問ASML總部。

另有消息稱,ASML的高管此次還會面了SK海力士總裁李石熙,雙方討論了擴大UV設備供應和促進合作的途徑。
責任編輯:pj

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