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EC改進(jìn)方案選型:容災(zāi)方案在性能和可靠性方面如何做驗(yàn)證

Ceph對象存儲方案 ? 來源:Ceph對象存儲方案 ? 作者:Ceph對象存儲方案 ? 2021-01-06 17:27 ? 次閱讀
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EC改進(jìn)方案選型

接上篇,介紹一下整個容災(zāi)方案在性能和可靠性方面如何做驗(yàn)證。

3個機(jī)柜,每個機(jī)柜15臺機(jī)器,總共45臺,需要在RBD場景下,找到成本、性能、數(shù)據(jù)可靠性的三者平衡點(diǎn)。

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跨機(jī)柜容災(zāi)方案1

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支持2個機(jī)柜級別的容災(zāi),跨3個機(jī)柜單個分組共9個節(jié)點(diǎn),共5個分組,對應(yīng)的理論收益情況如下

名稱 K M D 3副本得盤率 EC得盤率 硬件成本節(jié)約比率 磁盤數(shù)據(jù)遷移量(ISA) 磁盤數(shù)據(jù)遷移量(CLAY) 數(shù)據(jù)恢復(fù)負(fù)載降低比率
3+2 3 2 4 33.33333333 60 180 3 2 33.33333333

o4YBAF_1gsKARJG0AAAqUIurg1U783.jpg


對應(yīng)的crush rule如下

o4YBAF_1guyAACb2AAA9zwM_7SE979.jpg

單機(jī)柜容災(zāi)方案2

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支持1個機(jī)柜級別的容災(zāi),單個分組共5個節(jié)點(diǎn),共9個分組,對應(yīng)的理論收益情況如下

名稱 K M D 3副本得盤率 EC得盤率 硬件成本節(jié)約比率 磁盤數(shù)據(jù)遷移量(ISA) 磁盤數(shù)據(jù)遷移量(CLAY) 數(shù)據(jù)恢復(fù)負(fù)載降低比率
4+3 4 3 6 33.33333333 57.14285714 171.4285714 4 2 50
5+3 5 3 7 33.33333333 62.5 187.5 5 2.333333333 53.33333333
6+3 6 3 8 33.33333333 66.66666667 200 6 2.666666667 55.55555556

從性能最優(yōu)原則,K+M總和最小則對應(yīng)的理論性能最優(yōu),所以單機(jī)柜容災(zāi)模型下,4+3成為最優(yōu)方案。

對應(yīng)的ec配置如下

o4YBAF_1gwKAEo-pAAApeoYi218109.jpg

對應(yīng)的crush rule如下

o4YBAF_1gxWAU4z4AAA9bNt8K54717.jpg

crush rule的生成與rule的驗(yàn)證模擬

o4YBAF_1gymAXPN_AABFMkPvAw4057.jpg

容災(zāi)能力測試場景

性能測試

RBD場景,模擬大、小文件,順序/隨機(jī)讀寫,獲取對應(yīng)的fio性能基準(zhǔn)數(shù)據(jù),對比3副本與EC的性能差距。
3副本 vs CLAY_3+2 vs CLAY_4+3

場景名稱 iops 帶寬 90th延時 99th延時 備注
3副本-4M順序讀
3+2-4M順序讀
4+3-4M順序讀
3副本-4M順序?qū)?/td>
3+2-4M順序?qū)?/td>
4+3-4M順序?qū)?/td>
3副本-4k隨機(jī)寫
3+2-4k隨機(jī)寫
4+3-4k隨機(jī)寫
3副本-4k隨機(jī)讀
3+2-4k隨機(jī)讀
4+3-4k隨機(jī)讀

故障恢復(fù)效率

前置條件:集群提前寫入容量60%,模擬已有數(shù)據(jù)場景
目標(biāo):對比ISA和CLAY在K+M相同的情況下,RBD場景下持續(xù)讀寫數(shù)據(jù),模擬單塊OSD、單個OSD節(jié)點(diǎn)故障、多個OSD節(jié)點(diǎn)故障(可選),數(shù)據(jù)遷移所需的時長,同時記錄對應(yīng)的CPU、內(nèi)存、網(wǎng)卡負(fù)載消耗情況,以及性能波動情況。

容災(zāi)能力

前置條件:集群提前寫入容量60%,模擬已有數(shù)據(jù)場景
目標(biāo):RBD場景下持續(xù)讀寫數(shù)據(jù),模擬最小故障域、單機(jī)柜、雙機(jī)柜故障,記錄對應(yīng)的性能波動情況,考察在極端情況下整個集群的服務(wù)可用性和數(shù)據(jù)可靠性。

跨機(jī)柜容災(zāi)方案1

c87ec0d8-4ff6-11eb-8b86-12bb97331649.jpg

單機(jī)柜容災(zāi)方案2

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責(zé)任編輯:xj

原文標(biāo)題:Ceph最新的EC-CLAY插件調(diào)研-下

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