集微網(wǎng)消息，1月7日，芯源微發(fā)布期接受機構(gòu)調(diào)研的活動記錄表，芯源微表示，公司前道涂膠顯影機與國際光刻機聯(lián)機的技術(shù)問題已經(jīng)攻克并通過驗證，可以與包括ASML、佳能等國際品牌以及國內(nèi)的上海微電子(SMEE)的光刻機聯(lián)機應(yīng)用。

天眼查信息顯示，芯源微成立于2002年，是由中科院沈陽自動化研究所創(chuàng)建的國家高新技術(shù)企業(yè)，專業(yè)從事半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)，致力于為客戶提供半導(dǎo)體裝備與工藝整體解決方案。

在談及芯源微前道涂膠顯影機Track與國際光刻機聯(lián)機是否還有技術(shù)壁壘時，芯源微稱，公司前道涂膠顯影機與國際光刻機聯(lián)機的技術(shù)問題已經(jīng)攻克并通過驗證，可以與包括ASML、佳能等國際品牌以及國內(nèi)的上 海微電子（SMEE）的光刻機聯(lián)機應(yīng)用。

芯源微表示，涂膠顯影機的在Iline、KrF、向ArF等技術(shù)升級的過程中，主要技術(shù)難點在于涂膠顯影機結(jié)構(gòu)復(fù)雜，運行部件多。研發(fā)升級在技術(shù)上有很大的跨度，主要體現(xiàn)在顆粒污染物的控制方面，例如烘烤精 度、多腔體的一致性及均勻性、不同光刻膠的涂膠顯影工藝精 細化控制，以及設(shè)備整體顆粒污染物控制等。

據(jù)悉，芯源微目前訂單比較飽滿，排產(chǎn)工時較往年有大幅增加。芯源微指出，公司現(xiàn)有的廠區(qū)已經(jīng)是滿負荷運轉(zhuǎn)，同時新廠房也在建設(shè)當(dāng)中，按照計劃將于2021年4季度投入使用，屆時對公司產(chǎn)能提升會起到 非常大的作用。

關(guān)于進口零部件的采購，芯源微相關(guān)人士表示，芯源微目前不存在卡脖子的情況。雖然由于國內(nèi)國際市場需求旺盛導(dǎo)致了采購周期加長，但是芯源微根據(jù)訂單情況已經(jīng)提前采取應(yīng)對措施，進行了充足的備庫，能保證客戶訂單的正常生產(chǎn)、排產(chǎn)及交付。

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