ASML下一代EUV光刻機延期：至少2025年
ASML公司前兩天發(fā)布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。
雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻機的出貨不及預(yù)期的35臺，而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機要到2025-2026年之間才能規(guī)模應(yīng)用，意味著要延期了。
此前信息顯示，ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣，大規(guī)模量產(chǎn)是2024-2025年間。
ASML的EUV光刻機目前主要是NEX:3400B/C系列，NA數(shù)值孔徑是0.33，下一代EUV光刻機是NEX:5000系列，可將NA提升到了0.55，意味著光刻機的分辨率提升了70%。（注：NA越高，光刻機精度越高）
目前的EUV光刻機可以用于制造7nm到3nm工藝的芯片，下代EUV光刻機則是針對3nm以下的節(jié)點，2nm甚至未來的1nm工藝都要用到NA 0.55的EUV光刻機。
責(zé)任編輯：PSY
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