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基于主流的體硅高κ/金屬柵FinFET工藝,提出了一種利用拐角效應(yīng)

MEMS ? 來源:MEMS ? 作者:MEMS ? 2021-02-20 10:23 ? 次閱讀
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量子計算是未來信息技術(shù)發(fā)展的重要方向,在一些特定領(lǐng)域具有較大應(yīng)用潛力?;诠枇孔狱c的量子比特是實現(xiàn)通用量子計算最有前景的方案之一,具有較長的退相干時間和出色的CMOS制造工藝兼容性。目前,硅量子點量子計算正處在采用集成電路先進制造工藝實現(xiàn)量子點規(guī)模集成并進行量子比特擴展驗證的關(guān)鍵研究階段。

近期,中國科學院微電子研究所集成電路先導工藝研發(fā)中心研究員殷華湘帶領(lǐng)的科研團隊基于主流的體硅高κ/金屬柵FinFET工藝,提出了一種利用拐角效應(yīng),在鉆石形Fin溝道頂部尖端實現(xiàn)載流子局域化,并借助柵極兩邊側(cè)墻的電勢限制,構(gòu)建量子點器件結(jié)構(gòu)的方案。該器件在先導中心8吋工藝線研制成功,集成方案完全兼容主流通用的先進CMOS工藝。在制備過程中,研究人員先后優(yōu)化了Fin刻蝕、淺槽隔離等關(guān)鍵工藝,;在高κ/金屬柵后柵工藝中,利用氧化腐蝕的方法完成了襯底隔離的鉆石形硅Fin溝道形貌修飾。在20 K低溫電學測試中,該器件展示出明顯的庫倫振蕩電流。研究人員通過分析庫倫菱形穩(wěn)定圖,證明了該器件擁有較大的量子點充電能,具備在傳統(tǒng)CMOS FinFET工藝中實現(xiàn)量子點規(guī)?;傻臐摿?。

110b4386-71a7-11eb-8b86-12bb97331649.jpg

(a)器件結(jié)構(gòu)示意圖及溝道截面TEM分析;(b)庫倫菱形穩(wěn)定圖及部分仿真分析

?
相關(guān)研究成果發(fā)表在《電氣電子工程師協(xié)會電子器件學報》(IEEE Transactions on Electron Devices,DOI: 10.1109/TED.2020.3039734)上,微電子所博士生顧杰為論文第一作者。殷華湘、微電子所副研究員張青竹為論文的通訊作者。研究工作得到科學技術(shù)部、國家自然科學基金委、中科院的支持。

責任編輯:lq

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原文標題:微電子所在基于先進FinFET工藝的硅量子器件研究中獲進展

文章出處:【微信號:MEMSensor,微信公眾號:MEMS】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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