北京，2022 年 4 月 6日 - Atonarp，半導(dǎo)體工藝控制原位實(shí)時高靈敏度計(jì)量領(lǐng)域的領(lǐng)頭企業(yè)，在全球范圍內(nèi)正式發(fā)布并銷售其 Aston平臺。這是 Atonarp 公司全球發(fā)展進(jìn)程中的一座重要里程碑。

Aston 是一款緊湊型質(zhì)譜儀，可提供準(zhǔn)確、實(shí)時的工藝化學(xué)數(shù)據(jù)，其分子濃度測量靈敏度可達(dá)十億分之一。這些數(shù)據(jù)能讓半導(dǎo)體制造 FAB 實(shí)現(xiàn)高效運(yùn)行，從而提高產(chǎn)量和吞吐量，為 FAB 運(yùn)營商帶來巨大的經(jīng)濟(jì)利益。

隨著這一消息的宣布，Atonarp 正向韓國和美國的領(lǐng)先半導(dǎo)體 FAB 和設(shè)備制造商交付了 Aston Impact。此外，Atonarp 還向客戶交付數(shù)十臺 Aston ，供客戶在其先進(jìn)工藝中進(jìn)行評估，以優(yōu)化其工藝和制造效率。

Atonarp 公司產(chǎn)品營銷副總裁 Martin Mason 說：“在分子水平上快速檢測、量化并提供可操作的工藝控制數(shù)據(jù)的能力，對于先進(jìn)半導(dǎo)體制造工藝來說意義重大。對于一個典型的 FAB 來說，即使吞吐量只增加百分之一，每年也能增加數(shù)千萬美元的產(chǎn)量。Aston 十分清楚其潛力，在這其中，速度和靈敏度對分子水平的工藝控制效率來說十分重要。”

計(jì)量是半導(dǎo)體制造的一個重要部分，在生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)測量多種氣體的濃度，可以確保滿足工藝余量，同時盡量減少浪費(fèi)。以前的解決方案依賴于光發(fā)射光譜測量和殘余氣體分析儀，但這些傳統(tǒng)方法已不能滿足當(dāng)今先進(jìn)存儲器和邏輯工藝所需的速度和靈敏度。相反，Aston 使用創(chuàng)新質(zhì)譜技術(shù)，采用同類最佳傳感器，可提供快速的結(jié)果和出色的靈敏度，以及抵抗腐蝕性氣體和冷凝物所需的堅(jiān)固性。

Aston 為先進(jìn)半導(dǎo)體應(yīng)用提供可操作數(shù)據(jù)，如原子水平沉積 (ALD) 和 sub-fab 操作等。Aston 靈敏度低于十億分之平方根赫茲 (9ppb√Hz)，比競爭對手的解決方案高十倍，且不影響收集數(shù)據(jù)的速度。

Atonarp 正積極開展合作，為半導(dǎo)體領(lǐng)域的新應(yīng)用以及需要實(shí)時、敏感氣體分析的應(yīng)用（如石油和天然氣以及凍干法工藝控制）開發(fā) Aston 平臺。

Aston 已取得多項(xiàng)認(rèn)證和資格，包括 EN55032（歐盟）、EN55035（歐盟）、FCC part 15（美國）、ICES-003（加拿大）、VCCI CISPR-32（日本）、BSMI（中國臺灣）、KC EMC（韓國）的 EMI/EMC 標(biāo)準(zhǔn)。憑借這些認(rèn)證，Aston 現(xiàn)已面向全球客戶批量發(fā)貨。

Atonarp 與韓國 ATI 公司合作，為該地區(qū)客戶提供蝕刻、CVD、空間 ALD 和 Sub-fab 應(yīng)用的綜合解決方案。

如您想了解關(guān)于 Atonarp Aston 系列產(chǎn)品的更多信息，請?jiān)L問： https://www.atonarp.com。