為了減小對(duì)臺(tái)積電的依賴(lài)，美日雙方開(kāi)始聯(lián)手研發(fā)半導(dǎo)體技術(shù)，近日據(jù)報(bào)道稱(chēng)，日本計(jì)劃最早在2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體制造基地，并與美國(guó)聯(lián)手生產(chǎn)2nm制程技術(shù)。

目前全球半導(dǎo)體加工領(lǐng)域最先進(jìn)的企業(yè)是中國(guó)臺(tái)灣的臺(tái)積電以及韓國(guó)的三星，均已經(jīng)掌握了4nm制程技術(shù)，3nm制程技術(shù)也將很快被研發(fā)出來(lái)，而2nm制程技術(shù)將會(huì)在2024年或者2025年研發(fā)完成并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

雖然日本沒(méi)有芯片巨頭企業(yè)，但是在芯片供應(yīng)的流程中，他們還是有著較為豐富的經(jīng)驗(yàn)，例如制造芯片所需的光刻膠大多都來(lái)源于日本，并且在ASML成名之前，日本的佳能在光刻機(jī)領(lǐng)域還是排名相當(dāng)靠前的，EUV光照檢驗(yàn)設(shè)備也幾乎全部來(lái)源于日本，而美國(guó)也擁有諸多半導(dǎo)體加工設(shè)備企業(yè)，這么一看，貌似日本還真有可能在2nm制程技術(shù)上做出不錯(cuò)的成績(jī)。

不過(guò)臺(tái)積電之前也發(fā)言稱(chēng)，半導(dǎo)體行業(yè)不是簡(jiǎn)簡(jiǎn)單單靠人力、財(cái)力就能發(fā)展起來(lái)的，因此沒(méi)人知道目前美日合作的半導(dǎo)體計(jì)劃能走到什么地步，但毋庸置疑的是，本次合作將帶動(dòng)日本本土的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

綜合整理自 芯智訊 半導(dǎo)體行業(yè)聯(lián)盟 21ic電子網(wǎng)

審核編輯 黃昊宇