一、 紫外光表面清洗和改質(zhì)的工作原理：

低壓紫外汞燈發(fā)射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后，與有機(jī)污染物發(fā)生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能，從而提高物體表面的浸潤(rùn)性和粘合強(qiáng)度，或者使材料表面得到穩(wěn)定的表面性能。根據(jù)不同需要，既可以對(duì)物體進(jìn)行紫外光表面清洗，也可以進(jìn)行紫外光表面改質(zhì)（或叫表面改善），紫外光表面清洗和改質(zhì)的機(jī)理有相同點(diǎn)，但也有區(qū)別。

1.1紫外光清洗工作原理：

VUV低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)254nm和185nm的紫外光，這兩種波長(zhǎng)的光子能量可以直接打開(kāi)和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時(shí)，185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）:而254nm波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個(gè)光敏氧化反應(yīng)過(guò)程是連續(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會(huì)不斷的生成和分解，活性氧原子就會(huì)不斷的生成，而且越來(lái)越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。

紫外光表面清洗原理表達(dá)式：

1.2紫外光改質(zhì)工作原理：

低壓紫外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長(zhǎng)的紫外光除有清洗去除物體表面的有機(jī)污染物的功能外，而且還能夠進(jìn)行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開(kāi)的同時(shí)拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來(lái)的活性氧（O）生成極性很強(qiáng)的原子團(tuán)（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時(shí)材料表面有機(jī)污染物的清洗效果顯著，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結(jié)合，形成新的化學(xué)鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強(qiáng)的粘結(jié)強(qiáng)度，或者使材料得到穩(wěn)定的表面性能。

紫外光表面改質(zhì)原理表達(dá)式：

二、紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)的先進(jìn)性：

2.1光清洗技術(shù)是隨著當(dāng)代光電子信息技術(shù)發(fā)展起來(lái)的，光電子產(chǎn)品的高性能、微型化要求表面潔凈度越來(lái)越高，常規(guī)的清洗方法（如水洗、化學(xué)溶液洗、超聲波清等）已不能滿(mǎn)足要求，UV光清洗能夠達(dá)到常規(guī)的清洗方法難以達(dá)到的高清潔度，而且不存在三廢處理問(wèn)題，有利于環(huán)境保護(hù)。

2.2光清洗是在常溫、常壓的環(huán)境中進(jìn)行的，是一種非接觸式的干法清洗技術(shù)。光清洗時(shí)被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，因?yàn)橛袡C(jī)物經(jīng)過(guò)紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走，不可能重返被清洗的表面，不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。

2.3一般情況下，光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。

2.4光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線(xiàn)，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。

2.5世界上先進(jìn)工業(yè)化國(guó)家已經(jīng)開(kāi)始將光清洗技術(shù)由光電產(chǎn)品向金屬、光學(xué)、塑料、橡膠等相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程發(fā)展，光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣闊，具有很強(qiáng)的技術(shù)生命力。

一、 光清洗效果實(shí)例

曾用自行研制的系列UV光表面清洗機(jī)（GQX-LX型、GQX-WF型等）對(duì)白玻璃、ITO玻璃、半導(dǎo)體材料、光學(xué)玻璃、鉻板玻璃、膜塊、液晶屏斑馬線(xiàn)以及殘余的光刻膠和聚酰亞胺等多種材料進(jìn)行了光清洗試驗(yàn)，均取得了滿(mǎn)意效果。經(jīng)過(guò)光清洗后的物體表面清潔度更高，浸潤(rùn)性更好，粘合力更強(qiáng)，可使臟點(diǎn)、黑點(diǎn)、白點(diǎn)、針孔、起皮等影響涂敷的質(zhì)量問(wèn)題大大減少，膜層更加牢固。

3.1對(duì)ITO玻璃用GQX—LX光清洗機(jī)進(jìn)行光清洗前后對(duì)比試驗(yàn)，檢測(cè)情況如下：

3.1.1采用掃描俄歇微探針儀對(duì)LCD用ITO玻璃樣片進(jìn)行光清洗試驗(yàn)的檢測(cè)結(jié)果

審核編輯：湯梓紅