91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

應(yīng)用碳化硅襯底材料的三代半導(dǎo)體的性能對比

創(chuàng)易棧 ? 來源:創(chuàng)易棧 ? 作者:創(chuàng)易棧 ? 2022-10-19 15:37 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

用碳化硅作襯底的功率器件與硅基功率器件相比較,其電氣性能更優(yōu)越,主要有以下幾個(gè)方面:

01、高壓

碳化硅擊穿電場強(qiáng)度比硅高10倍以上,使碳化硅器件具有耐高壓性能,其性能明顯優(yōu)于相同規(guī)格的硅器件。

02、耐高溫

碳化硅相較硅具有較高熱導(dǎo)率使器件散熱更加方便且極限工作的溫度也更高。

耐高溫特性能夠在減少對于散熱系統(tǒng)影響的同時(shí)帶來功率密度顯著地提升,也能夠讓終端產(chǎn)品能夠更輕量、更小型化。

03、低能量損耗

碳化硅的電子漂移速率是硅的兩倍,使碳化硅器件導(dǎo)通電阻極低,導(dǎo)通損耗也較小;

在禁帶寬度方面,碳化硅是硅的三倍,這能使碳化硅器件的泄漏電流比硅器件顯著地減小,進(jìn)而減小了功率損耗;

碳化硅器件關(guān)斷時(shí)不會出現(xiàn)電流拖尾,開關(guān)損耗較小,顯著提高了實(shí)際使用中開關(guān)頻率。

ccaea4f8-4ee5-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

PS:同規(guī)格的碳化硅基MOSFET與硅基MOSFET相比,導(dǎo)通電阻下降到1/200、尺寸縮小到1/10;

同規(guī)格采用碳化硅基MOSFET逆變器與采用硅基IGBT逆變器比較,總能量損失在四分之一以內(nèi)。

也正因?yàn)樘蓟杵骷哂械囊陨蟽?yōu)越特性,它能夠滿足于電力電子技術(shù)在高溫,高功率,高壓,高頻以及抗輻射等苛刻工況下提出的全新需求,從而成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域最具前景的材料之一。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    339

    文章

    30751

    瀏覽量

    264342
  • 碳化硅
    +關(guān)注

    關(guān)注

    26

    文章

    3469

    瀏覽量

    52369

原文標(biāo)題:三代半導(dǎo)體(Si、 GaAs、SiC、 GaN )襯底材料指標(biāo)對比

文章出處:【微信號:創(chuàng)易棧,微信公眾號:創(chuàng)易棧】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    氮化硼墊片在第三代半導(dǎo)體功率器件SiC碳化硅IGBT單管內(nèi)外絕緣應(yīng)用方案

    摘要隨著電力電子技術(shù)的飛速發(fā)展,第三代半導(dǎo)體材料SiC碳化硅因其優(yōu)異的物理和電學(xué)性能,在IGBT單管等高
    的頭像 發(fā)表于 03-07 11:40 ?62次閱讀
    氮化硼墊片在第<b class='flag-5'>三代</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>功率器件SiC<b class='flag-5'>碳化硅</b>IGBT單管內(nèi)外絕緣應(yīng)用方案

    深圳市薩科微slkor半導(dǎo)體有限公司是宋仕強(qiáng)于2015年在深圳市華強(qiáng)北成立,當(dāng)時(shí)掌握了行業(yè)領(lǐng)先的第三代半導(dǎo)體

    深圳市薩科微slkor半導(dǎo)體有限公司是宋仕強(qiáng)于2015年在深圳市華強(qiáng)北成立,當(dāng)時(shí)掌握了行業(yè)領(lǐng)先的第三代半導(dǎo)體碳化硅材料的肖特基二極管和
    發(fā)表于 01-31 08:46

    行業(yè)快訊:第三代半導(dǎo)體駛?cè)肟燔嚨溃?b class='flag-5'>碳化硅器件成本有望年內(nèi)接近硅基

    行業(yè)快訊:第三代半導(dǎo)體駛?cè)肟燔嚨溃?b class='flag-5'>碳化硅器件成本有望年內(nèi)接近硅基
    的頭像 發(fā)表于 01-16 11:41 ?397次閱讀

    基本半導(dǎo)體B3M平臺深度解析:第三代SiC碳化硅MOSFET技術(shù)與應(yīng)用

    基礎(chǔ),將其定位為平面柵碳化硅(SiC)MOSFET技術(shù)的一次重要演進(jìn),其目標(biāo)不僅在于追趕,更在于在特定性能維度上超越市場現(xiàn)有成熟方案。 1.1 第三代(B3M)平臺概述 B3M系列是基本半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 10-08 13:12 ?801次閱讀
    基本<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>B3M平臺深度解析:第<b class='flag-5'>三代</b>SiC<b class='flag-5'>碳化硅</b>MOSFET技術(shù)與應(yīng)用

    碳化硅器件的應(yīng)用優(yōu)勢

    碳化硅是第三代半導(dǎo)體典型材料,相比之前的硅材料碳化硅有著高擊穿場強(qiáng)和高熱導(dǎo)率的優(yōu)勢,在高壓、高
    的頭像 發(fā)表于 08-27 16:17 ?1666次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>器件的應(yīng)用優(yōu)勢

    【新啟航】碳化硅襯底 TTV 厚度測量中表面粗糙度對結(jié)果的影響研究

    理論依據(jù)。 引言 在第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,碳化硅襯底的質(zhì)量對芯片性能和良率起著決定性作用,晶圓總厚度變化(TTV)作為衡量
    的頭像 發(fā)表于 08-18 14:33 ?712次閱讀
    【新啟航】<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量中表面粗糙度對結(jié)果的影響研究

    【新啟航】國產(chǎn) VS 進(jìn)口碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀的性價(jià)比分析

    三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展的背景下,碳化硅襯底的質(zhì)量把控至關(guān)重要,晶圓總厚度變化(TTV)作為衡量碳化硅
    的頭像 發(fā)表于 08-15 11:55 ?1002次閱讀
    【新啟航】國產(chǎn) VS 進(jìn)口<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量儀的性價(jià)比分析

    碳化硅襯底 TTV 厚度測量方法的優(yōu)劣勢對比評測

    的測量方法提供參考依據(jù)。 引言 在第三代半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,碳化硅(SiC)襯底憑借出色的性能,成為
    的頭像 發(fā)表于 08-09 11:16 ?1128次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量方法的優(yōu)劣勢<b class='flag-5'>對比</b>評測

    【新啟航】如何解決碳化硅襯底 TTV 厚度測量中的各向異性干擾問題

    精確的測量技術(shù)支持。 引言 碳化硅(SiC)作為第三代半導(dǎo)體材料,憑借其優(yōu)異的物理化學(xué)性能,在高功率、高頻電子器件領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。
    的頭像 發(fā)表于 08-08 11:38 ?964次閱讀
    【新啟航】如何解決<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量中的各向異性干擾問題

    碳化硅晶圓特性及切割要點(diǎn)

    01襯底碳化硅襯底是第三代半導(dǎo)體材料中氮化鎵、碳化硅
    的頭像 發(fā)表于 07-15 15:00 ?1194次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>晶圓特性及切割要點(diǎn)

    基于機(jī)器視覺的碳化硅襯底切割自動對刀系統(tǒng)設(shè)計(jì)與厚度均勻性控制

    一、引言 碳化硅(SiC)作為第三代半導(dǎo)體材料的代表,以其卓越的物理化學(xué)性能,在新能源汽車、軌道交通、5G 通信等關(guān)鍵領(lǐng)域展現(xiàn)出不可替代的
    的頭像 發(fā)表于 06-30 09:59 ?853次閱讀
    基于機(jī)器視覺的<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b>切割自動對刀系統(tǒng)設(shè)計(jì)與厚度均勻性控制

    自動對刀技術(shù)對碳化硅襯底切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優(yōu)化

    的重要意義。 一、引言 碳化硅襯底是第三代半導(dǎo)體器件的核心基礎(chǔ)材料,其切割質(zhì)量直接影響器件性能
    的頭像 發(fā)表于 06-26 09:46 ?761次閱讀
    自動對刀技術(shù)對<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b>切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優(yōu)化

    碳化硅襯底切割進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)的協(xié)同調(diào)控模型

    支撐。 一、引言 碳化硅憑借優(yōu)異的物理化學(xué)性能,成為第三代半導(dǎo)體材料的核心。在其襯底加工環(huán)節(jié),
    的頭像 發(fā)表于 06-25 11:22 ?746次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b>切割進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)的協(xié)同調(diào)控模型

    SiC碳化硅三代半導(dǎo)體材料 | 耐高溫絕緣材料應(yīng)用方案

    發(fā)展最成熟的第三代半導(dǎo)體材料,可謂是近年來最火熱的半導(dǎo)體材料。尤其是在“雙碳”戰(zhàn)略背景下,碳化硅
    的頭像 發(fā)表于 06-15 07:30 ?1319次閱讀
    SiC<b class='flag-5'>碳化硅</b>第<b class='flag-5'>三代</b><b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b><b class='flag-5'>材料</b> |  耐高溫絕緣<b class='flag-5'>材料</b>應(yīng)用方案

    三代半導(dǎo)體的優(yōu)勢和應(yīng)用領(lǐng)域

    )和碳化硅(SiC),它們在電力電子、射頻和光電子等領(lǐng)域展現(xiàn)出卓越的性能。本文將詳細(xì)探討第三代半導(dǎo)體的基本特性、優(yōu)勢、應(yīng)用領(lǐng)域以及其發(fā)展前景。
    的頭像 發(fā)表于 05-22 15:04 ?2476次閱讀