用碳化硅作襯底的功率器件與硅基功率器件相比較,其電氣性能更優(yōu)越,主要有以下幾個(gè)方面:
01、耐高壓
碳化硅擊穿電場強(qiáng)度比硅高10倍以上,使碳化硅器件具有耐高壓性能,其性能明顯優(yōu)于相同規(guī)格的硅器件。
02、耐高溫
碳化硅相較硅具有較高熱導(dǎo)率使器件散熱更加方便且極限工作的溫度也更高。
耐高溫特性能夠在減少對于散熱系統(tǒng)影響的同時(shí)帶來功率密度顯著地提升,也能夠讓終端產(chǎn)品能夠更輕量、更小型化。
03、低能量損耗
碳化硅的電子漂移速率是硅的兩倍,使碳化硅器件導(dǎo)通電阻極低,導(dǎo)通損耗也較小;
在禁帶寬度方面,碳化硅是硅的三倍,這能使碳化硅器件的泄漏電流比硅器件顯著地減小,進(jìn)而減小了功率損耗;
碳化硅器件關(guān)斷時(shí)不會出現(xiàn)電流拖尾,開關(guān)損耗較小,顯著提高了實(shí)際使用中開關(guān)頻率。

PS:同規(guī)格的碳化硅基MOSFET與硅基MOSFET相比,導(dǎo)通電阻下降到1/200、尺寸縮小到1/10;
同規(guī)格采用碳化硅基MOSFET逆變器與采用硅基IGBT逆變器比較,總能量損失在四分之一以內(nèi)。
也正因?yàn)樘蓟杵骷哂械囊陨蟽?yōu)越特性,它能夠滿足于電力電子技術(shù)在高溫,高功率,高壓,高頻以及抗輻射等苛刻工況下提出的全新需求,從而成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域最具前景的材料之一。
-
半導(dǎo)體
+關(guān)注
關(guān)注
339文章
30751瀏覽量
264342 -
碳化硅
+關(guān)注
關(guān)注
26文章
3469瀏覽量
52369
原文標(biāo)題:三代半導(dǎo)體(Si、 GaAs、SiC、 GaN )襯底材料指標(biāo)對比
文章出處:【微信號:創(chuàng)易棧,微信公眾號:創(chuàng)易棧】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
氮化硼墊片在第三代半導(dǎo)體功率器件SiC碳化硅IGBT單管內(nèi)外絕緣應(yīng)用方案
深圳市薩科微slkor半導(dǎo)體有限公司是宋仕強(qiáng)于2015年在深圳市華強(qiáng)北成立,當(dāng)時(shí)掌握了行業(yè)領(lǐng)先的第三代半導(dǎo)體
行業(yè)快訊:第三代半導(dǎo)體駛?cè)肟燔嚨溃?b class='flag-5'>碳化硅器件成本有望三年內(nèi)接近硅基
基本半導(dǎo)體B3M平臺深度解析:第三代SiC碳化硅MOSFET技術(shù)與應(yīng)用
【新啟航】碳化硅襯底 TTV 厚度測量中表面粗糙度對結(jié)果的影響研究
【新啟航】國產(chǎn) VS 進(jìn)口碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀的性價(jià)比分析
【新啟航】如何解決碳化硅襯底 TTV 厚度測量中的各向異性干擾問題
基于機(jī)器視覺的碳化硅襯底切割自動對刀系統(tǒng)設(shè)計(jì)與厚度均勻性控制
自動對刀技術(shù)對碳化硅襯底切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優(yōu)化
碳化硅襯底切割進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)的協(xié)同調(diào)控模型
SiC碳化硅第三代半導(dǎo)體材料 | 耐高溫絕緣材料應(yīng)用方案
應(yīng)用碳化硅襯底材料的三代半導(dǎo)體的性能對比
評論