91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

利用激光減薄多層二硫化鉬制備單層樣品

jf_GY5uQp21 ? 來(lái)源:二維材料君 ? 作者:Amy ? 2022-10-25 17:56 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

2008年石墨烯的發(fā)現(xiàn)掀起了二維材料研究的熱潮,2011年高性能單層二硫化鉬晶體管的制備掀起了二維半導(dǎo)體材料研究熱潮,大家開(kāi)始對(duì)二維材料有了更多的期待。隨后幾年,很多基于二硫化鉬的經(jīng)典文章發(fā)表出來(lái),它們構(gòu)建了現(xiàn)有二維半導(dǎo)體材料的基礎(chǔ)的理論和實(shí)驗(yàn)體系。說(shuō)這么多是因?yàn)檫@次要和大家介紹的這篇文章年代略久遠(yuǎn),發(fā)表于2012年,文章研究的核心點(diǎn)是利用激光減薄多層二硫化鉬制備單層樣品。

b32997a8-4874-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

圖1 機(jī)械剝離二硫化鉬樣品激光處理前后的顯微鏡圖以及AFM表征

文章所用的激光光源為Renishaw in via RM 2000拉曼光譜儀,激光波長(zhǎng)514 nm。當(dāng)激光功率為10 mW,掃描步進(jìn)為400 nm,曝光時(shí)間為0.1 s時(shí)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)20層及以下的二硫化鉬進(jìn)行減薄至單層,且Z-掃描比光柵掃描得到的樣品更為均勻,效果更好。

b398a6f2-4874-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

圖2 不同層MoS2樣品拉曼表征結(jié)果比較

b3be5cd0-4874-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

圖3 不同層MoS2樣品PL表征結(jié)果比較

激光加工的單層MoS2樣品的拉曼峰值差要略大于機(jī)械剝離的單層MoS2樣品,這是因?yàn)榧す饧庸?huì)在MoS2樣品表面存在一些樣品殘留,激光加工樣品的AFM測(cè)試的粗糙度更高也是這個(gè)原因。不知道能否通過(guò)一些清洗or其他的程序得到改善。此外,拉曼加工的速度可以達(dá)到8 μm2/min。

b3e5d012-4874-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

圖4 機(jī)械剝離與激光加工單層MoS2晶體管性能對(duì)比

制備的晶體管性能幾乎一致,開(kāi)關(guān)比在103左右,用來(lái)驗(yàn)證激光加工的單層MoS2樣品質(zhì)量和機(jī)械剝離的差距不大。這里器件開(kāi)關(guān)比差的原因主要是因?yàn)闆](méi)有優(yōu)化接觸,且柵電壓掃描范圍小。這種情況下機(jī)械剝離制備的單層MoS2晶體管性能處于比較差的水平,我認(rèn)為是比較難看出激光加工出的MoS2樣品的實(shí)際質(zhì)量,就很難準(zhǔn)確判斷和機(jī)械剝離樣品之間的差距。

b407eada-4874-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

圖5 激光功率對(duì)減薄的影響

從實(shí)驗(yàn)中我們可以看到,激光功率的變化對(duì)應(yīng)于二硫化鉬層數(shù)的變化是非線性的,至少這個(gè)實(shí)驗(yàn)下是這樣的結(jié)果。也就是激光功率在10-17 mW之間,都可以實(shí)現(xiàn)多層MoS2樣品的減薄,選功率小的是減少損傷;激光功率大于17 mW,二硫化鉬樣品將會(huì)被激光直接切割。激光功率<10 mW的情況沒(méi)有做特別的說(shuō)明,筆者也沒(méi)有搜集更多的資料,感興趣的小伙伴可以去查看下其他引用文獻(xiàn)的相關(guān)成果。




審核編輯:劉清

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 晶體管
    +關(guān)注

    關(guān)注

    78

    文章

    10396

    瀏覽量

    147868
  • AFM
    AFM
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    62

    瀏覽量

    20817
  • 激光功率
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    10

    瀏覽量

    6882

原文標(biāo)題:激光制備單層二硫化鉬

文章出處:【微信號(hào):二維材料君,微信公眾號(hào):二維材料君】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    簡(jiǎn)單了解常見(jiàn)的幾種電鏡制樣方法

    槍的角度--Ar離子束的入射角Theta是可調(diào)節(jié)的),樣品夾持臺(tái)具有同心旋轉(zhuǎn)功能(轉(zhuǎn)速可調(diào)),以實(shí)現(xiàn)樣品上較大范圍的。應(yīng)用:主要用于制備
    的頭像 發(fā)表于 03-11 15:16 ?27次閱讀
    簡(jiǎn)單了解常見(jiàn)的幾種電鏡制樣方法

    2D材料3D集成實(shí)現(xiàn)光電儲(chǔ)備池計(jì)算

    先進(jìn)材料與三維集成技術(shù)的結(jié)合為邊緣計(jì)算應(yīng)用帶來(lái)了新的可能性。本文探討研究人員如何通過(guò)單片3D集成方式將硒化銦光電探測(cè)器與二硫化鉬憶阻晶體管結(jié)合,實(shí)現(xiàn)傳感器與計(jì)算單元之間物理距離小于50納米的緊密集成[1]。
    的頭像 發(fā)表于 02-02 15:58 ?238次閱讀
    2D材料3D集成實(shí)現(xiàn)光電儲(chǔ)備池計(jì)算

    透射電鏡(TEM)樣品制備方法

    技術(shù),而在于實(shí)驗(yàn)的第一步——樣品制備。一、TEM樣品的基本要求1.樣品須為固體,且厚度通常應(yīng)小于100nm;2.在電鏡的電磁環(huán)境中保持穩(wěn)定,不會(huì)被吸附至極靴;3.
    的頭像 發(fā)表于 11-25 17:10 ?996次閱讀
    透射電鏡(TEM)<b class='flag-5'>樣品</b><b class='flag-5'>制備</b>方法

    激光極管增透膜技術(shù):提升光學(xué)性能的關(guān)鍵方案

    激光極管防反射透鏡通過(guò)光學(xué)干涉與多層膜設(shè)計(jì),顯著提升輸出效率和光束質(zhì)量,降低反射損耗,適用于光纖耦合、高功率陣列及可調(diào)諧激光器。
    的頭像 發(fā)表于 11-12 13:49 ?316次閱讀

    聚焦離子束技術(shù)在TEM樣品制備中的應(yīng)用

    ,通常以鎵(Ga)離子為主,部分設(shè)備還配備氦(He)或氖(Ne)離子源。離子束在轟擊樣品時(shí),會(huì)產(chǎn)生濺射現(xiàn)象,從而實(shí)現(xiàn)材料的精準(zhǔn)去除,同時(shí)通過(guò)次電子信號(hào)獲取樣品的形貌
    的頭像 發(fā)表于 11-11 15:20 ?363次閱讀
    聚焦離子束技術(shù)在TEM<b class='flag-5'>樣品</b><b class='flag-5'>制備</b>中的應(yīng)用

    電子背散射衍射(EBSD)樣品制備技術(shù):鋯合金與高碳鋼

    電子背散射衍射樣品制備工藝電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)是現(xiàn)代材料微觀結(jié)構(gòu)分析的核心手段之一,通過(guò)與掃描電子顯微鏡(SEM)及能譜儀(EDS)的聯(lián)用,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)材料顯微組織、晶體取向、相分布及織構(gòu)等
    的頭像 發(fā)表于 11-05 14:40 ?376次閱讀
    電子背散射衍射(EBSD)<b class='flag-5'>樣品</b><b class='flag-5'>制備</b>技術(shù):鋯合金與高碳鋼

    激光焊接技術(shù)在焊接多層線圈彈簧工藝中的應(yīng)用

    激光焊接技術(shù)作為一種高精度、高效率的焊接方法,在精密制造領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。特別是在多層線圈彈簧的焊接工藝中,激光焊接展現(xiàn)出傳統(tǒng)焊接方式無(wú)法比擬的優(yōu)勢(shì),為電子設(shè)備、醫(yī)療器械和精密儀器等領(lǐng)域提供了可靠
    的頭像 發(fā)表于 09-28 14:13 ?528次閱讀
    <b class='flag-5'>激光</b>焊接技術(shù)在焊接<b class='flag-5'>多層</b>線圈彈簧工藝中的應(yīng)用

    類腦視覺(jué)芯片里程碑突破:復(fù)旦團(tuán)隊(duì)首創(chuàng)維半導(dǎo)體DRAM仿生神經(jīng)元

    方面的應(yīng)用模式。 該團(tuán)隊(duì)在研發(fā)過(guò)程中,巧妙地利用維半導(dǎo)體獨(dú)特的物理性質(zhì)。維材料,如石墨烯、二硫化鉬(MoS?)、硒化鎢(WSe?),
    的頭像 發(fā)表于 08-15 17:00 ?1066次閱讀
    類腦視覺(jué)芯片里程碑突破:復(fù)旦團(tuán)隊(duì)首創(chuàng)<b class='flag-5'>二</b>維半導(dǎo)體DRAM仿生神經(jīng)元

    IGBT 樣品異常檢測(cè)案例解析

    通過(guò)利用Thermal EMMI(熱紅外顯微鏡)去檢測(cè)IGBT 樣品異常
    的頭像 發(fā)表于 08-15 09:17 ?1917次閱讀
    IGBT <b class='flag-5'>樣品</b>異常檢測(cè)案例解析

    TSV工藝中的硅晶圓與銅平坦化技術(shù)

    本文主要講述TSV工藝中的硅晶圓與銅平坦化。 硅晶圓與銅平坦化作為 TSV 三維集成技術(shù)的核心環(huán)節(jié),主要應(yīng)用于含銅 TSV 互連的
    的頭像 發(fā)表于 08-12 10:35 ?1860次閱讀
    TSV工藝中的硅晶圓<b class='flag-5'>減</b><b class='flag-5'>薄</b>與銅平坦化技術(shù)

    TOPCon電池提效:激光氧化集成TOPCon前表面poly-finger接觸

    poly-Si會(huì)惡化金屬化接觸,而選區(qū)結(jié)構(gòu)(poly-Si僅存于金屬柵線下)可兼顧光學(xué)與電學(xué)性能。本文解析了一種利用納秒紫外激光氧化技術(shù)制備
    的頭像 發(fā)表于 07-07 11:00 ?2355次閱讀
    TOPCon電池提效:<b class='flag-5'>激光</b>氧化集成TOPCon前表面poly-finger接觸

    晶圓工藝分為哪幾步

    ”,也叫 Back Grinding(BG),是將晶圓(Wafer)背面研磨至目標(biāo)厚度的工藝步驟。這個(gè)過(guò)程通常發(fā)生在芯片完成前端電路制造、被切割前(即晶圓仍然整體時(shí)),是連接芯片制造和封裝之間的橋梁。
    的頭像 發(fā)表于 05-30 10:38 ?1982次閱讀

    對(duì)后續(xù)晶圓劃切的影響

    完成后,晶圓才會(huì)進(jìn)入封裝環(huán)節(jié)進(jìn)行處理。晶圓為什么要封裝階段對(duì)晶圓進(jìn)行主要基于多重考量
    的頭像 發(fā)表于 05-16 16:58 ?1388次閱讀
    <b class='flag-5'>減</b><b class='flag-5'>薄</b>對(duì)后續(xù)晶圓劃切的影響

    一文讀懂:單層多層、特殊材質(zhì) PCB 板加工方式全解析

    一站式PCBA加工廠家今天為大家講講單層多層及特殊材質(zhì)PCB板的加工方式有哪些?單層多層及特殊材質(zhì)PCB板加工方式。在電子產(chǎn)品制造過(guò)程中,PCB是核心組件,而PCBA則是通過(guò)貼裝和
    的頭像 發(fā)表于 05-06 08:59 ?954次閱讀

    氬離子拋光技術(shù):材料科學(xué)中的關(guān)鍵樣品制備方法

    氬離子拋光技術(shù)的核心氬離子拋光技術(shù)的核心在于利用高能氬離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行精確的物理蝕刻。在拋光過(guò)程中,氬離子束與樣品表面的原子發(fā)生彈性碰撞,使表面原子或分子被濺射出來(lái)。這種濺射作用能夠在不引
    的頭像 發(fā)表于 03-19 11:47 ?781次閱讀
    氬離子拋光技術(shù):材料科學(xué)中的關(guān)鍵<b class='flag-5'>樣品</b><b class='flag-5'>制備</b>方法