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「前沿技術(shù)」Onto Innovation發(fā)布新型聲學(xué)薄膜計(jì)量系統(tǒng)

半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 來源:半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 作者:半導(dǎo)體芯科技SiS ? 2022-12-05 10:51 ? 次閱讀
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來源:《半導(dǎo)體芯科技》雜志10/11月刊

Onto Innovation公司推出創(chuàng)新薄膜聲學(xué)計(jì)量系統(tǒng)。新的Echo?系統(tǒng)進(jìn)一步擴(kuò)大了不透明薄膜在線表征和計(jì)量能力,利用皮秒超聲原理,為前沿DRAM和高堆棧NAND存儲(chǔ)器提供關(guān)鍵厚度計(jì)量和材料表征。對于這些先進(jìn)的架構(gòu),Echo系統(tǒng)提供了關(guān)鍵的金屬薄膜計(jì)量,使更高的內(nèi)存帶寬和位密度成為可能。Echo系統(tǒng)也可以在專業(yè)領(lǐng)域?yàn)楦鞣N設(shè)備提供金屬厚度和表征,包括5G通信射頻濾波器,以及電動(dòng)汽車(EV)和高速便攜式充電器的功率器件。

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Echo不透明薄膜聲學(xué)計(jì)量系統(tǒng)。能夠測量從50?到35μm厚度的單層或多層薄膜,處理100-300mm尺寸的晶圓。隨著垂直NAND設(shè)備中層疊的不斷增加,關(guān)鍵的沉積步驟,如硬掩膜,對通道孔形成過程至關(guān)重要。這些薄膜的準(zhǔn)確厚度和機(jī)械性能對于確保薄膜在整個(gè)蝕刻過程中保持完整性極為關(guān)鍵。通過利用Onto以工具為中心的軟件,Echo系統(tǒng)在HVM客戶現(xiàn)場可以提供完整的解決方案,其中晶圓上的計(jì)量被用于閉環(huán)反饋,對關(guān)鍵的薄膜沉積步驟進(jìn)行過程控制。

Echo系統(tǒng)的信噪比(SNR)是現(xiàn)有產(chǎn)品的三倍,它支持廣泛的薄膜厚度,從厚度非常薄的50?薄膜到35μm厚的不透明薄膜和金屬層。此外,Echo系統(tǒng)具有材料表征能力,包括植入監(jiān)測在線時(shí)域熱反射和熱導(dǎo)率表征。

審核編輯黃昊宇

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