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國內(nèi)氧化鎵半導(dǎo)體又有新進(jìn)展,距離量產(chǎn)還有多遠(yuǎn)?

lPCU_elecfans ? 來源:未知 ? 2022-12-28 07:10 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/梁浩斌)在以碳化硅和氮化鎵為主的第三代半導(dǎo)體之后,氧化鎵被視為是下一代半導(dǎo)體的最佳材料之一。氧化鎵具有多種同分異構(gòu)體,其中β-Ga2O3β相氧化鎵)最為穩(wěn)定,也是目前在半導(dǎo)體應(yīng)用中被研究最多,距離商業(yè)化應(yīng)用最近的一種。
氧化鎵本身的材料特性極為優(yōu)異。我們都知道第三代半導(dǎo)體也被稱為寬禁帶半導(dǎo)體,而第四代半導(dǎo)體的一個重要特性就是“超寬禁帶”,禁帶寬度在4eV以上(金剛石5.5eV,β-Ga2O3 禁帶寬度4.2-4.9eV),相比之下,第三代半導(dǎo)體中碳化硅禁帶寬度僅為3.2eV,氮化鎵也只有3.4eV。更寬的禁帶,帶來的優(yōu)勢是擊穿電場強(qiáng)度更大,反映到器件上就是耐壓值更高,同樣以主流的β結(jié)構(gòu)Ga2O3 材料為例,其擊穿電場強(qiáng)度約為8MV/cm,是硅的20倍以上,相比碳化硅和氮化鎵也高出一倍以上。
在應(yīng)用層面上,氧化鎵主要被應(yīng)用于光電以及高功率的領(lǐng)域。由于氧化鎵高溫下性能穩(wěn)定,有高的可見光和紫外光的透明度,特別是在紫外和藍(lán)光區(qū)域透明,因此日盲紫外探測器是目前氧化鎵比較確定的一條應(yīng)用路線。
此前在今年8月,美國商務(wù)部工業(yè)和安全局的文件中披露,美國將對氧化鎵和金剛石兩種超寬禁帶半導(dǎo)體襯底實施出口管制,也足以證明第四代半導(dǎo)體的重要性。
而近日,中國科大微電子學(xué)院龍世兵教授課題組兩篇關(guān)于氧化鎵器件的研究論文被IEEE 國際電子器件大會接收,分別涉及了氧化鎵器件在功率以及光電領(lǐng)域的應(yīng)用進(jìn)展。
在氧化鎵功率應(yīng)用中,如何開發(fā)出有效的邊緣終端結(jié)構(gòu),緩解肖特基電極邊緣電場是目前氧化鎵SBD研究的熱點。由于氧化鎵P型摻雜目前尚未解決,PN結(jié)相關(guān)的邊緣終端結(jié)構(gòu)一直是難點。
龍世兵教授課題組基于氧化鎵異質(zhì)PN結(jié)的前期研究基礎(chǔ),成功將異質(zhì)結(jié)終端擴(kuò)展結(jié)構(gòu)應(yīng)用在氧化鎵SBD,并提高了器件的耐壓能力。在通過一系列優(yōu)化后,器件實現(xiàn)了2.9 mΩ·cm2的低導(dǎo)通電阻和2.1kV的高擊穿電壓,其功率品質(zhì)因數(shù)高達(dá)1.52 GW/cm2。
光電應(yīng)用中,響應(yīng)度和響應(yīng)速度是光電探測器的兩個關(guān)鍵的性能參數(shù),然而這兩個指標(biāo)之間存在著制約關(guān)系,此消彼長。由于缺乏成熟的材料缺陷控制技術(shù),該問題在以氧化鎵材料為代表的超寬禁帶半導(dǎo)體探測器中尤為突出,這次公布的論文就是為了緩解這個問題。
龍世兵教授團(tuán)隊通過引入額外的輔助光源實現(xiàn)對向光柵(OPG)調(diào)控方案,提出了一種光電探測器芯片內(nèi)千萬像素共享一顆輔助LED即可緩解響應(yīng)度與響應(yīng)速度之間的制約關(guān)系的策略,對光電探測芯片綜合性能的提升有重要的參考意義。
不過另一方面,氧化鎵的量產(chǎn)難點主要是大尺寸高質(zhì)量的β相氧化鎵襯底難以制造,襯底缺陷難以控制,目前適用于半導(dǎo)體器件的氧化鎵晶圓距離量產(chǎn)還十分遙遠(yuǎn)。
今年12月,國內(nèi)的銘鎵半導(dǎo)體宣布使用導(dǎo)模法成功制備了高質(zhì)量的4英寸β相氧化鎵單晶,完成了4英寸氧化鎵晶圓襯底技術(shù)突破,并成功進(jìn)行多次重復(fù)實驗,成為國內(nèi)首家掌握4英寸β相氧化鎵單晶襯底生長技術(shù)的公司。
海外方面,今年8月,日企Novel Crystal表示預(yù)計將在2025年開始量產(chǎn)4英寸氧化鎵晶圓,到2028年開始量產(chǎn)8英寸氧化鎵晶圓,并且最終成本可以降至碳化硅的三分之一。
目前國內(nèi)第三代以及第四代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)上,產(chǎn)學(xué)研結(jié)合模式走得較為順暢,可以期待未來幾年里,包括氧化鎵、金剛石在內(nèi)的第四代半導(dǎo)體材料在國內(nèi)迎來更多的突破。

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