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新型超構(gòu)表面成像光譜芯片研究進展

MEMS ? 來源:MEMS ? 2023-08-16 09:35 ? 次閱讀
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光譜成像具有良好的多維信息獲取能力,廣泛應(yīng)用在食品安全、醫(yī)學(xué)診斷、環(huán)境監(jiān)測、偽裝識別及軍事遙感等領(lǐng)域。傳統(tǒng)光譜成像系統(tǒng)受到分光器件的限制,其存在體積大、成本高和集成度低等問題?;谛滦统瑯?gòu)表面的成像光譜芯片可為傳感器小型化、低成本提供有效解決方案。隨著光譜分析需求的持續(xù)攀升,加速了超構(gòu)表面成像光譜芯片的快速發(fā)展。

據(jù)麥姆斯咨詢報道,近日,長春理工大學(xué)物理學(xué)院王婷婷、蔡紅星教授領(lǐng)導(dǎo)的團隊在《激光與光電子學(xué)進展》期刊上發(fā)表了以“新型超構(gòu)表面成像光譜芯片研究進展”為主題的文章。本文綜述了近年來超構(gòu)表面成像光譜芯片研究進展。在此基礎(chǔ)上,介紹了該團隊最新研究成果,通過創(chuàng)新設(shè)計成像光譜芯片體系架構(gòu),可同時實現(xiàn)高能量利用率、高空間分辨率、高光譜分辨率,為芯片級光譜成像系統(tǒng)的應(yīng)用打下良好的基礎(chǔ)。最后論述了成像光譜芯片的發(fā)展趨勢及應(yīng)用前景,為實現(xiàn)光譜成像系統(tǒng)小型化提供參考。

基于超構(gòu)表面的相位調(diào)控機理

基于廣義斯涅耳定律的超構(gòu)表面是哈佛大學(xué)Capasso等于2011年提出的,作為超材料的二維形式,可在二維平面內(nèi)周期性的排列亞波長單元結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)復(fù)雜的光場調(diào)控,從而形成平面光學(xué)元件,為先進光子器件的集成化與芯片化發(fā)展提供新思路。在基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片設(shè)計過程中,需要通過調(diào)控光學(xué)自由度實現(xiàn)光譜響應(yīng)。結(jié)構(gòu)設(shè)計的復(fù)雜多樣性導(dǎo)致了豐富的光學(xué)特性。其中,金屬超構(gòu)表面中等離激元激發(fā)需要滿足特定的波矢匹配條件,因此通過合理設(shè)計單元結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)參數(shù)可以改變其相位分布,從而實現(xiàn)光譜曲線的按需調(diào)控。在超構(gòu)表面近12年的發(fā)展歷程中,逐漸形成了不同的相位調(diào)控機理,包括傳輸相位和幾何相位,文中對這兩種類型的相位調(diào)控機理分別進行了闡述。

基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片

超構(gòu)表面以其平面化和集成化的巨大優(yōu)勢,克服了傳統(tǒng)分光技術(shù)中常用分立元件的尺寸限制,在成像光譜系統(tǒng)中極具吸引力。然而,要想更好地挖掘出基于超構(gòu)表面成像光譜芯片的更大潛力,需要結(jié)合多種不同功能的超構(gòu)表面,發(fā)揮出超構(gòu)表面平面化和集成化的優(yōu)勢,還能實現(xiàn)高質(zhì)量的成像性能和成像效果。下面將以分光原理為主線,對基于超構(gòu)表面成像光譜芯片的研究進行綜述。

色散型成像光譜芯片

色散型成像光譜系統(tǒng),以棱鏡和光柵最為常見。但在芯片化的設(shè)計方案中,波導(dǎo)光柵結(jié)構(gòu)成為大體積棱鏡的完美替代品。隨著微納制造加工技術(shù)的快速發(fā)展,形成了一系列的色散解決方案,其中包括陣列波導(dǎo)光柵、刻蝕衍射光柵以及超構(gòu)表面等。2018年,美國加州理工學(xué)院Kavli納米科學(xué)研究所Faraon教授,通過引入折疊超構(gòu)表面光學(xué)的概念,設(shè)計了一款芯片級的近紅外光譜儀,并發(fā)表于Nat.Commun.期刊。在系統(tǒng)中,色散和聚焦光學(xué)元件被放置于一側(cè)玻璃基板上的超構(gòu)表面代替,在兩側(cè)反射鏡的作用下,使光線在基板內(nèi)部傳輸,縮小了系統(tǒng)的尺寸,實現(xiàn)了1 mm × 1 mm × 7 mm的小體積設(shè)計。該光譜儀的分辨率約為1.2 nm,工作譜段覆蓋760 ~ 860 nm?;趫D1(a)的結(jié)構(gòu)設(shè)計,通過改進器件的角響應(yīng),于2019年設(shè)計出一臺線掃式高光譜成像儀,光譜范圍為750 ~ 850 nm,光譜分辨率和角分辨率分別約為1.5 nm和0.075°,如圖1(b)所示。系統(tǒng)總體積為8.5 mm3,該系統(tǒng)具備了片上集成芯片級的分光能力。然而,基于波導(dǎo)光柵的成像光譜芯片,其分辨率依賴于系統(tǒng)所提供的允許光線傳輸?shù)墓獬涕L度如圖1(c)所示。因此,高分辨能力與系統(tǒng)的小型化設(shè)計依然存在著相互制約的關(guān)系,限制了其在極端小型化的應(yīng)用。

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圖1. 基于折疊超構(gòu)表面的高光譜成像儀:(a)設(shè)計方案;(b)光譜成像系統(tǒng);(c)光線傳輸及器件制備 窄帶濾波型成像光譜芯片 基于超構(gòu)表面的窄帶濾波型成像光譜芯片,可以選擇性地傳輸特定波長的光,其光譜分辨率受到光譜通道數(shù)量的限制。其與色散型成像光譜芯片在結(jié)構(gòu)設(shè)計和系統(tǒng)集成方面相比更具有優(yōu)勢,規(guī)避了光程長度對分辨率的限制,實現(xiàn)了濾波結(jié)構(gòu)與探測器的集成。2018年,美國普渡大學(xué)Kildishev設(shè)計了一種基于超構(gòu)表面的納米腔結(jié)構(gòu),如圖2(a)所示。該結(jié)構(gòu)借助了法布里-珀羅(FP)干涉原理,如圖2(b)所示。該結(jié)構(gòu)由兩個厚度為15 nm的銀鏡組成FP光學(xué)腔,并在腔內(nèi)嵌入了厚度為22 nm,周期為150 nm的銀超構(gòu)表面光柵,且超構(gòu)表面與下表面銀鏡被厚度為40 nm的氧化鋁間隔層分開。

由FP干涉原理可知,通過改變腔的厚度和腔內(nèi)介質(zhì)的折射率,可以實現(xiàn)不同波段中心波長的可控調(diào)諧。而在此基礎(chǔ)上,超構(gòu)表面提供了更多的可調(diào)制自由度,從而能夠?qū)崿F(xiàn)多波段濾波和彩色成像,如圖2(c)所示。同年,瑞士聯(lián)邦理工學(xué)院Altug開發(fā)了基于超構(gòu)表面納米光子的中紅外成像系統(tǒng),并將其應(yīng)用于物質(zhì)的化學(xué)鑒定和成分分析,如圖3所示。片上設(shè)計的電介質(zhì)超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)的每個共振都被調(diào)諧到離散的頻率上,使分子吸收特征可以在多個光譜點被讀出。實現(xiàn)了對生物、聚合物以及殺蟲劑分子的精準監(jiān)測,展示了超構(gòu)表面在生物傳感和環(huán)境監(jiān)測等領(lǐng)域中的應(yīng)用潛力。

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圖2. 基于嵌入式超構(gòu)表面的納米腔:(a)結(jié)構(gòu)設(shè)計;(b)原理對比;(c)成像效果

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圖3. 像素化超構(gòu)表面 計算重構(gòu)型成像光譜芯片 計算重構(gòu)型成像光譜芯片,利用高速的計算技術(shù)部分替代物理分光元件的工作負荷,進一步縮小成像系統(tǒng)的體積和重量,這已成為未來片上集成芯片級成像光譜系統(tǒng)發(fā)展的主要趨勢。 2019年,美國威斯康星大學(xué)麥迪遜分校Yu等提出了一種基于光子晶體平板的隨機光譜儀。將不同周期、晶格常數(shù)和孔尺寸的光子晶體平板集成在CMOS成像傳感器表面,實現(xiàn)了光譜的探測和成像光譜系統(tǒng)的構(gòu)建。所設(shè)計的6 × 6光子晶體結(jié)構(gòu)的光學(xué)圖像,以及3張選定的光子晶體平板結(jié)構(gòu)的電鏡圖像,如圖4(a)所示。該濾波結(jié)構(gòu)的工作光譜范圍為550 ~ 750 nm,光譜分辨率為1 nm。整個濾波器尺寸為210 μm × 210 μm,體積較小,實現(xiàn)了片上集成芯片化的設(shè)計。構(gòu)建的簡易光譜成像系統(tǒng)成功獲取目標的光譜信息,驗證了光子晶體平板濾波器的光譜成像能力,如圖4(b)所示。

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圖4. 基于光子晶體平板的計算重構(gòu)型成像光譜芯片:(a)芯片級光譜儀的示意圖和光學(xué)圖像以及濾波結(jié)構(gòu)的透射光譜;(b)高光譜成像的驗證結(jié)果及重構(gòu)數(shù)據(jù)立方體的空間圖 2022年,清華大學(xué)Cui等采用超構(gòu)表面研制出國際上首款實時超光譜成像芯片,相關(guān)研究成果發(fā)表在Optica上。通過超構(gòu)表面實現(xiàn)對入射光在頻譜域的調(diào)制,利用CMOS圖像傳感器完成從頻譜域到電域的映射測量,再利用壓縮感知算法進行光譜的計算重構(gòu),并通過超構(gòu)表面的大規(guī)模陣列集成,最終實現(xiàn)實時光譜成像,如圖5所示。該款實時超光譜成像芯片將單點光譜儀的尺寸縮小到百微米以下,空間分辨率超過15萬光譜像素,可快速獲得每個像素點的光譜,工作譜段為450 ~ 750 nm,光譜分辨率為0.8 nm。該團隊進一步研制出基于自由形狀超原子的超構(gòu)表面光譜成像芯片,突破了傳統(tǒng)規(guī)則形狀的超構(gòu)表面設(shè)計限制,取得了更優(yōu)異的光譜成像性能,如圖6所示。對窄帶光譜和寬帶光譜分別進行重構(gòu),結(jié)果表明,該超光譜成像芯片能夠?qū)崿F(xiàn)保真度99%以上的寬譜光計算重構(gòu)以及0.5 nm的波長分辨率。該項研究進一步提升了超構(gòu)表面光譜成像芯片的性能,研究成果發(fā)表于Laser & Photonics Reviews,推動了未來光譜成像芯片的發(fā)展及其在實時傳感領(lǐng)域的應(yīng)用。

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圖5. 基于超構(gòu)表面的超光譜成像芯片

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圖6. 基于自由形狀超原子的超表面光譜成像芯片 近年來,長春理工大學(xué)研究團隊針對目前成像光譜芯片存在能量利用率低、空間分辨率下降大、成本高、工藝復(fù)雜等問題。設(shè)計新型的超構(gòu)表面,基于計算重構(gòu)光譜學(xué)原理,成功研制了成像光譜芯片。將超構(gòu)表面微納結(jié)構(gòu)與CMOS圖像傳感器相結(jié)合,研制了與現(xiàn)有CMOS的光刻生產(chǎn)相兼容的生產(chǎn)工藝,實現(xiàn)了成像光譜芯片的量產(chǎn)。在結(jié)構(gòu)設(shè)計階段,通過選取微納結(jié)構(gòu)材料、優(yōu)化微納結(jié)構(gòu)、選擇探測器類型以及設(shè)計像素分布方式等研究工作,實現(xiàn)可定制的成像光譜芯片性能參數(shù)。該團隊優(yōu)化設(shè)計了I型金屬超構(gòu)表面結(jié)構(gòu),如圖7(a)所示,整體具有能量利用率高、空間分辨率高、光譜分辨率高的優(yōu)點,其芯片結(jié)構(gòu)如圖7(b)所示。在工藝制備階段,采用聚焦離子束刻蝕工藝,并引入多層套刻技術(shù),針對每層光譜調(diào)制材料不同的特性,對其掩模特性、刻蝕特性以及玻璃基片表面的附著特性進行工藝設(shè)計。最后,在顯微鏡下通過人工操作的方式實現(xiàn)該結(jié)構(gòu)與探測器焦平面的像素級對準貼合,尺寸< 2 cm × 2 cm × 0.5 cm,該結(jié)構(gòu)具有體積小、成本低的優(yōu)點。

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圖7. 基于超構(gòu)表面計算重構(gòu)技術(shù)的成像光譜芯片:(a)I型金屬超構(gòu)表面結(jié)構(gòu);(b)芯片結(jié)構(gòu)

該團隊研制了多光譜相機,波段范圍為350 ~ 950 nm,像素尺寸為6 μm × 6 μm,空間分辨率為,其在暗光條件下的成像效果與相同襯底的RGB芯片比較如圖8所示。

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圖8. 暗光成像效果比較

總結(jié)和展望

以分光技術(shù)為主線,介紹了基于不同分光原理的超構(gòu)表面成像光譜芯片的研究進展。近幾年,超構(gòu)表面的研究在理論建模和微納制造方面都取得了重大進展。超構(gòu)表面可在亞波長尺度內(nèi)實現(xiàn)對光場的靈活調(diào)控,且兼具傳統(tǒng)光學(xué)元件無法比擬的平面化和低損耗的優(yōu)點,超構(gòu)表面為解決成像光譜系統(tǒng)的集成化、芯片化設(shè)計提供了有效的技術(shù)途徑。盡管現(xiàn)有基于超構(gòu)表面的成像光譜芯片已在多個領(lǐng)域中發(fā)揮巨大作用,但在芯片級的成像光譜系統(tǒng)中,同時實現(xiàn)系統(tǒng)的高能量利用率、高空間分辨率、高光譜分辨率依然存在著巨大的挑戰(zhàn)。 綜上所述,色散型和窄帶濾波型,實質(zhì)上是按比例縮小傳統(tǒng)的光譜系統(tǒng),各自存在著局限性。色散型超構(gòu)表面光譜成像系統(tǒng)具有復(fù)雜的光路設(shè)計和龐大的元件體積,在片上集成芯片級的結(jié)構(gòu)設(shè)計中,可靠性并不高。色散型成像光譜系統(tǒng)的光譜分辨率嚴重依賴光程長度,阻礙其進一步實現(xiàn)小型化。在眾多的芯片化解決方案中,應(yīng)用較多的是窄帶濾波型技術(shù)。窄帶濾波型的光譜分辨率可通過工作帶寬下濾波通道的數(shù)量來衡量。在一定工作帶寬下,濾波通道數(shù)量越多,光譜分辨率越高。

然而,濾波型超構(gòu)表面光譜成像技術(shù)更適用于低光譜分辨率的成像探測系統(tǒng)。獲取單一光譜信息需要一個窄帶濾波結(jié)構(gòu)以形成光譜濾波通道。然而應(yīng)對高分辨率需求時,成像系統(tǒng)必須使用帶寬更窄和數(shù)量更多的濾波結(jié)構(gòu),這使得系統(tǒng)難以實現(xiàn)小型化,因此同時獲取高空間分辨率和高光譜分辨率是存在矛盾的。此外,窄帶濾波結(jié)構(gòu)僅能夠接收中心波長的光,增加濾波結(jié)構(gòu)的數(shù)量也會極大地降低系統(tǒng)的光能量利用率,從而導(dǎo)致信噪比降低,成像效果難以滿足實際應(yīng)用需求。 隨著計算機科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,計算機算法和光學(xué)領(lǐng)域的交叉融合得到了深入的探索,光學(xué)算法的發(fā)展降低了光譜成像系統(tǒng)對硬件的需求,并使得其成像性能得到了極大的提升。近年來,將超構(gòu)表面與壓縮感知算法相結(jié)合的計算重構(gòu)型光譜成像探測系統(tǒng)被廣泛研究,該系統(tǒng)利用超構(gòu)表面的寬帶濾波特性可對光譜信號進行采集。具有不同的寬帶光譜響應(yīng)特性的濾波結(jié)構(gòu),可以接收更寬范圍的光譜信號,從而提升光能量利用率,有效提高系統(tǒng)的信噪比。在現(xiàn)有基于超構(gòu)表面的光譜成像系統(tǒng)中,超構(gòu)表面的透射光譜響應(yīng)被用作壓縮感知過程的測量矩陣。

然而,測量矩陣一般為隨機矩陣,因此對超構(gòu)表面的設(shè)計通常采用“大量生產(chǎn)—隨機挑選”的方法,該方法無法保證光譜重構(gòu)的保真度。此外,寬帶濾波的設(shè)計會加寬透射光譜,極易導(dǎo)致波段之間彼此混疊,產(chǎn)生嚴重的圖像串擾,成像色差大,無法滿足實際的應(yīng)用需求。 因此,在未來超構(gòu)表面成像光譜芯片的發(fā)展上,將面臨新的考驗,要實現(xiàn)光譜成像系統(tǒng)的小型化、芯片化、集成化、低成本,還要綜合評估芯片級成像光譜系統(tǒng)的性能,使其達到高能量利用率、高空間分辨、高光譜分辨率的性能指標要求,向標準化和通用化方向邁進。未來,超構(gòu)表面成像光譜芯片將有望真正進入掌上時代,深度融入日常生活,在食品安全、移動健康等方面展現(xiàn)出其獨特的魅力。更有望為尖端裝備裝上“中國芯”,實現(xiàn)裝備的小型化和輕量化。





審核編輯:劉清

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原文標題:綜述:新型超構(gòu)表面成像光譜芯片研究進展

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    多<b class='flag-5'>光譜</b>圖像顏色特征用于茶葉分類的<b class='flag-5'>研究進展</b>

    光譜成像在作物長勢監(jiān)測和產(chǎn)量預(yù)估的研究進展

    參數(shù)的非接觸式、高精度監(jiān)測。近年來,隨著遙感技術(shù)和人工智能算法的發(fā)展,高光譜成像系統(tǒng) (SKY機載高光譜相機+中達瑞和 云平臺) 已成為作物長勢監(jiān)測和產(chǎn)量預(yù)估的重要工具。本文系統(tǒng)梳理該技術(shù)的原理、應(yīng)用進展,為相關(guān)
    的頭像 發(fā)表于 10-16 16:31 ?544次閱讀
    高<b class='flag-5'>光譜成像</b>在作物長勢監(jiān)測和產(chǎn)量預(yù)估的<b class='flag-5'>研究進展</b>

    光譜成像在作物病蟲害監(jiān)測的研究進展

    特性會發(fā)生顯著變化,例如: 葉綠素含量下降 :導(dǎo)致可見光波段(400-700 nm)反射率異常 細胞結(jié)構(gòu)破壞 :引起近紅外波段(700-1300 nm)散射特征改變 水分與糖分異常 :影響短波紅外波段(1300-2500 nm)吸收峰分布 研究進展與關(guān)鍵技術(shù)突破 (一)光譜
    的頭像 發(fā)表于 10-16 15:53 ?563次閱讀
    高<b class='flag-5'>光譜成像</b>在作物病蟲害監(jiān)測的<b class='flag-5'>研究進展</b>

    上海光機所在單層表面用于快照式高動態(tài)范圍成像取得進展

    圖1 高動態(tài)范圍成像的復(fù)振幅構(gòu)表面設(shè)計。 (a) 傳統(tǒng)單次拍攝雙圖像獲取方案。 (b) 本文提出的復(fù)振幅
    的頭像 發(fā)表于 10-13 09:17 ?362次閱讀
    上海光機所在單層<b class='flag-5'>超</b><b class='flag-5'>表面</b>用于快照式高動態(tài)范圍<b class='flag-5'>成像</b>取得<b class='flag-5'>進展</b>

    光譜成像技術(shù)在指紋提取的研究和應(yīng)用

    ,高光譜成像技術(shù)(Hyperspectral Imaging, HSI)因其在非接觸式、無損檢測和多波段信息獲取方面的優(yōu)勢,成為指紋提取領(lǐng)域的研究熱點。本文系統(tǒng)梳理高光譜成像技術(shù)在指紋提取中的原理、
    的頭像 發(fā)表于 09-26 17:55 ?1372次閱讀
    高<b class='flag-5'>光譜成像</b>技術(shù)在指紋提取的<b class='flag-5'>研究</b>和應(yīng)用

    共聚焦顯微鏡解析 | 表面微織構(gòu) MoN 涂層的織構(gòu)調(diào)控與摩擦學(xué)性能研究

    ,MoN涂層的協(xié)同作用機理待深入研究。光子灣科技的高端光學(xué)測量技術(shù)為材料研究提供支撐,本文結(jié)合共聚焦顯微鏡三維成像,研究表面微織
    的頭像 發(fā)表于 08-05 17:46 ?939次閱讀
    共聚焦顯微鏡解析 | <b class='flag-5'>表面</b>微織<b class='flag-5'>構(gòu)</b> MoN 涂層的織<b class='flag-5'>構(gòu)</b>調(diào)控與摩擦學(xué)性能<b class='flag-5'>研究</b>

    微雙重驅(qū)動的新型直線電機研究

    摘罷:大行程、高精度,同時易于小型化的移動機構(gòu)是先進制造業(yè)等領(lǐng)域要解決的關(guān)鍵問題之一,綜述了現(xiàn)有宏/微雙重驅(qū)動機構(gòu)和直線超聲電機的研究進展和存在問題,提出了一種宏微雙重驅(qū)動新型直線壓電電機,使其既能
    發(fā)表于 06-24 14:17

    上海光機所在基于空-譜稀疏深度學(xué)習(xí)設(shè)計的自由曲面透鏡實現(xiàn)景深高光譜成像研究方面取得進展

    圖1 消色差景深高光譜成像系統(tǒng) 近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所高功率激光元件技術(shù)與工程部魏朝陽研究員團隊提出了一種通過引入高光譜數(shù)
    的頭像 發(fā)表于 04-24 06:12 ?632次閱讀
    上海光機所在基于空-譜稀疏深度學(xué)習(xí)設(shè)計的自由曲面透鏡實現(xiàn)<b class='flag-5'>超</b>景深高<b class='flag-5'>光譜成像</b><b class='flag-5'>研究</b>方面取得<b class='flag-5'>進展</b>

    《FDTD Solutions仿真全面教程:構(gòu)表面與光束操控的前沿探索》

    FDTD仿真實例及論文復(fù)現(xiàn) Q 實例內(nèi)容: (一)設(shè)置Pancharatnam–Berry型構(gòu)表面結(jié)構(gòu),單元旋向及位置 (二)傳輸型構(gòu)
    發(fā)表于 04-22 11:59