國內(nèi)光學(xué)領(lǐng)域的權(quán)威雜志《光學(xué)學(xué)報》第43卷第15號（網(wǎng)絡(luò)出版2023 - 08 - 15）登載題為《極紫外***曝光系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計研究與進展》的特別邀請，發(fā)表了一篇論述，北京理工大學(xué)光電學(xué)院光電影像技術(shù)及系統(tǒng)教育部重點實驗室李燕（艷秋組對國內(nèi)外相關(guān)科研進展，發(fā)表了一篇論述。

論文介紹說，2002年，中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械及物理研究所研制出國內(nèi)最早由Schwarzschild物鏡組成的euv光角原理實驗裝置，實現(xiàn)了0.75米特征大小的曝光。2017年，中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所開發(fā)了小時礦場euv暴露光學(xué)系統(tǒng)，報告顯示由雙面反光鏡組成的投影物鏡波譜差rms優(yōu)于0.75納米。建立了euv靜止曝光裝置，獲得了32納米線寬的光刻膠曝光圖形。建立了euv***核心技術(shù)驗證及工程測試平臺。

對于euv物鏡系統(tǒng)設(shè)計，本論文評價說，國內(nèi)對均勻率euv光角物鏡系統(tǒng)設(shè)計進行了很多研究。目前物鏡系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計已達到國際先進水平。變化倍率光角物鏡的光學(xué)設(shè)計在國內(nèi)外都處于深入研究階段。北京理工大學(xué)和中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械及物理研究所對na為0.33和na為0.55的euv曝光系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計進行了長期的深入研究，設(shè)計方法和效果可以與國際上已經(jīng)公開的同類設(shè)計相媲美。

綜述總結(jié)，目前在國內(nèi)的研究中，物鏡聚焦系統(tǒng)和照明系統(tǒng)的設(shè)計，誤差分析暴露；熱變形分析及控制研究系統(tǒng)北京理工大學(xué)和中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所高性能很久euv照片大物及照明系統(tǒng)的設(shè)計研究，智慧及有效的國際公布的同類設(shè)計類似的水平，中國的euv的***的研制打下了良好的基礎(chǔ)，培養(yǎng)了大量的人才。