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華為公布新專利:晶圓處理技術(shù)再升級(jí)!

fcsde-sh ? 來(lái)源:未知 ? 2023-12-19 19:40 ? 次閱讀
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作為中國(guó)電子產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè),華為最近在芯片領(lǐng)域取得了一系列突破。除了麒麟9000S芯片的研發(fā),華為還公布了多條專利信息。其中一項(xiàng)便是關(guān)于晶圓制造的,這將有利于提高晶圓對(duì)準(zhǔn)效率和對(duì)準(zhǔn)精度。

根據(jù)企查查公開(kāi)的信息顯示,這項(xiàng)新專利的名稱為“晶圓處理裝置和晶圓處理方法”,申請(qǐng)日期為2022年6月2日,申請(qǐng)公布日為2023年12月12日,申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)為CN117219552A。

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(圖片來(lái)源:企查查)

根據(jù)專利摘要顯示,本公開(kāi)的實(shí)施例涉及晶圓處理裝置和晶圓處理方法。

晶圓處理裝置包括:晶圓載臺(tái),晶圓載臺(tái)可沿旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn);機(jī)械臂,包括機(jī)械手,用于搬運(yùn)晶圓并將晶圓放置在晶圓載臺(tái)上;控制器;以及校準(zhǔn)組件(包括:光柵板,相對(duì)于晶圓載臺(tái)固定;光源,相對(duì)于光柵板固定;以及成像元件,固定設(shè)置在機(jī)械臂上,并且適于接收從光源發(fā)出的、透過(guò)光柵板的光)。

其中,控制器被配置成基于成像元件對(duì)接收到的光的檢測(cè),控制機(jī)械臂或機(jī)械臂上的調(diào)整裝置來(lái)調(diào)整晶圓的位置;其中,在晶圓載臺(tái)承載晶圓的情況下,光柵板和成像元件分別位于晶圓載臺(tái)的上表面所在平面相對(duì)兩側(cè),上表面用于承載晶圓。

專利摘要指出,本公開(kāi)的實(shí)施例提供的裝置和方法,能夠提高晶圓對(duì)準(zhǔn)效率和對(duì)準(zhǔn)精度。

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(專利原理示意圖)

這些年,華為雖然遭受了外界的打壓,但卻絲毫沒(méi)有影響其在科研領(lǐng)域的研究,尤其是專利數(shù)量方面,一直在不斷攀升。

未來(lái),我們可以期待華為在芯片領(lǐng)域的更多創(chuàng)新和突破,為中國(guó)科技發(fā)展貢獻(xiàn)更多的力量。

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