為什么半導(dǎo)體無(wú)塵室有黃光區(qū)
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什么是光刻？
光刻是集成電路（IC或芯片）生產(chǎn)中的重要工藝之一。簡(jiǎn)單地說(shuō)，就是利用光掩模和光刻膠在基板上復(fù)制電路圖案的過(guò)程。
硅片上涂有二氧化硅絕緣層和光刻膠。光刻膠在紫外光照射下很容易被顯影劑溶解，經(jīng)過(guò)溶解和蝕刻后，電路圖案就會(huì)留在基板上。
什么是光刻膠？為什么500nm紫外線波長(zhǎng)必須被阻擋？
光刻膠與樹(shù)脂、溶劑和添加劑結(jié)合在一起。光刻膠的感光范圍為200nm-500nm。因此，許多半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室會(huì)采用黃光來(lái)阻擋500nm紫外波長(zhǎng)，以防止光刻膠曝光過(guò)度或過(guò)早曝光的情況。
為什么用黃光?
因?yàn)辄S光的波長(zhǎng)較長(zhǎng), 難以使得光刻膠曝光, 因此將黃光作光刻區(qū)域的照明光源。
審核編輯 黃宇
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第4章?PN結(jié)和金屬半導(dǎo)體結(jié)
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