荷蘭ASML是世界上最先進的光刻設備制造商，最近該公司啟動了第一臺high-NA(numerical aperture,數(shù)值孔徑)設備，以確保其正常工作。Intel也加入了這一行列，因為它是世界上第一家訂購該設備的代工廠。

Intel和ASML宣布全球第一臺High-NA光刻機“首光”這一事件，是半導體制造領(lǐng)域的一次重大突破。High-NA光刻機，即高數(shù)值孔徑極紫外（EUV）光刻機，是目前半導體制造中最重要的工具之一。它能夠?qū)崿F(xiàn)更高的分辨率和更小的線寬，從而為生產(chǎn)更高性能的芯片打下基礎(chǔ)。

據(jù)報道，ASML經(jīng)過十年的研發(fā)，于2023年12月正式向Intel交付了首臺High-NA EUV光刻系統(tǒng)——TWINSCAN EXE:5000的首批模塊。這一系統(tǒng)的分辨率直達8nm，相比之前的DUV系統(tǒng)，其在光的波長參數(shù)上進行了重大調(diào)整，使用13.5nm光，而最高分辨率DUV系統(tǒng)則使用193nm光。此外，這臺機器的尺寸龐大，組裝完成后高達3層樓高，需要建造新的廠房來容納。

在Intel位于美國俄勒岡州的D1X工廠內(nèi)，ASML工程團隊完成了該光刻機的安裝調(diào)試工作。相關(guān)組件通過空運從荷蘭運到美國，以縮短交貨時間。這一光刻機的價值在3億至4億美元之間，被ASML公司宣稱為芯片制造商參與人工智能熱潮的“必備品”。

據(jù)了解，TWINSCAN EXE:5000光刻機將應用在Intel的18A制造工藝中，即1.8納米級別。它的應用被認為是推進摩爾定律的關(guān)鍵步驟，標志著摩爾定律向前邁進了一大步。然而，根據(jù)ASML的路線圖，這一代的High-NA EUV光刻機或許主要是被晶圓制造商用于相關(guān)實驗與測試，以便公司更好地了解High-NA EUV設備的使用，獲得寶貴經(jīng)驗。實際量產(chǎn)可能會依賴于計劃在2024年底出貨的TWINSCAN EXE:5200。

總的來說，Intel和ASML宣布全球第一臺High-NA光刻機“首光”，無疑是半導體行業(yè)的一次重大進步。它不僅展示了ASML在光刻技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位，也預示著半導體制造工藝將邁向新的高度。然而，如何充分利用這一技術(shù)，并將其應用于實際生產(chǎn)中，還需要進一步的研究和實驗。我們期待看到更多關(guān)于這一技術(shù)的后續(xù)報道和應用進展。