91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

EUV光刻機機密文件被盜!

百能云芯電子元器件 ? 來源:百能云芯電子元器件 ? 作者:百能云芯電子元器 ? 2024-04-22 17:20 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

4月22日消息,據(jù)法國媒體LeMagIT報道,日本光學技術(shù)領(lǐng)導廠商 Hoya Corporation(豪雅)最近遭遇了勒索軟件的攻擊,其總部和多個業(yè)務部門的IT系統(tǒng)遭受波及。 據(jù)稱超過 170 萬份內(nèi)部文件流失,其包括EUV掩模坯料和光掩模(光罩基底及光罩)在內(nèi)的機密文件, 黑客向該公司勒索 1000 萬美元(約 7260 萬元人民幣)贖金。不過豪雅光學至今尚未提供攻擊的調(diào)查進展,也未對相關(guān)勒索軟件攻擊報道作出官方回應。
BB1lEyLA.png

據(jù)百能云芯電.子元器.件商.城了解,Hoya 網(wǎng)絡攻擊是由“Hunters International”發(fā)起的。據(jù)信,該組織是在聯(lián)邦調(diào)查局與德國和荷蘭執(zhí)法部門合作搗毀臭名昭著的勒索軟件即服務組織 Hive 后成立的。盡管有證據(jù),獵人國際仍否認與 Hive 有任何關(guān)系。

Hunters International要求Hoya支付1000萬美元,才能解鎖被勒索軟件加密的文件。 其對Hoya實施了“不談判/不折扣政策”, 表明這是唯一可以接受的報價。作為交易的一部分,Hunters International承諾不發(fā)布其從Hoya竊取的170萬個文件中的任何一個。 如果不支付1000萬美元,其包括EUV掩模坯料和光掩模(光罩基底及光罩)在內(nèi)的機密可能將會被曝光。

Hoya Corporation是半導體行業(yè)的重要參與者,是EUV 光刻產(chǎn)品開發(fā)領(lǐng)域的領(lǐng)導者。因此,其商業(yè)秘密對于競爭對手或受制裁國家可能特別有價值。

官網(wǎng)資料顯示,Hoya成立于1941年,總部位于日本東京,是一家在醫(yī)療技術(shù)和創(chuàng)新高科技產(chǎn)品領(lǐng)域享有盛譽的全球供應商。其業(yè)務范圍涵蓋眼鏡、醫(yī)用內(nèi)窺鏡、人工晶狀體等多個領(lǐng)域,同時在半導體制造的關(guān)鍵材料供應方面也占據(jù)重要地位,特別是EUV掩模坯料和光掩模的生產(chǎn)。豪雅在全球擁有約160個辦事處和子公司,員工數(shù)量達到約36000人。

審核編輯 黃宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1199

    瀏覽量

    48929
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    615

    瀏覽量

    88818
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例,這是決定芯片 圖案能否被精準 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進制程芯片 時代,不僅需要EUV光刻機,更需要
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?6675次閱讀

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)?在全球半導體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機被譽為 “半導體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV光刻技術(shù)更是先進制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?1w次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    壟斷 EUV 光刻機之后,阿斯麥劍指先進封裝

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 當全球半導體產(chǎn)業(yè)陷入 “先進制程競賽” 的白熱化階段,極紫外(EUV光刻機作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成為決定產(chǎn)業(yè)格局的核心力量。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球唯一
    的頭像 發(fā)表于 03-05 09:19 ?1675次閱讀

    澤攸科技 | EBL和EUV光刻機有何區(qū)別?如何影響半導體行業(yè)?

    從技術(shù)路徑上看,電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一類問題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是一種直接寫入技術(shù),利用聚焦電子束在抗蝕劑上逐點曝光,通過電磁控制精確描繪圖形。這種方式不依賴掩
    的頭像 發(fā)表于 01-06 16:49 ?770次閱讀
    澤攸科技 | EBL和<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>有何區(qū)別?如何影響半導體行業(yè)?

    國產(chǎn)高精度步進式光刻機順利出廠

    近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠,標志著我國在半導體核心裝備領(lǐng)域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
    的頭像 發(fā)表于 10-10 17:36 ?2031次閱讀

    EUV光刻膠材料取得重要進展

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破, 當制程節(jié)點持續(xù)向7nm及以下邁進,傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿足高精度、高密度的制造需求,此時,波長13.5nm的極紫外(EUV光刻技術(shù)逐漸成為支撐
    的頭像 發(fā)表于 08-17 00:03 ?4709次閱讀

    全球市占率35%,國內(nèi)90%!芯上微裝第500臺步進光刻機交付

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡稱:芯上微裝,英文簡稱:AMIES)第500臺步進光刻機成功交付,并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ? 光刻是半導體器件
    發(fā)表于 08-13 09:41 ?2341次閱讀
    全球市占率35%,國內(nèi)90%!芯上微裝第500臺步進<b class='flag-5'>光刻機</b>交付

    光刻機實例調(diào)試#光刻機 #光學 #光學設備

    光刻機
    jf_90915507
    發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月啟用新光刻機工廠,主要面向成熟制程及封裝應用

    7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報道,日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應用設備,為全球芯片封裝
    的頭像 發(fā)表于 08-04 17:39 ?906次閱讀

    中科院微電子所突破 EUV 光刻技術(shù)瓶頸

    極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為實現(xiàn)先進工藝制程的關(guān)鍵路徑,在半導體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機所采用的主流光源,其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
    的頭像 發(fā)表于 07-22 17:20 ?1159次閱讀
    中科院微電子所突破 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)瓶頸

    改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    的應用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過度導致光刻膠過度反應,使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光設備,如極紫外(
    的頭像 發(fā)表于 06-30 15:24 ?976次閱讀
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    ASML官宣:更先進的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學組件獨家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標志著
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?2066次閱讀

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    【2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長,尤其是在先
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?1430次閱讀

    不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時代的“心臟”,其制造過程復雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備,但實際上,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?4030次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機</b>!芯片制造的五大工藝大起底!