據(jù)悉,三星半導(dǎo)體近日宣布已成功實(shí)現(xiàn)第九代V-NAND1Tb TLC產(chǎn)品的量產(chǎn),其單位面積內(nèi)存儲量較前代產(chǎn)品大幅提升了約50%。這一成績得益于先進(jìn)的通道孔蝕刻技術(shù),大幅度提升了生產(chǎn)效率。
第九代V-NAND采用雙堆疊設(shè)計(jì),將旗艦版V8閃存原先的236層進(jìn)一步增加至290層,主要應(yīng)用于大型企業(yè)服務(wù)器及人工智能與云計(jì)算設(shè)備領(lǐng)域。
據(jù)行業(yè)內(nèi)部人士透露,三星計(jì)劃于明年推出第十代NAND芯片,采用三重堆疊技術(shù),有望達(dá)到430層,從而進(jìn)一步提升NAND的密度,鞏固并擴(kuò)大其市場領(lǐng)導(dǎo)地位。
市場研究機(jī)構(gòu)Omdia預(yù)測,盡管NAND閃存市場在2023年出現(xiàn)37.7%的下滑,但預(yù)計(jì)今年將迎來38.1%的反彈式增長。為在這一快速發(fā)展的市場中搶占先機(jī),三星承諾加大對NAND業(yè)務(wù)的投入力度。
早前,IT之家曾報(bào)道,三星高層表示,公司的長遠(yuǎn)目標(biāo)是在2030年前研發(fā)出超過1000層的NAND芯片,以實(shí)現(xiàn)更高的密度和存儲能力。
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