全球知名的DRAM大廠美光，早在去年就已宣布了其在日本廣島的重大投資計劃。據(jù)悉，美光計劃斥資6,000至8,000億日元，在廣島興建一座全新的DRAM工廠。這一項目預計將在2026年初破土動工，最快有望在2027年底前完成廠房建設、機臺設備安裝，并正式投入營運。

新廠的選址頗具深意，將緊鄰美光已建成的Fab15工廠。這一地理位置的選擇不僅有利于資源的整合與共享，更能充分利用現(xiàn)有的基礎設施和供應鏈網(wǎng)絡，確保新廠建設的順利進行。

據(jù)美光透露，新廠初期規(guī)劃主要聚焦于DRAM晶圓的生產(chǎn)，暫不涉及后段的封裝及測試環(huán)節(jié)。而產(chǎn)能方面，將重點投向HBM（高帶寬內存）產(chǎn)品，以滿足市場對高性能、大容量存儲器的不斷增長的需求。

尤為值得一提的是，美光廣島DRAM新廠將首次引入極紫外光（EUV）光刻設備。這一技術的引入，將使得新廠能夠生產(chǎn)先進的1-Gamma制程DRAM，并在后續(xù)逐步導入1-Delta制程。隨著制程技術的不斷升級，EUV設備的安裝數(shù)量也將大幅增加，并將采用更多高標準的無塵室來確保生產(chǎn)環(huán)境的純凈度。

美光此次在日本廣島興建DRAM新廠，不僅是對其全球布局的一次重要補充，更是對先進制程技術的一次大膽嘗試。隨著新廠的建成投產(chǎn)，美光有望在DRAM市場上繼續(xù)保持領先地位，為全球客戶提供更優(yōu)質的產(chǎn)品和服務。