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中國芯片制造關(guān)鍵技術(shù)取得重大突破,預(yù)計一年內(nèi)實現(xiàn)應(yīng)用落地

要長高 ? 2024-09-03 15:35 ? 次閱讀
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9月3日,南京傳來振奮人心的科技捷報:歷經(jīng)四年的潛心鉆研與自主創(chuàng)新,國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(南京)在半導(dǎo)體科技領(lǐng)域取得了里程碑式的成就,成功解鎖了溝槽型碳化硅MOSFET芯片制造的核心技術(shù)瓶頸。這一壯舉不僅標(biāo)志著我國在該領(lǐng)域的首次重大突破,更是有效突破了平面型碳化硅MOSFET芯片性能的上限。

溝槽型碳化硅MOSFET芯片,以其卓越的導(dǎo)電效率、出色的開關(guān)響應(yīng)速度以及更高的晶圓集成度,長期占據(jù)半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展的尖端位置,被視為推動行業(yè)進步的關(guān)鍵力量。然而,其制造過程卻因碳化硅材料的極高硬度及工藝復(fù)雜性而充滿挑戰(zhàn),成為制約技術(shù)發(fā)展的“攔路虎”。

面對這一難題,該中心的技術(shù)團隊在黃潤華總監(jiān)的帶領(lǐng)下,展現(xiàn)出了非凡的毅力和創(chuàng)新能力。他們不畏艱難,通過無數(shù)次試驗與優(yōu)化,終于開創(chuàng)出了一套全新的制造工藝流程,精準(zhǔn)地克服了碳化硅材料刻蝕精度要求高、損傷控制難度大等關(guān)鍵技術(shù)障礙,成功地將溝槽型碳化硅MOSFET芯片從理論推向了實際應(yīng)用。

據(jù)黃潤華總監(jiān)介紹,與傳統(tǒng)的平面型碳化硅MOSFET相比,新研發(fā)的溝槽型產(chǎn)品在導(dǎo)通性能上實現(xiàn)了約30%的顯著提升。這一重大技術(shù)革新預(yù)計將在未來一年內(nèi)迅速融入新能源汽車電驅(qū)動系統(tǒng)、智能電網(wǎng)建設(shè)以及光伏儲能等多個前沿領(lǐng)域,為這些行業(yè)的發(fā)展注入強勁動力。

尤為值得一提的是,這一技術(shù)成果的廣泛應(yīng)用還將直接惠及廣大消費者。在新能源汽車領(lǐng)域,采用碳化硅功率器件不僅能有效提升車輛的續(xù)航能力約5%,還能有效降低芯片的使用成本,進一步推動新能源汽車的普及與綠色出行的發(fā)展。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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