K500堿性制氫復(fù)合隔膜在大型電解槽中實(shí)現(xiàn)高效制氫，氫氣純度高達(dá)99.998%
近期，經(jīng)國內(nèi)某知名氫能企業(yè)反饋數(shù)據(jù)，刻沃刻K500堿性制氫復(fù)合隔膜在1000Nm3/h以上電解槽（短堆）中展現(xiàn)卓越性能，在6000-10000A/㎡的電流密度下，氫氣運(yùn)行純度高達(dá)99.998%，12000A/㎡的電流密度下氫氣運(yùn)行純度仍保持在99.972%，隔膜的高阻氣性能再次得到客戶驗(yàn)證。
客戶反饋數(shù)據(jù)圖
目前，公司2023-2024年的復(fù)合隔膜累計(jì)出貨量已超數(shù)千平方米，產(chǎn)品遠(yuǎn)銷韓國、荷蘭、匈牙利等國家，并與多家知名企業(yè)、科研機(jī)構(gòu)和高校院所建立了合作關(guān)系。
此外，由刻沃刻技術(shù)團(tuán)隊(duì)研發(fā)的全球首條寬幅超過2.6米的堿性制氫復(fù)合隔膜涂布生產(chǎn)線，即將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，敬請(qǐng)期待。
審核編輯 黃宇
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