紐約普萊恩維尤（Plainview），2017年11月1日– Veeco 公司 （Nasdaq： VECO）今日宣布和ALLOS Semiconductors （ALLOS）達成了一項戰(zhàn)略舉措，展示了200mm硅基氮化鎵晶圓用于藍/綠光micro-LED的生產(chǎn)。維易科和ALLOS合作將其專有外延技術(shù)轉(zhuǎn)移到Propel? 單晶圓MOCVD系統(tǒng)，從而在現(xiàn)有的硅生產(chǎn)線上實現(xiàn)生產(chǎn)micro-LED。

“使用Propel反應腔，我們就擁有了一項MOCVD 技術(shù)，這項技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量的GaN外延，滿足在200毫米硅生產(chǎn)線上生產(chǎn)micro-LED器件的所有要求，”ALLOS Semiconductors的首席執(zhí)行官Burkhard Slischka這樣說。“不到一個月時間我們就已經(jīng)在Propel上對我們的技術(shù)進行了驗證，并且獲得了無裂紋、無回熔的晶圓，翹曲度低于30微米，晶體質(zhì)量高，厚度均勻性優(yōu)異，波長均勻性小于1納米。同Veeco攜手，ALLOS期待著將該技術(shù)在micro-LED產(chǎn)業(yè)中更為推廣?！?/p>

Micro-LED顯示技術(shù)由《30x30平方微米的紅、綠和藍（RGB）無機LED組成，這些LED被轉(zhuǎn)化為顯示屏背板，以形成亞像素。與有機LED（OLED）和液晶顯示（LCD）相比，這些高效的LED直接發(fā)射功耗更低，卻可以為移動顯示器、電視和可穿戴式計算機提供優(yōu)異的亮度和對比度。Micro-LED的制造要求優(yōu)質(zhì)、均勻的外延晶圓，以滿足顯示屏的產(chǎn)量和成本控制的要求。

“和競爭對手的MOCVD平臺相比， Veeco的TurboDisc?技術(shù)提供的制程窗口更大，因此Propel能提一流的均勻性同時還能獲得優(yōu)良的膜品質(zhì)，”維易科高級副總裁兼MOCVD運營總經(jīng)理Peo Hansson博士這樣說?！皩eeco領先的MOCVD專業(yè)技術(shù)和ALLOS的硅基氮化鎵外延晶片技術(shù)相結(jié)合，使我們客戶能夠開發(fā)出低成本的micro-LED，以便于在新的市場中開拓新的應用?！?/p>

關于Veeco

Veeco（NASDAQ： VECO）是一家創(chuàng)新半導體工藝設備的領先制造商。我們成熟的MOCVD、光刻、激光退火、離子束和單晶片蝕刻與清潔技術(shù)在制造固態(tài)照明和顯示器LED以及先進半導體器件的制造中起著不可或缺的作用。憑借旨在最大限度地提高性能、產(chǎn)量和擁有成本的設備，維易科在所有這些服務的市場中擁有技術(shù)領先地位。要了解更多關于維易科創(chuàng)新設備和服務方面的信息，請訪問www.veeco.com。

關于ALLOS Semiconductors

ALLOS是一家知識產(chǎn)權(quán)授權(quán)和科技工程公司，幫助全世界半導體行業(yè)的客戶掌握硅基氮化鎵技術(shù)并充分發(fā)揮其優(yōu)勢。ALLOS正在向提供其專有技術(shù)和專利授權(quán)，并將其技術(shù)轉(zhuǎn)移到客戶的MOCVD反應腔中。此外，ALLOS也正在提供針對具體客戶的解決方案和下一代硅基氮化鎵開發(fā)中所面臨的挑戰(zhàn)的咨詢服務。