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瞬態(tài)吸收光譜技術(shù)為提高PeLEDs的性能相關(guān)研究提供指導(dǎo)

jf_64961214 ? 來源:jf_64961214 ? 作者:jf_64961214 ? 2025-07-16 06:33 ? 次閱讀
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金屬鹵化物鈣鈦礦(PLEDs)由于其可調(diào)諧的帶隙、高光致發(fā)光量子產(chǎn)率(PLQY)和高成本效益的溶液加工而具有成為下一代光電材料的潛力。然而,準(zhǔn)二維鈣鈦礦自然形成具有不同n維度相的多量子阱結(jié)構(gòu)。如果前驅(qū)體溶液和結(jié)晶過程中沒有有效的控制策略,就會導(dǎo)致相分布不集中,相應(yīng)的n<=3的低n相(這里n表示[PbX6]4-層的數(shù)量,低n相表示n< 3)缺陷會削弱器件的光電性能。這一問題是由于間隔陽離子的堆積、成核動力學(xué)和結(jié)晶過程中擴(kuò)散的差異,導(dǎo)致相偏析。本文將大空間位阻有機(jī)胺鹽AMAN與PEABr一起作為有機(jī)配體引入準(zhǔn)二維鈣鈦礦中,有效抑制PEABr聚集引起的低n相(n≤3)的形成,抑制低n相分布的不均勻性。通過加入AMAN,增加的空間位阻不僅抑制了低n相,而且使鹵化物與Pb2+配合形成[PbX?]4-更有挑戰(zhàn)性。

結(jié)果與討論

本文引入了一種具有大空間位阻的有機(jī)胺陽離子作為PEABr的共間隔陽離子。如圖1a所示,AMAN的大空間位阻在成核過程中物理隔離了PEABr,有效減少了PEABr堆積引起的低n相的形成。通過吸收光譜(圖1b, c),可以發(fā)現(xiàn),旋涂后低n的吸收峰主要對應(yīng)于n=2,3,在退火過程結(jié)束時逐漸移向n=1,2。這說明在自旋涂層成核階段,首先形成了形成能較低的n=2,3等低n相。隨著退火的進(jìn)行,PEABr的進(jìn)一步擴(kuò)散和聚集導(dǎo)致額外的低n相逐漸形成,如n=1。我們用不同比例的AMAN取代PEABr (5a、10a、20a、30a分別對應(yīng)AMAN取代率為5%、10%、20%、30%的薄膜),觀察到當(dāng)AMAN取代率達(dá)到10%時,低n相吸收峰完全消失。這表明在該比例下可以有效地隔離PEABr堆積。

為解析光生載流子的超快動力學(xué)行為,本研究采用Ultrafast Systems公司制造的HELIOS飛秒時間分辨瞬態(tài)吸收光譜儀,其時間分辨率<100 fs,探測范圍為320–1600 nm,滿足該實驗的飛秒超快光譜與動力學(xué)探測需求。其通過泵浦-探測技術(shù)實時追蹤光生載流子的動力學(xué)行為:飛秒激光脈沖激發(fā)樣品后,探測光延遲系統(tǒng)以亞皮秒精度記錄瞬態(tài)吸收信號變化,生成二維等高線圖及時間分辨動力學(xué)曲線。通過對比以上三種樣品的fs-TA光譜,揭示了如下機(jī)制:超快瞬態(tài)吸收光譜提供了一種更精確的方法來區(qū)分準(zhǔn)二維鈣鈦礦中的多維相分布(圖1d, e)。在對照膜中,在436、462和520 nm處觀察到三個不同的光漂白峰,分別對應(yīng)于n=2、3和n>=4相。而對于20a薄膜,低n相信號完全消失,僅在518 nm附近留下一個單一的光漂白峰,對應(yīng)于n>=4相。這表明低n相被有效抑制,導(dǎo)致相分布均勻。通過抑制低n相,可以得到相分布集中的薄膜。相反,在對照組的準(zhǔn)二維鈣鈦礦薄膜中,有缺陷的低n相的快速結(jié)晶速率對薄膜的晶體質(zhì)量產(chǎn)生不利影響。為了研究薄膜的結(jié)晶動力學(xué),在旋轉(zhuǎn)涂層和退火階段測量了對照薄膜和不同比例AMAN薄膜的原位光致發(fā)光(PL)光譜。這些測量結(jié)果直接揭示了鈣鈦礦結(jié)晶過程中晶粒形成和生長的演化過程。

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圖1. a) AMAN調(diào)節(jié)成核結(jié)晶過程示意圖。b.c)不同AMAN取代比的鈣鈦礦的紫外-可見吸收光譜。d,e)對照和20AMAN鈣鈦礦的瞬態(tài)吸收光譜。

如圖2a和c所示,自旋涂覆30秒后,對照膜開始形成鈣鈦礦顆粒發(fā)射體,且PL強(qiáng)度逐漸增大,說明大量低n相缺陷的鈣鈦礦顆??焖傩纬伞耐嘶疬^程的原位PL光譜(圖2b, d)可以看出,對照組薄膜的PL峰強(qiáng)度最初隨著退火時間的增加而迅速增加,表明鈣鈦礦團(tuán)簇的形成和晶體的快速生長。然而,在50秒時,PL峰值強(qiáng)度突然下降,大約60%的強(qiáng)度在剩余的退火過程中被淬滅。這表明在退火過程中形成了大量富含缺陷的低n相,這些缺陷極易受到熱干擾,導(dǎo)致嚴(yán)重的非輻射復(fù)合。

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圖2. 鈣鈦礦薄膜的原位PL測量:旋轉(zhuǎn)鍍膜過程a、c)和退火過程b、d)中對照、5a、10a、20a和30a薄膜的PL光譜和PL峰強(qiáng)度等高線圖。

為了研究有機(jī)胺配體對鈣鈦礦成核和結(jié)晶過程的影響,我們進(jìn)行了密度泛函理論(DFT)計算(圖3a, d)。結(jié)果表明,大位阻有機(jī)胺陽離子通過結(jié)合鈣鈦礦表面的陽離子空位缺陷位點(如Cs空位)吸附在鈣鈦礦表面。AMAN表現(xiàn)出明顯更高的結(jié)合能,使其能夠優(yōu)先吸附在鈣鈦礦表面。這種優(yōu)先吸附有效地隔離了PEABr的積累,減少了層狀多維相的形成,減小了晶粒尺寸。然后進(jìn)行x射線光電子能譜(XPS)測量,分析有機(jī)胺配體與鈣鈦礦之間的化學(xué)相互作用(圖3b,c)。AMAN的Pb 4f和Br 3d核能級都向結(jié)合能較低的方向移動,證實了AMAN配體的結(jié)合親和力較強(qiáng)。AMAN誘導(dǎo)的配體表面結(jié)合能的增強(qiáng)促進(jìn)了鈣鈦礦核在薄膜形成過程中的受限生長。由于增加了量子約束,觀察到激子結(jié)合能(Eb)從對照膜中的104 meV增加到20a膜中的118 meV(圖3e,f)。

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圖3. a,d) DFT計算了具有Cs空位的鈣鈦礦表面PEABr和AMAN的構(gòu)型。b,c) PbBr、pebr和AMAN處理的鈣鈦礦膜中Pb 4f和Br 3d信號的XPS譜。e,f)對照膜和20a膜在不同溫度下隨溫度變化的PL強(qiáng)度。e、f中插入的是不同控制溫度和20a薄膜下的PL光譜。

為了進(jìn)一步比較制備的鈣鈦礦的形貌,原子力顯微鏡(AFM)測量(圖4a,b)顯示對照膜具有更大的晶粒尺寸。X射線衍射分析(圖4c)進(jìn)一步證實了添加不同比例的AMAN對晶體質(zhì)量的改善。經(jīng)過20% AMAN處理的薄膜PLQY高達(dá)83.02%(圖4d)。我們進(jìn)一步分析了時間分辨光致發(fā)光(TRPL)光譜(圖4e),以研究鈣鈦礦薄膜的載流子動力學(xué)。AMAN處理后,PL壽命從28.07 ns顯著縮短至14.75 ns。利用空間電荷限制電流(SCLC)測量鈣鈦礦薄膜中的缺陷密度(圖4f)。對于AMAN處理的薄膜,空穴阱填充的極限電壓(VTFL)從0.64V降低到0.59V。使用標(biāo)準(zhǔn)計算公式,缺陷態(tài)密度(Nt)從3.15 × 1017 cm-3降至2.89 × 1017 cm-3。

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圖4. a)對照和b) 20a鈣鈦礦薄膜的AFM圖像。(圖像尺寸:10 μm × 10 μm)。c)不同比例AMAN取代鈣鈦礦膜的x射線衍射(XRD)測量。d)不同AMAN取代比例鈣鈦礦膜的光致發(fā)光量子產(chǎn)率(PLQY)。e)不同AMAN取代比例鈣鈦礦膜的時間分辨PL光譜。f)不同AMAN取代比例鈣鈦礦膜的純空穴器件的J-V曲線。

基于以上分析,我們制備了鈣鈦礦LED,測試其電致發(fā)光性能。從電流密度-電壓-發(fā)光(J-V-L)曲線(圖5c)可以看出,20a器件的電流密度高于對照組器件,說明其載流子輸運(yùn)性能更好。在5.5V工作電壓下,LED的最大亮度為38560 cd m-2,而對照組器件的最大亮度為32000 cd m-2。EQE統(tǒng)計圖證實了目標(biāo)器件的高效率和可重復(fù)性(圖5d),其中摻雜比為10%的器件平均效率最高。在圖5e中,最優(yōu)目標(biāo)PLEDs的效率為30.84%,明顯高于對照器件。在圖5f中,我們在0.2 mA/cm2的連續(xù)電流密度下進(jìn)行了EL光譜穩(wěn)定性測量,在整個測試過程中,目標(biāo)器件的光譜偏移較小。對應(yīng)于初始發(fā)光強(qiáng)度為100 cd/m2,其工作壽命(T50)可達(dá)4.8小時,而對照組器件的工作壽命僅為0.9小時。

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圖5. a) PLEDs的器件結(jié)構(gòu)。b)不同偏置電壓下目標(biāo)器件的EL譜。c)電流密度-電壓-發(fā)光;d) EQE統(tǒng)計;e)對照和目標(biāo)組發(fā)光二極管的EQE-電流密度曲線。f)初始亮度(L0)為100 cd m-2時測試的發(fā)光二極管的工作穩(wěn)定性。

綜上所述,我們證明了將大的空間阻礙有機(jī)胺配體作為共間隔劑有效地消除了富含缺陷的低n相,延遲了結(jié)晶,限制了晶體尺寸,從而增強(qiáng)了空間約束并增加了激子結(jié)合能。這些改進(jìn)顯著增強(qiáng)了準(zhǔn)二維鈣鈦礦中相的集中分布,改善了晶體質(zhì)量,提高了器件性能,最大效率達(dá)到30.84%。這項工作強(qiáng)調(diào)了一種有效的優(yōu)化低n相位的策略,同時通過調(diào)制晶體尺寸來補(bǔ)償減少的激子結(jié)合能,為進(jìn)一步提高PLEDs的性能提供了有價值的見解。

審核編輯 黃宇

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