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基于像散光學(xué)輪廓儀與單點膜厚技術(shù)測量透明薄膜厚度

Flexfilm ? 2025-07-22 09:53 ? 次閱讀
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透明薄膜在生物醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體光學(xué)器件等領(lǐng)域中具有重要應(yīng)用,其厚度與光學(xué)特性直接影響器件性能。傳統(tǒng)接觸式測量方法(如觸針輪廓儀)易損傷樣品,而非接觸式光學(xué)方法中,像散光學(xué)輪廓儀(基于DVD激光頭設(shè)計)雖具備高分辨率全場掃描能力,但對厚度小于25 μm的薄膜存在信號耦合問題。本研究通過結(jié)合FlexFilm單點膜厚儀光學(xué)干涉技術(shù),開發(fā)了一種覆蓋15 nm至1.2 mm的全尺度薄膜表征系統(tǒng),實現(xiàn)無損、高精度厚度測量與三維成像。

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厚度計算方法

flexfilm

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像散光學(xué)輪廓儀的厚度計算模型

激光通過像散拾音器聚焦于樣品表面,反射光由四象限光電探測器(PDIC)接收,通過聚焦誤差信號(FES)與 z 軸位移的非線性關(guān)系(S 曲線)定位上下表面焦點。厚度計算需考慮光的折射效應(yīng),公式為:

bab12b08-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.png

其中,θair= 36.87°為入射角(由物鏡數(shù)值孔徑 NA=0.6 計算得出),ns為樣品折射率。

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S曲線解耦算法

flexfilm

bac85dfa-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpg

存在耦合問題的FES-z軸位移曲線;(b) 由兩條S曲線合成的疊加曲線;(c) 平方誤差和與位移偏移量D?的關(guān)系

對于厚度 < 25 μm 的薄膜,上下表面反射光的 S 曲線會發(fā)生耦合,無法直接分離。本研究提出解耦方法:通過 Matlab 將原始 FES 數(shù)據(jù)擬合為 8 個正弦函數(shù)疊加的曲線Cf(i),并利用同材料厚膜的純凈 S 曲線合成疊加信號Cs(i)。通過計算不同位移偏移量Ds下的均方誤差(SSE),最小值對應(yīng)的Ds即為真實厚度。對于解耦難度極高的薄膜,可引入單點膜厚儀的光譜數(shù)據(jù)優(yōu)化擬合模型,例如通過其測量的折射率ns修正 S 曲線形狀,提升解耦精度。硬件系統(tǒng)設(shè)計:系統(tǒng)采用共振掃描器(頻率1.6 kHz,行程87 μm)提升成像速度,結(jié)合XYZ壓電平臺(行程100 μm)實現(xiàn)三維掃描。FPGA控制器與定制放大器確保信號實時處理。

3

單點厚度測量

flexfilm

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OPP薄膜(厚度55 μm、33 μm、18 μm)的FES-z軸位移曲線

  • 像散光學(xué)輪廓儀結(jié)果:

55 μm 和 33 μm的聚丙烯薄膜(OPP),直接通過 S 曲線線性擬合計算厚度分別為55.2 μm 和 33.4 μm,與共聚焦顯微鏡結(jié)果(53.2 μm 和 32.7 μm)吻合。對18 μmOPP 薄膜,通過解耦算法得到厚度17.4 μm,SSE 最小值對應(yīng)Ds=10.2 μm。

  • 單點膜厚儀交叉驗證:

利用單點膜厚儀對 18 μm OPP 薄膜進行反射光譜測量,通過 Tauc-Lorentz 模型反演厚度為 17.6±0.1 μm,與像散法結(jié)果誤差 < 1.2%。同時,單點膜厚儀測得 OPP 薄膜折射率ns=1.49±0.01,為像散法的折射角計算θs=23.75°提供精確參數(shù),進一步降低厚度計算誤差。

4

3D 成像與光學(xué)特性分析

flexfilm

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(a)上表面高度圖像;(b)下表面高度圖像;(c)上下表面三維圖像;(d)厚度分布圖像

像散光學(xué)輪廓儀對 55 μm OPP 薄膜進行 100 μm×100 μm 區(qū)域掃描,獲取上下表面 3D 圖像,顯示表面顆粒與劃痕缺陷,厚度均勻性為 55.2±0.6 μm。結(jié)合單點膜厚儀對缺陷區(qū)域的光譜分析,可同步獲取局部光學(xué)常數(shù)變化(如缺陷處折射率波動 < 0.03),揭示形貌與光學(xué)性能的關(guān)聯(lián)性。本研究開發(fā)的像散光學(xué)輪廓儀實現(xiàn)了 18–100 μm 透明薄膜的厚度測繪與 3D 成像,結(jié)合單點膜厚儀的光學(xué)干涉技術(shù),進一步覆蓋了 15 nm–70 μm 的薄薄膜測量,形成全尺度表征能力。其中,像散法適用于微米級厚膜的全場掃描,單點膜厚儀則通過光譜分析為薄薄膜測量提供精準(zhǔn)驗證與光學(xué)常數(shù)支持。

FlexFilm單點膜厚儀

flexfilm

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FlexFilm單點膜厚儀是一款專為納米級薄膜測量設(shè)計的國產(chǎn)高精度設(shè)備,采用光學(xué)干涉技術(shù)實現(xiàn)無損檢測,測量精度達±0.1nm,1秒內(nèi)即可完成測試,顯著提升產(chǎn)線效率。

  • 高精度測量:光學(xué)干涉技術(shù),精度±0.1nm,1秒完成測量,提升產(chǎn)線效率。
  • 智能靈活適配:波長覆蓋380-3000nm,內(nèi)置多算法,一鍵切換材料模型。
  • 穩(wěn)定耐用:光強均勻穩(wěn)定(CV<1%)年均維護成本降低60%。
  • 便攜易用:整機<3kg,軟件一鍵操作,無需專業(yè)培訓(xùn)。

像散光學(xué)輪廓儀與FlexFilm單點膜厚儀的協(xié)同應(yīng)用,為透明薄膜的非接觸式測量提供了互補方案,其結(jié)合光學(xué)反射的全場掃描能力與光學(xué)干涉的精準(zhǔn)定量特性,對半導(dǎo)體、光學(xué)器件及生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的薄膜研發(fā)與生產(chǎn)具有重要意義。

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