近日，由中國證券報與南通市人民政府聯(lián)合主辦的 2025 上市公司高質(zhì)量發(fā)展論壇暨第二十七屆上市公司金牛獎頒獎典禮在南通隆重舉行。作為國內(nèi)半導體設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，中微半導體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”，證券代碼：688012）憑借在技術(shù)創(chuàng)新、企業(yè)經(jīng)營及高質(zhì)量發(fā)展等方面的卓越表現(xiàn)，一舉斬獲 “金牛卓越企業(yè)家獎” 與 “新質(zhì)企業(yè)金牛獎” 兩大重量級獎項，成為本屆金牛獎的亮點企業(yè)之一。

中微公司董事長兼總經(jīng)理尹志堯博士憑借在半導體設(shè)備行業(yè)數(shù)十年的深耕積累，帶領(lǐng)公司持續(xù)突破關(guān)鍵技術(shù)壁壘，開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕可覆蓋從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應(yīng)用，開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場占據(jù)領(lǐng)先地位。中微公司已開發(fā)了多種導體和半導體化學薄膜設(shè)備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設(shè)備等，均取得了可喜的進步。此外，公司也在布局光學和電子束量檢測設(shè)備，并開發(fā)多種泛半導體微觀加工設(shè)備。在尹志堯博士的領(lǐng)導推動下，中微公司自2004年成立以來，瞄準世界科技前沿，通過持續(xù)的突破創(chuàng)新，技術(shù)能力已達到國際領(lǐng)先水平，并持續(xù)提質(zhì)增效、精益運營，與客戶及合作伙伴協(xié)作共贏。此次尹志堯博士榮獲 “金牛卓越企業(yè)家獎”，不僅是對他作為行業(yè)領(lǐng)軍者、以企業(yè)家擔當推動產(chǎn)業(yè)自主創(chuàng)新的表彰，也是對中微公司管理團隊卓越領(lǐng)導力的高度肯定。

此外，中微公司還榮獲了“新質(zhì)企業(yè)金牛獎”，彰顯了中微公司在培育新質(zhì)生產(chǎn)力、推動產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級中的突出貢獻。作為半導體高端裝備制造領(lǐng)域的代表性企業(yè)，中微公司始終以技術(shù)創(chuàng)新為核心驅(qū)動力，目前公司產(chǎn)品已覆蓋半導體高端設(shè)備的25%至30%，在研項目涵蓋六大類、二十多款新設(shè)備，新產(chǎn)品開發(fā)周期從過去三至五年縮短至兩年以內(nèi)。未來五到十年，公司計劃通過有機成長與外延拓展相結(jié)合，將產(chǎn)品覆蓋率提升至50%至60%。

上市公司金牛獎是由中國證券報主辦的中國資本市場權(quán)威獎項，創(chuàng)立于1999年，旨在表彰業(yè)績優(yōu)秀、治理規(guī)范的上市公司。中微公司此次雙線獲獎，既是權(quán)威機構(gòu)對公司過往發(fā)展成果的認可，更是對其未來在半導體設(shè)備領(lǐng)域持續(xù)引領(lǐng)創(chuàng)新、推動產(chǎn)業(yè)升級的期待。

今年6月，中微公司還榮獲了“科創(chuàng)金牛獎·高端裝備”獎項。該獎項由中國證券報主辦，旨在表彰在八大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)中具有突出科技含量、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)化能力及成長前景的領(lǐng)軍企業(yè)。

未來，中微公司將瞄準“打造世界級裝備企業(yè)”的戰(zhàn)略目標，不斷加大研發(fā)力度，持續(xù)夯實公司在高端微觀加工設(shè)備領(lǐng)域的核心競爭力，秉承“五個十大”的企業(yè)文化，即“產(chǎn)品開發(fā)十大原則”、“戰(zhàn)略銷售十大準則”、“營運管理十大章法”、“精神文化十大作風”和“領(lǐng)導能力十大要點”，堅持三維立體發(fā)展戰(zhàn)略，堅持有機生長和外延擴展的策略，實現(xiàn)高速、穩(wěn)定、健康和安全的高質(zhì)量發(fā)展，力爭盡早成為高端設(shè)備平臺化公司，在規(guī)模上和競爭力上成為國際一流的半導體設(shè)備公司！

關(guān)于中微半導體設(shè)備（上海）股份有限公司

中微半導體設(shè)備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領(lǐng)先的加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案。中微公司開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括十幾種細分刻蝕設(shè)備已可以覆蓋大多數(shù)刻蝕的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國內(nèi)和國際一線客戶，從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應(yīng)用。中微公司最近十年著重開發(fā)多種導體和半導體化學薄膜設(shè)備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設(shè)備，并取得了可喜的進步。中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備早已在客戶生產(chǎn)線上投入量產(chǎn)，并在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場占據(jù)領(lǐng)先地位。此外，中微公司也在布局光學和電子束量檢測設(shè)備，并開發(fā)多種泛半導體微觀加工設(shè)備。這些設(shè)備都是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，它們正在改變?nèi)祟惖纳a(chǎn)方式和生活方式。