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安森美vGaN技術(shù)解鎖極致功率密度與效率

安森美 ? 來源:安森美 ? 2025-12-17 15:45 ? 次閱讀
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安森美 (onsemi) 的垂直氮化鎵 (vGaN) 晶體管是新一代功率器件,能夠以高頻率處理極高電壓, 效率顯著優(yōu)于傳統(tǒng)的硅芯片。 這項技術(shù)在行業(yè)內(nèi)處于領(lǐng)先水平。 安森美的這個先進設(shè)施占地 66,000 平方英尺, 配備了潔凈室和高度專業(yè)化工具, 專門用于 vGaN 技術(shù)的研發(fā)。

安森美已實現(xiàn)vGaN技術(shù)的規(guī)?;慨a(chǎn)

目前市面上的 GaN 器件通常采用橫向結(jié)構(gòu), 即 GaN 層生長在硅或藍寶石襯底上。 而垂直 GaN 器件的 GaN 層則生長在 GaN 襯底上。這種垂直設(shè)計允許電流直接穿過芯片, 而不是僅在表面流動;與橫向 GaN 器件相比, 它能實現(xiàn)更高的電流密度和工作電壓, 支持的開關(guān)頻率也遠高于硅或碳化硅 (SiC) 器件。 因此, 垂直 GaN 技術(shù)能夠讓電子設(shè)備更加小巧、 輕便且高效, 應(yīng)用場景涵蓋電動汽車 (EV) 充電器、 人工智能數(shù)據(jù)中心、 可再生能源系統(tǒng)等諸多領(lǐng)域。

研究人員對垂直 GaN 技術(shù)的探索已逾 15 年, 如今安森美已實現(xiàn)該技術(shù)的規(guī)?;慨a(chǎn), 推動其進入商用階段。 垂直 GaN 的制造非常復(fù)雜, 需要在塊狀 GaN 襯底上生長厚實且無缺陷的 GaN 層, 工藝難度遠超標準硅器件制造。

要實現(xiàn)這一目標, 需采用精密的外延生長技術(shù), 以及針對垂直架構(gòu)開發(fā)的創(chuàng)新工藝。 安森美擁有 130 多項相關(guān)專利, 涵蓋基礎(chǔ)器件架構(gòu)與加工處理的各個方面。 這項技術(shù)在材料科學(xué)與制造領(lǐng)域極具挑戰(zhàn)性, 難度堪比在人行道寬度的地基上建造摩天大樓。

趣味知識

高精準度: 晶體在高度受控的爐體中高效生長, 原子以每次僅十億分之一米的精度逐層沉積, 實現(xiàn)出色均勻性。 這類爐體的工作溫度超過 1,000°C, 與火山熔巖的溫度相當(dāng)。

晶體力量: 垂直 GaN 源于“晶體力量”:垂直 GaN 構(gòu)建于六方纖鋅礦晶體結(jié)構(gòu)之上,鎵原子和氮原子交替層疊形成六方晶格。與立方結(jié)構(gòu)的硅相比, 這種結(jié)構(gòu)賦予其獨特的電子與光學(xué)特性。

蓋樓技藝: 垂直架構(gòu)就像建造電氣領(lǐng)域的“摩天大樓”, 而不是“單層平房”。 電力可以直接穿過芯片, 而不是僅在芯片表面流動。

微縮奇跡: 堪稱“微縮奇跡”:與市面上的橫向 GaN 器件相比,vGaN 器件尺寸約為前者的三分之一, 可使高端電源系統(tǒng)的尺寸和損耗減少近 50%。 這相當(dāng)于將鞋盒大小的電源轉(zhuǎn)換器壓縮至平裝書尺寸, 實現(xiàn)體積和重量的雙重縮減。

高壓之王: 垂直 GaN 器件能夠承受超過1,200 V 的電壓

vGaN 的應(yīng)用

安森美的 vGaN 技術(shù)能夠在單片芯片中處理 1,200 V 及以上的高電壓, 實現(xiàn)高頻大電流切換, 并保持優(yōu)異效率。 在采用該技術(shù)打造的高端電源系統(tǒng)中, 損耗可降低近 50%。 同時, 由于工作頻率更高, 系統(tǒng)尺寸( 包括電容、 電感等無源元件) 也能相應(yīng)縮減近一半。

此外, 與市面上的橫向 GaN 器件相比, vGaN 器件尺寸約為前者的三分之一。 這一特性使得安森美的 vGaN 器件非常適合用于功率密度、 熱性能和可靠性至關(guān)重要的關(guān)鍵高功率應(yīng)用, 具體包括:

人工智能數(shù)據(jù)中心: 減少元件數(shù)量, 提高 AI 計算系統(tǒng)用800V DC-DC 轉(zhuǎn)換器的功率密度, 助力大幅降低每機架成本

電動汽車: 打造更小巧、 更輕便、 更高效的逆變器, 有助于延長電動汽車續(xù)航里程

充電基礎(chǔ)設(shè)施: 實現(xiàn)更快速、 更小巧、 更耐用的充電器

可再生能源: 太陽能和風(fēng)能逆變器的電壓處理能力更高,能量損耗更低

儲能系統(tǒng) (ESS): 為電池轉(zhuǎn)換器和微電網(wǎng)提供快速、 高效、高密度的雙向電源

工業(yè)自動化: 開發(fā)尺寸更小、 溫升更低、 效率更高的電機驅(qū)動器機器人設(shè)備

航空航天: 支持更高的性能、 更強的耐用性和更緊湊的設(shè)計

隨著全球加速邁向電氣化和 AI 驅(qū)動的未來, 安森美在垂直 GaN 技術(shù)上的突破具有重要意義。 安森美攻克了材料和制造領(lǐng)域長期存在的難題, 開發(fā)出新型超高效率、 高電壓功率器件, 為下一代能源系統(tǒng)提供關(guān)鍵支撐。 從縮小電動汽車充電器尺寸,到以更可持續(xù)的方式為人工智能數(shù)據(jù)中心供電, 垂直 GaN 不僅是一項重大的技術(shù)突破, 更是推動建設(shè)更智能、 更清潔、 全面電氣化世界的戰(zhàn)略性進步。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:承壓超過1200V,安森美vGaN解鎖極致功率密度與效率

文章出處:【微信號:onsemi-china,微信公眾號:安森美】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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