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年終盤點:英飛凌2025年碳化硅領域重磅產(chǎn)品與技術驚艷亮相

英飛凌工業(yè)半導體 ? 2025-12-23 18:04 ? 次閱讀
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歲末將至,回顧2025年科技領域,英飛凌在碳化硅(SiC)賽道成績斐然,憑借一系列創(chuàng)新產(chǎn)品與前沿技術,為行業(yè)發(fā)展注入強勁動力,成為行業(yè)矚目的焦點。小編貼心地按照產(chǎn)品發(fā)布和技術發(fā)布這兩大板塊,給大家挑選部分亮點產(chǎn)品,方便各位看官全方位了解,咱們這就開整!


01

產(chǎn)品發(fā)布:

多元布局,精準覆蓋多領域需求


1

CoolSiC MOSFET G2 1200V和1400V單管:多種封裝組合全面升級,滿足多樣化應用場景

11.8

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CoolSiC MOSFET G2 1200V單管

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CoolSiC MOSFET G2 1400V單管

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2025年,英飛凌推出的CoolSiC MOSFET G2 1200V和1400V單管多種封裝組合,為市場帶來了更多選擇。


CoolSiC 1200V MOSFET(頂部散熱Q-DPAK單管封裝)通過簡化組裝流程并保持卓越的散熱性能,幫助客戶降低系統(tǒng)成本。與底部散熱方案相比,頂部散熱器件可實現(xiàn)更優(yōu)化的PCB布局,從而降低寄生元件和雜散電感的影響,同時提供增強的熱管理性能。適用于電動汽車充電、光伏、不間斷電源(UPS)、固態(tài)斷路器(SSCB)、工業(yè)驅動、人工智能AI)及網(wǎng)聯(lián)自動駕駛汽車(CAV)等領域。


1400V CoolSiC MOSFET G2系列的TO-247以及TO-247 Plus Reflow封裝,產(chǎn)品最低導通電阻可低至6mΩ,性能指標行業(yè)領先。面對高母線電壓應用進行了優(yōu)化設計,能夠輕松適應母線電壓大于1000V的場景,該系列產(chǎn)品的功率管腳加粗至2mm,使得器件能夠承受更大的電流,背板回流焊的設計,提升了產(chǎn)品的可靠性,為高壓電力電子系統(tǒng)提供了可靠的解決方案。

2

EasyPACK C系列碳化硅功率模塊

全新封裝,性能飛躍,引領工業(yè)應用新潮流

11.8

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2025年10月,英飛凌重磅推出EasyPACK C系列封裝碳化硅功率模塊。該模塊集成了英飛凌CoolSiC MOSFET 1200V G2技術,并采用公司專有的.XT互連技術,實現(xiàn)了多項性能突破。功率密度較上一代提升超過30%,使用壽命延長高達20倍,導通電阻(RDS(on))顯著降低約25%。其封裝設計理念不僅提高了功率密度與布局靈活性,更為未來更高電壓等級的產(chǎn)品設計奠定了堅實基礎。


在實際應用中,該模塊表現(xiàn)出色??沙惺芙Y溫(Tvj(over))高達200°C的過載開關工況,搭載全新PressFIT壓接引腳,電流承載能力提升一倍,同時降低PCB板的溫度,并優(yōu)化安裝流程。全新的塑封材質與硅凝膠設計,支持模塊在最高175°C的結溫(Tvj(op))下穩(wěn)定運行,且具備一分鐘內(nèi)耐受3千伏交流電的隔離等級。這些特性使其在快速直流電動汽車(EV)充電、兆瓦級充電、儲能系統(tǒng)以及不間斷電源設備等工業(yè)應用中脫穎而出,成為推動行業(yè)發(fā)展的重要力量。

3

高壓3300V XHP:

高壓大功率領域的“性能王者”

11.8

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英飛凌推出的3.3kV CoolSiC MOSFET XHP2模塊,憑借創(chuàng)新“.XT互連技術”脫穎而出。其額定電流1000A,25°C時導通電阻低至1.9mΩ,支持4kHz高頻開關,顯著降低損耗、提升系統(tǒng)效率。該模塊可靠性升級,采用芯片表面覆銅、銅鍵合線、AlN陶瓷基板及銀燒結技術,熱阻降低30%,瞬態(tài)散熱能力大幅提升。關鍵性能測試超越行業(yè)標準,浪涌電流峰值達10000A,短路耐受3μs安全關斷,功率循環(huán)壽命提升10倍。在軌道交通、風電變流器、工業(yè)驅動等場景優(yōu)勢盡顯,或成高壓應用“黃金選擇”。


02

技術發(fā)布:

前瞻布局,引領行業(yè)技術發(fā)展方向


1

基于200mm晶圓技術的碳化硅產(chǎn)品:提升效率,降低成本,拓展高壓應用新領域

11.8

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2025年第一季度,公司宣布向客戶提供首批基于先進的200mm SiC技術的產(chǎn)品。這些產(chǎn)品在位于奧地利菲拉赫的生產(chǎn)基地制造,將為高壓應用領域提供先進的SiC功率技術,包括可再生能源系統(tǒng)、鐵路運輸和電動汽車等。此外,英飛凌位于馬來西亞居林的生產(chǎn)基地正在從150mm晶圓向直徑更大、更高效的200mm晶圓過渡。新建的第三廠區(qū)將根據(jù)市場需求開始大批量生產(chǎn),為該技術的量產(chǎn)和廣泛應用提供了有力保障。

2

CoolSiC JFET技術:

卓越性能,開啟多領域應用新篇章

11.8

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2025年5月,英飛凌發(fā)布的CoolSiC JFET技術成為行業(yè)關注的焦點。該技術擁有極低的導通損耗、出色的關斷能力和高可靠性,為眾多應用領域帶來了新的解決方案。第一代CoolSiC JFET擁有最低值為1.5mΩ(750 VBDss)/2.3mΩ(1200 VBDss)的超低RDS(ON),采用Q-DPAK頂部散熱封裝,便于并聯(lián),并具備可擴展的電流處理能力。為應對嚴苛應用環(huán)境中的散熱和機械問題,CoolSiC JFET采用.XT互連技術與擴散焊接工藝,從而顯著降低了器件在工業(yè)電力系統(tǒng)中常見的脈沖與循環(huán)負載下的瞬態(tài)熱阻抗,并大幅提升了其可靠性。


在固態(tài)斷路器(SSCB)、AI數(shù)據(jù)中心熱插拔模塊、電子熔斷器、電機軟啟動器、工業(yè)安全繼電器以及汽車電池隔離開關等領域,CoolSiC JFET技術都展現(xiàn)出了巨大的應用潛力。其卓越的性能能夠有效提高設備的穩(wěn)定性和可靠性,降低故障率,為各行業(yè)的安全運行提供有力支持。


2025年,英飛凌在碳化硅領域的產(chǎn)品和技術發(fā)布成果豐碩。從多元的產(chǎn)品布局到前沿的技術創(chuàng)新,英飛凌不斷推動著碳化硅行業(yè)的發(fā)展和進步。未來,英飛凌有望繼續(xù)憑借其強大的研發(fā)實力和創(chuàng)新能力,為全球科技發(fā)展帶來更多驚喜,引領碳化硅行業(yè)邁向新的高度。

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