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功率半導(dǎo)體的N和P摻雜濃度技術(shù)探討

jf_32111697 ? 來源:jf_32111697 ? 作者:jf_32111697 ? 2025-12-26 14:20 ? 次閱讀
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01

導(dǎo)率型號(hào)的符號(hào)上去的, 表示電導(dǎo)型號(hào)的符號(hào)上的, 用來表示摻雜水平。

wKgZPGlOKPCAKp8SAAAAmizAhGE078.pngwKgZO2lOKPCAN7qsAAAGBCiTPKY958.pngwKgZO2lOKPCASEVAAAAAhBG-7_Q927.png

- 和 P

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表示具有比臨近區(qū)域更

wKgZO2lOKPGAJDrOAAABsPSoECk982.pngwKgZO2lOKPCAc4VRAAAEAHV3iHA668.png

摻雜水平的N和P層N+ 和 pr 表示具有比臨近區(qū)域更

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摻雜水平的N和P層

wKgZO2k420qAHgaGAAAAXS6lF9Y249.png

02

N- 典型摻雜范圍 1012~1014/cm3

wKgZO2k420qAHgaGAAAAXS6lF9Y249.png

P- 典型摻雜范圍 1012~1014/cm3

03

N 典型摻雜范圍 1015~1018/cm3

wKgZO2k420qAHgaGAAAAXS6lF9Y249.png

P 典型摻雜范圍 1015~1018/cm3

wKgZO2k420qAHgaGAAAAXS6lF9Y249.png

041

wKgZPGlOKPGAF3kCAAAHA23KjWk334.png

N+ 典型摻雜范圍 1019~1021/cm3

P+ 典型摻雜范圍 1019~1021/cm3

wKgZO2lOKPGAQc9ZAAA0OMBoEP0034.pngwKgZO2k420qAIcaGAAAAWrjG5DY625.png

一個(gè)功率器件在其內(nèi)部包含有一個(gè)弱摻雜N-區(qū)域

重?fù)诫sN++和P++層接近金屬化表面


審核編輯 黃宇

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