村 田 制 作 所 （ Murata Manufacturing ） 在 2025 年 對 卓 勝 微 電 子 （ Maxscend Microelectronics）提起的專利訴訟，并非一場僅限于單一司法轄區(qū)或孤立技術(shù)點(diǎn)的常規(guī)侵權(quán) 糾紛?？梢钥醋魇且粓鲈诒∧け砻媛暡ǎ═hin-Film Surface Acoustic Wave，TF-SAW）技 術(shù)領(lǐng)域具有結(jié)構(gòu)性意義的正面沖突。該訴訟橫跨中國、韓國與德國三大司法轄區(qū)，幾乎觸及 TF-SAW 技術(shù)體系中的每一個關(guān)鍵層級。

從被主張專利的選擇方式，到訴訟在不同國家的推進(jìn)順序，該案件清晰地反映出村田長期以來 形成并反復(fù)實(shí)踐的全球化知識產(chǎn)權(quán)（IP）執(zhí)法戰(zhàn)略。這一戰(zhàn)略正面指向一家快速成長的中國射 頻前端廠商卓勝微，而后者的 TF-SAW 技術(shù)能力，已隨著其 MAX-SAW 產(chǎn)品的推出進(jìn)入商業(yè) 化成熟階段。

爭議專利：多層級 TF-SAW 保護(hù)框架

圖 1 匯總了村田在中國、韓國及歐洲針對卓勝微主張的 8 項(xiàng)專利，并同時列出了這些專利在主 要司法轄區(qū)，包括中國（CN）、韓國（KR）、歐洲（EP）、美國（US）及日本（JP）中已 獲得授權(quán)的同族成員。第一眼最引人注目的，并不僅僅是被主張專利的數(shù)量，而是這些專利在 不同技術(shù)抽象層級上的系統(tǒng)性分布。

該專利組合并未集中于某一個單一器件特征或某一具體制造工藝細(xì)節(jié)；相反，它橫跨 TF-SAW 疊層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、諧振器級橫向模態(tài)工程，以及完整濾波器系統(tǒng)架構(gòu)。這種分布方式清楚地體現(xiàn) 出一種刻意構(gòu)建的分層式專利保護(hù)策略。

時間線與地理范圍：三大司法轄區(qū)的八項(xiàng)專利

本次糾紛最早在中國與韓國浮出水面。2025 年 4 月 11 日，卓勝微披露，其已收到村田分別 向首爾中央地方法院和上海知識產(chǎn)權(quán)法院提起的專利侵權(quán)訴訟。

在韓國，最初披露的被主張專利為 KR10-2142866。在中國，村田主張了四項(xiàng)已授權(quán)的發(fā)明專 利，分別為：CN105814794、CN107112975、CN107615654 以及 CN107852145。

2025 年 11 月，村田將爭議進(jìn)一步擴(kuò)展至歐洲。11 月 20 日，卓勝微披露，其已被慕尼黑第 一地方法院正式送達(dá)起訴狀。村田在德國針對一款在當(dāng)?shù)劁N售的濾波器產(chǎn)品主張 EP3007358 專利，并請求法院判令停止侵權(quán)、實(shí)施產(chǎn)品召回，案件標(biāo)的金額約為 100 萬歐元。

與此同時，卓勝微還公開確認(rèn)，村田在韓國另行主張了兩項(xiàng)專利：KR10-2515732 與 KR10- 2294237。連同此前的 KR10-2142866，被明確點(diǎn)名的韓國被訴專利數(shù)量達(dá)到三項(xiàng)。

因此，在專利層面，本次糾紛共涉及 4 項(xiàng)中國專利、3 項(xiàng)韓國專利以及 1 項(xiàng)歐洲專利，且這些 專利均屬于具有國際延展布局的專利家族。

共同的技術(shù)焦點(diǎn)：TF-SAW 中的橫模與高階模

盡管各司法轄區(qū)的法律環(huán)境與權(quán)利要求書結(jié)構(gòu)存在差異，但這些被主張專利在技術(shù)目標(biāo)上高度 一致。它們?nèi)炕?LiTaO?/Si 疊層的 TF-SAW 平臺，且往往引入 SiO? 等低聲速中間層，共 同指向高頻、寬帶射頻應(yīng)用中長期存在的兩大核心問題：橫向模態(tài)（transverse modes）與 高階模態(tài)（higher-order modes）。

橫模沿器件孔徑方向形成，表現(xiàn)為橫向駐波模式，會顯著破壞通帶平坦度并增加插入損耗；高 階模則源于 TF-SAW 多層疊層結(jié)構(gòu)的固有特性，當(dāng)其諧振頻率逼近工作頻段時，容易產(chǎn)生尖 銳而強(qiáng)烈的雜散響應(yīng)。村田所主張的這些專利，從結(jié)構(gòu)、材料到系統(tǒng)層級，對上述問題施加了 多重設(shè)計(jì)約束。

中國訴訟專利：諧振器形態(tài)塑造與疊層約束

四項(xiàng)中國專利代表了對 TF-SAW 設(shè)計(jì)空間進(jìn)行控制的多種互補(bǔ)路徑。

CN105814794 提出在 LiTaO? 薄膜上采用**微傾斜的叉指換能器（IDT）結(jié)構(gòu)，通過引入一個 較小的傾斜角度，破壞橫向駐波形成的條件。

CN107112975 通過將活塞型電極幾何結(jié)構(gòu)與分段式母線（segmented busbar）相結(jié)合，在 器件孔徑方向上構(gòu)建受控的聲速分布區(qū)域，從而實(shí)現(xiàn)對橫向聲場的精細(xì)塑形。

CN107615654 將上述諧振器層面的控制手段進(jìn)一步擴(kuò)展至完整濾波器架構(gòu)，具體應(yīng)用于縱向 耦合型濾波器與梯形濾波器設(shè)計(jì)之中。

CN107852145 則從更基礎(chǔ)的物理層面出發(fā)，對 LiTaO?/Si 疊層中的高階模速度施加明確約束。 該專利通過材料常數(shù)與晶體取向推導(dǎo)出一個硅體波參考速度，并要求第一高階模滿足特定的速 度條件，從而為旨在抑制雜散響應(yīng)的疊層設(shè)計(jì)建立了一條可計(jì)算、可驗(yàn)證的邊界。

韓國訴訟專利：從質(zhì)量加載到參數(shù)化設(shè)計(jì)空間

三項(xiàng)被主張的韓國專利在上述思想基礎(chǔ)上進(jìn)一步深化。

KR10-2142866 聚焦于通過質(zhì)量加載（mass loading）實(shí)現(xiàn)橫?？刂疲?IDT 孔徑方向上明 確劃分中心區(qū)域、低聲速區(qū)域與高聲速區(qū)域，并對歸一化薄膜厚度與質(zhì)量密度乘積設(shè)置定量上 限。這一做法使橫?？刂茝拈_放式的經(jīng)驗(yàn)調(diào)參，轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂忻鞔_邊界的設(shè)計(jì)規(guī)則。

KR10-2294237 在疊層層面復(fù)現(xiàn)并強(qiáng)化了 CN107852145 中提出的高階模速度約束，在韓國 司法轄區(qū)內(nèi)確立了相同的物理設(shè)計(jì)邊界。

KR10-2515732 則將該思路擴(kuò)展為一個多參數(shù)設(shè)計(jì)框架，將歸一化厚度、材料密度以及晶體取 向等參數(shù)整合為一個雜散響應(yīng)指數(shù)，并為該指數(shù)設(shè)定明確閾值。通過這一系列專利，TF-SAW 的可行設(shè)計(jì)空間被不斷壓縮并形式化。

歐洲訴訟專利：系統(tǒng)層面的橫向差異化設(shè)計(jì)


在德國被主張的 EP3007358 專利，將 TF-SAW 的橫模問題提升至濾波器系統(tǒng)層級進(jìn)行處理。 該專利針對梯形濾波器結(jié)構(gòu)，強(qiáng)調(diào)串聯(lián)諧振器與并聯(lián)諧振器中低聲速區(qū)域?qū)挾葢?yīng)彼此不同。

通過在不同諧振器之間有意引入橫向特性的差異，可以將橫模諧振分散到不同頻率位置，從而 避免雜散響應(yīng)在通帶內(nèi)集中出現(xiàn)。這一設(shè)計(jì)思路標(biāo)志著橫?？刂茝膯蝹€諧振器層面，轉(zhuǎn)向系統(tǒng) 級協(xié)同架構(gòu)設(shè)計(jì)。


卓勝微 RF 與 TF-SAW 專利軌跡：自 2021 年以來加速

要理解本次訴訟的產(chǎn)業(yè)背景，必須先審視卓勝微自身的知識產(chǎn)權(quán)發(fā)展路徑。圖 2 展示了卓勝微 在射頻前端模塊及相關(guān)器件領(lǐng)域的專利公開時間線。

數(shù)據(jù)顯示，大約從 2021 年開始出現(xiàn)明顯拐點(diǎn)。在此之前，卓勝微的專利活動相對有限且分布 零散；而自 2021 年起，公司進(jìn)入明顯的加速創(chuàng)新階段，專利申請數(shù)量與新專利家族數(shù)量均出 現(xiàn)顯著增長。這一變化與其向更高集成度射頻前端解決方案及更高頻應(yīng)用領(lǐng)域推進(jìn)的整體戰(zhàn)略 高度一致。

Knowmade 的分析顯示，在卓勝微目前 217 個 RF 專利家族中，有 25 個專利家族直接涉及 TF-SAW 技術(shù)。這一數(shù)量并非邊緣嘗試，而清楚表明 TF-SAW 已成為卓勝微射頻技術(shù)路線中的核心支柱之一。值得注意的是，其中已有 5 個 TF-SAW 相關(guān)專利家族在中國獲得授權(quán)，為 卓勝微在國內(nèi)市場提供了可執(zhí)行的知識產(chǎn)權(quán)基礎(chǔ)。

然而，將這一專利組合與村田的 TF-SAW 專利版圖進(jìn)行對比，差距仍然十分明顯。根據(jù) Knowmade 的統(tǒng)計(jì)，村田在全球范圍內(nèi)擁有 230 余個 TF-SAW 相關(guān)專利家族，這一數(shù)量不 僅遠(yuǎn)超卓勝微在 TF-SAW 領(lǐng)域的專利儲備，甚至超過卓勝微在所有 RF 技術(shù)領(lǐng)域的專利家族總 數(shù)。這種差距不僅體現(xiàn)在數(shù)量上，更反映了村田在薄膜聲波平臺上數(shù)十年的持續(xù)研發(fā)投入與早期戰(zhàn)略布局。

圖 3 從地域分布與法律狀態(tài)角度，進(jìn)一步刻畫了卓勝微的 IP 位置。其專利組合高度集中于中 國，通過 PCT 路徑進(jìn)行國際延展的比例有限，在美國、韓國等關(guān)鍵司法轄區(qū)的直接布局相對 稀疏。從法律狀態(tài)來看，已授權(quán)專利與在審申請數(shù)量大致相當(dāng)，反映出一家仍在將近年研發(fā)成 果逐步轉(zhuǎn)化為可執(zhí)行 IP 權(quán)利的企業(yè)。

與此形成鮮明對比的是村田的 IP 戰(zhàn)略。其 TF-SAW 專利在主要射頻市場覆蓋的各大司法轄區(qū) 中均已廣泛布局并獲得授權(quán)，使其能夠開展高度協(xié)同的跨國執(zhí)法行動。正因如此，村田才能幾 乎同步在上海、首爾與慕尼黑提起訴訟，分別指向制造端、區(qū)域市場以及歐洲下游銷售渠道。

盡管如此，卓勝微的 IP 實(shí)力同樣不容低估。根據(jù) Knowmade RF Front-End Modules & Components Patent Monitor，村田長期穩(wěn)居全球最活躍的射頻專利權(quán)人之列；而卓勝微 雖然總體規(guī)模較小，卻已迅速成長為中國 RF 領(lǐng)域中最具活力的企業(yè)之一。以新增專利家族數(shù)量與首次獲得授權(quán)的專利家族數(shù)量為綜合指標(biāo)，卓勝微在 2025 年第三季度躋身全球 RF 企業(yè) 專利活動 前 20 名，這表明其已進(jìn)入全球競爭性 IP 體系的核心層，而非邊緣地帶。

訴訟的結(jié)構(gòu)性影響

因此，村田與卓勝微之間的爭議已遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出單純的侵權(quán)認(rèn)定或?qū)＠行詥栴}。從結(jié)構(gòu)層面看， 該案件暴露出后進(jìn)入 TF-SAW 技術(shù)領(lǐng)域的企業(yè)在依賴主流材料體系和既定設(shè)計(jì)范式時所面臨 的系統(tǒng)性脆弱性。村田的專利組合在事實(shí)上對 基于 LiTaO?/Si 的傳統(tǒng) TF-SAW 設(shè)計(jì)空間形成 了圍堵，尤其是在寬帶、高頻應(yīng)用場景中更為明顯。

對于卓勝微而言，短期內(nèi)的應(yīng)對手段包括專利無效程序、權(quán)利要求解釋以及有針對性的設(shè)計(jì)規(guī) 避。然而，從長期視角看，其影響更具戰(zhàn)略性。隨著 TF-SAW 技術(shù)逐漸趨于成熟、專利密度 不斷提升，真正的自由實(shí)施空間將越來越依賴于差異化技術(shù)路徑，例如替代性壓電材料、不同 聲學(xué)工作模式、混合 BAW/XBAR 方案，或更高層級的系統(tǒng)架構(gòu)與封裝創(chuàng)新。

從產(chǎn)業(yè)角度來看，這場訴訟構(gòu)成了一個極具代表性的案例，展示了成熟射頻巨頭如何依托深厚 且全球同步的專利組合來捍衛(wèi)技術(shù)領(lǐng)先地位，同時也揭示了高速成長的挑戰(zhàn)者在快速創(chuàng)新與既 有 IP 格局約束之間所必須面對的現(xiàn)實(shí)權(quán)衡。


結(jié)論

村田與卓勝微之間的 TF-SAW 專利訴訟，最恰當(dāng)?shù)慕庾x方式并非將其視為一場孤立的法律沖 突，而應(yīng)理解為兩個不同產(chǎn)業(yè)成熟階段之間的正面碰撞。村田的執(zhí)法行動體現(xiàn)了其圍繞薄膜聲 波物理機(jī)理、器件結(jié)構(gòu)與系統(tǒng)架構(gòu)所積累的數(shù)十年知識產(chǎn)權(quán)成果；而卓勝微的應(yīng)對，則體現(xiàn)了一代新興射頻供應(yīng)商在近年顯著加速的創(chuàng)新雄心。

隨著 TF-SAW 技術(shù)持續(xù)成為下一代射頻前端模塊的關(guān)鍵基礎(chǔ)，這場訴訟的最終走向及其所揭 示的戰(zhàn)略經(jīng)驗(yàn)，勢必將超越當(dāng)事雙方本身，對未來進(jìn)入這一高度專利密集領(lǐng)域的企業(yè)產(chǎn)生深遠(yuǎn) 影響。