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面板制造廠商正在檢討繼Notch之后應(yīng)用挖孔設(shè)計的新一代全面屏設(shè)計

XcgB_CINNO_Crea ? 來源:未知 ? 作者:李倩 ? 2018-11-19 14:11 ? 次閱讀
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作為智能手機(jī)的新一代全面屏設(shè)計,凹槽(Notch)之后在面板上鉆孔的Hole(挖孔)設(shè)計正在受到關(guān)注。挖孔設(shè)計可實(shí)現(xiàn)將智能手機(jī)的正面最大化作為顯示屏利用的全面屏。然而因工程難度高,克服技術(shù)難關(guān)成為一大課題。

根據(jù)11月14日業(yè)界消息,面板制造廠商正在檢討繼Notch之后應(yīng)用挖孔設(shè)計的新一代全面屏設(shè)計。但是,因?yàn)樾枰黾幽壳八鶝]有的制程,應(yīng)用在柔性OLED上技術(shù)難度高,能夠商用化的日程還很難確定。

Notch設(shè)計作為全面屏智能手機(jī)設(shè)計,由蘋果最先推出。因?yàn)樵谕恢悄苁謾C(jī)尺寸上,可以拓寬顯示屏利用面積,在今年的全球智能手機(jī)市場上成為最潮流設(shè)計。

業(yè)界把挖孔(Hole)設(shè)計看作新一代的設(shè)計。Notch在智能手機(jī)上呈現(xiàn)出“M”的字樣,但是Hole設(shè)計是在面板上鉆一個小孔的形狀。華為在Mate 20上雖然應(yīng)用了Notch設(shè)計變形的半圓(Semi-circle) Notch,但是與Hole形成技術(shù)不同。

通過Hole設(shè)計的優(yōu)勢是可將顯示屏占比變得更大。目前Notch設(shè)計將畫面比從18.7:9擴(kuò)大到19:9。應(yīng)用Hole設(shè)計后畫面比將擴(kuò)大至19.5:9。Galaxy S9可實(shí)現(xiàn)85.3%的屏占比,若采用Hole設(shè)計的話,這個占比將更高。

三星SDC活動中公開的Notch設(shè)計Roadmap

采用Hole設(shè)計最大的障礙是制程技術(shù)。業(yè)界評價稱Notch結(jié)構(gòu)僅通過目前的設(shè)備和技術(shù)即可實(shí)現(xiàn),應(yīng)用起來并不困難。實(shí)際上Notch結(jié)構(gòu)在柔性和硬性O(shè)LED,LTPS LCD上迅速被擴(kuò)散和應(yīng)用。雖然采用Notch會存在良率降低的缺點(diǎn),但被認(rèn)為是目前智能手機(jī)市場的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計。

而業(yè)界認(rèn)為采用Hole設(shè)計的HIAA(Hole in Active Area)結(jié)構(gòu)相比Notch技術(shù)壁壘更高。因?yàn)闉榱嗽贠LED蒸鍍和薄膜封裝(TFE)之間需要增加激光鉆孔制程,在In-line形態(tài)組成的目前的工廠上增加新的制程比較苛刻。需要配置新的設(shè)備,生產(chǎn)線流向也會發(fā)生變更,并且也要考慮到產(chǎn)線內(nèi)的空間利用度。

相比Rigid OLED,在Flexible OLED上應(yīng)用Hole設(shè)計只會更加困難。在Rigid OLED上應(yīng)用HIAA結(jié)構(gòu),只需要利用激光挖孔去除掉有機(jī)材料或?qū)⒉AЩ搴筒牧弦煌コ?,?jīng)過玻璃封裝工程即可。

而Flexible OLED需要同時去除掉薄膜封裝和PI基板,難度更高一籌。因?yàn)榧す獠们泻蟮亩嗣鏁┞对谒趾脱鯕馍希枰砑恿硗獾慕Y(jié)構(gòu)。

業(yè)界專家認(rèn)為,在LTPS LCD上雖然可應(yīng)用Notch設(shè)計,但Hole設(shè)計因?yàn)橐幚碜鳛長CD特征的背光(Backlight)問題,并非易事。Notch設(shè)計商用化已經(jīng)過去一年,為了新的挖孔設(shè)計,額外的投資對面板廠來說成為負(fù)擔(dān)。

業(yè)界一位相關(guān)人士稱“預(yù)計Hole設(shè)計的商用化時期為明年下半年,但因額外的投資費(fèi)和技術(shù)難度等問題目前還不能確定?!?,并稱“雖然配置新的產(chǎn)線是最有效率的,但最近行業(yè)停滯,面板廠業(yè)績不佳,是否添加新的投資需要再觀察。”

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標(biāo)題:OLED | 挖孔設(shè)計需增加激光鉆孔制程,商用化最快明年下半量產(chǎn)

文章出處:【微信號:CINNO_CreateMore,微信公眾號:CINNO】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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