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如何刻畫數(shù)據(jù)的本質(zhì)?流形學(xué)習(xí)能幫到你

格創(chuàng)東智 ? 2019-04-28 19:08 ? 次閱讀
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在格物匯之前的文章中,我們系統(tǒng)性的介紹了特征抽取的經(jīng)典算法——主成分分析PCA與線性判別分析LDA的原理、應(yīng)用場景,以及這兩種算法的局限性和改進(jìn)方法。今天的格物匯要給大家介紹一種新的機(jī)器學(xué)習(xí)算法——流形學(xué)習(xí)。


流形學(xué)習(xí)


流形學(xué)習(xí)是一類借鑒了拓?fù)淞餍胃拍畹慕稻S方法,與核PCA的目的一樣,它想要在低維空間中盡量保持在高維空間中的結(jié)構(gòu)。一個(gè)形象的流形降維過程如下圖,我們有一塊卷起來的布,我們希望將其展開到一個(gè)二維平面,我們希望展開后的布能夠在局部保持布結(jié)構(gòu)的特征,其實(shí)也就是將其展開的過程,就像兩個(gè)人將其拉開一樣。


圖1.jpg


流形學(xué)習(xí)方法有很多種,但是他們具有一些共同的特征:首先構(gòu)造流形上樣本點(diǎn)的局部鄰域結(jié)構(gòu),然后用這些局部鄰域結(jié)構(gòu)來將樣本點(diǎn)全局的映射到一個(gè)低維空間。它們之間的不同之處主要是在于構(gòu)造的局部鄰域結(jié)構(gòu)不同,以及利用這些局部鄰域結(jié)構(gòu)來構(gòu)造全局的低維嵌入方法的不同。下面我們簡要介紹兩種最常見的流形學(xué)習(xí)方法:Isomap和LLE。

Isomap


高維數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)可能太過于抽象,很難去理解。我們先來看一個(gè)具體的實(shí)例:在上一篇文章中,我們所看到的三維空間上的數(shù)據(jù)是呈現(xiàn)”S”型,假設(shè)我們想尋找圖中兩點(diǎn)的測地距離(延曲面距離),就不能用這兩點(diǎn)坐標(biāo)所計(jì)算的歐式距離,如下圖(a)黑色線所示,因?yàn)楹谏€所構(gòu)成的路徑延曲面不可達(dá)。而應(yīng)該使用其沿著“S”形曲面所生成的距離,想象一下一只螞蟻在數(shù)據(jù)曲面上爬行,它不能脫離曲面行走,行走的路徑如下圖(a)紅色線所示。下圖(b)則顯示的是兩條線本真二維結(jié)構(gòu)上所顯示的路徑,很明顯紅色的線更加真實(shí)的反映了兩個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)在三維數(shù)據(jù)上的距離。

圖2.jpg


上述這種尋找數(shù)據(jù)曲面測算距離的方法稱為Isomap(等度量映射),它是流形學(xué)習(xí)中的一種方法。它是如何實(shí)現(xiàn)的呢?它假設(shè)數(shù)據(jù)點(diǎn)與K個(gè)最近鄰的點(diǎn)可以構(gòu)成一個(gè)子集,這個(gè)子集可以用普通的歐式距離來衡量,而這個(gè)子集中的點(diǎn)又與其他子集中的點(diǎn)相連,這樣兩個(gè)目標(biāo)點(diǎn)的距離就可以分解成若干子集的歐式距離疊加來近似得到,最后這些相連的點(diǎn)可以降維到低維空間中展現(xiàn)出來。


圖3.jpg



局部線性嵌入(LLE)

流形學(xué)習(xí)另外一個(gè)典型案例是局部線性嵌入(LLE)。Isomap假設(shè)近鄰的測地距離可以用歐式距離來表示。而LLE則假設(shè)在近鄰內(nèi)可以用線性加權(quán)互相表達(dá)。比如對于任意一個(gè)樣本x0,我們都可以用他附近的幾個(gè)點(diǎn)x1 x2 x3 x4的線性組合表示出來,即

圖4.jpg

經(jīng)過LLE降維投影后,原來的點(diǎn)x0 x1 x2 x3 x4,投影變成了

圖5.jpg

LLE降維的想法是,降維后盡量去保留高維時(shí)的線性組合關(guān)系:

圖6.jpg

圖7.jpg


如何求解呢?我們需要先求出線性組合的權(quán)重w,對于樣本x0我們需要找到其最近的k個(gè)其他樣本點(diǎn),假設(shè)為x1 x2 x3 x4,我們根據(jù)線性表示誤差最小來求出w:

圖8.jpg

根據(jù)上式確定出線性組合的w以后,我們還需要讓其在低維空間也能盡可能滿足線性組合的表達(dá)關(guān)系式,也就是說對于x0 x1 x2 x3 x4……的低維投影點(diǎn)z0 z1 z2 z3 z4……滿足:

圖9.jpg

兩個(gè)優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)類型很像,但需要明確的是第一個(gè)目標(biāo)函數(shù)優(yōu)化的是權(quán)重w,而第二個(gè)目標(biāo)函數(shù)優(yōu)化的是降維后的坐標(biāo)z。經(jīng)過優(yōu)化即可得出樣本集在低維空間上的投影坐標(biāo)。

總的來說,對于不在某一個(gè)點(diǎn)x0鄰域內(nèi)的其他點(diǎn)A,不管A怎么變動(dòng),都不會(huì)影響到點(diǎn)x0,這種變動(dòng)局部限制的思想在很多地方都有用,此外LLE盡可能的保存了局部線性信息,使得其在局部能反映出數(shù)據(jù)原本的結(jié)構(gòu)。它的流程大致如下圖所示:

圖10.jpg

小結(jié)


LLE是廣泛使用的圖形圖像降維方法,它實(shí)現(xiàn)簡單,但是對數(shù)據(jù)的流形分布特征有嚴(yán)格的要求。比如不能是閉合流形,不能是稀疏的數(shù)據(jù)集,不能是分布不均勻的數(shù)據(jù)集等等,這限制了它的應(yīng)用。

優(yōu)點(diǎn)

1、可以學(xué)習(xí)任意維的局部線性的低維流形

2、算法歸結(jié)為稀疏矩陣特征分解,計(jì)算復(fù)雜度相對較小,實(shí)現(xiàn)容易

缺點(diǎn)

1、算法所學(xué)習(xí)的流行只能是不閉合的,且樣本集是稠密均勻的

2、算法對最近鄰樣本數(shù)的選擇敏感,不同的最近鄰數(shù)對最后的降維結(jié)果有很大影響

好了,以上就是本期格物匯的內(nèi)容,我們下期見。


本文作者:格創(chuàng)東智OT團(tuán)隊(duì)(轉(zhuǎn)載請注明作者及來源)

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