GlobalFoundries、Infineon、IBM、ST的印度晶圓計劃
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漢鑫科技與IBM落地AI深耕計劃
今天,山東漢鑫科技股份有限公司(此后簡稱“漢鑫科技”)和 IBM 中國正式宣布,將在山東煙臺落地 IBM “AI 深耕計劃”,為中國企業(yè)的智能化轉(zhuǎn)型和全球化運營提供安全、靈活、定制化的企業(yè)級技術(shù)方案和咨詢服務。
2025-12-09 17:44:55
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664半導體行業(yè)晶圓轉(zhuǎn)移清洗為什么需要特氟龍晶圓夾和花籃?
在半導體芯片的精密制造流程中,晶圓從一片薄薄的硅片成長為百億晶體管的載體,需要經(jīng)歷數(shù)百道工序。在半導體芯片的微米級制造流程中,晶圓的每一次轉(zhuǎn)移和清洗都可能影響最終產(chǎn)品良率。特氟龍(聚四氟乙烯)材質(zhì)
2025-11-18 15:22:31
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晶圓清洗的核心原理是什么?
晶圓清洗的核心原理是通過 物理作用、化學反應及表面調(diào)控的協(xié)同效應 ,去除晶圓表面的顆粒、有機物、金屬離子及氧化物等污染物,同時確保表面無損傷。以下是具體分析: 一、物理作用機制 超聲波與兆聲波清洗
2025-11-18 11:06:19
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200馬蘭戈尼干燥原理如何影響晶圓制造
馬蘭戈尼干燥原理通過獨特的流體力學機制顯著提升了晶圓制造過程中的干燥效率與質(zhì)量,但其應用也需精準調(diào)控以避免潛在缺陷。以下是該技術(shù)對晶圓制造的具體影響分析:正面影響減少水漬污染與殘留定向回流機制:利用
2025-10-15 14:11:06
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瑞樂半導體——AVLS無線校準測量晶圓系統(tǒng)發(fā)現(xiàn)制造設(shè)備微小振動和水平偏差 #晶圓制造過程 #晶圓檢測 #晶圓
晶圓
瑞樂半導體發(fā)布于 2025-09-23 21:26:47


再生晶圓和普通晶圓的區(qū)別
再生晶圓與普通晶圓在半導體產(chǎn)業(yè)鏈中扮演著不同角色,二者的核心區(qū)別體現(xiàn)在來源、制造工藝、性能指標及應用場景等方面。以下是具體分析:定義與來源差異普通晶圓:指全新生產(chǎn)的硅基材料,由高純度多晶硅經(jīng)拉單晶
2025-09-23 11:14:55
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晶圓厚度翹曲度測量系統(tǒng)
WD4000晶圓厚度翹曲度測量系統(tǒng)兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數(shù)據(jù)更準確。它通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV
2025-08-25 11:29:30
晶圓顯微形貌測量系統(tǒng)
WD4000晶圓顯微形貌測量系統(tǒng)通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。WD4000晶圓顯微
2025-08-20 11:26:59
晶圓膜厚測量系統(tǒng)
WD4000晶圓膜厚測量系統(tǒng)通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。WD4000晶圓膜厚測量
2025-08-12 15:47:19
聚氨酯研磨墊磨損狀態(tài)與晶圓 TTV 均勻性的退化機理及預警
摘要
本文圍繞半導體晶圓研磨工藝,深入剖析聚氨酯研磨墊磨損狀態(tài)與晶圓 TTV 均勻性的退化關(guān)系,探究其退化機理,并提出相應的預警方法,為保障晶圓研磨質(zhì)量、優(yōu)化研磨工藝提供理論與技術(shù)支持。
引言
在
2025-08-05 10:16:02
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晶圓制造中的退火工藝詳解
退火工藝是晶圓制造中的關(guān)鍵步驟,通過控制加熱和冷卻過程,退火能夠緩解應力、修復晶格缺陷、激活摻雜原子,并改善材料的電學和機械性質(zhì)。這些改進對于確保晶圓在后續(xù)加工和最終應用中的性能和可靠性至關(guān)重要。退火工藝在晶圓制造過程中扮演著至關(guān)重要的角色。
2025-08-01 09:35:23
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格羅方德推出GlobalShuttle多項目晶圓服務
格羅方德(GlobalFoundries)推出GlobalShuttle多項目晶圓(multi-project wafer, MPW),計劃通過將多個芯片設(shè)計項目集成于同一片晶圓上,助力客戶將差異化芯片設(shè)計轉(zhuǎn)化為實際產(chǎn)品,同時無需承擔測試硅片的成本限制。
2025-07-26 15:27:04
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945晶圓清洗工藝有哪些類型
晶圓清洗工藝是半導體制造中的關(guān)鍵步驟,用于去除晶圓表面的污染物(如顆粒、有機物、金屬離子和氧化物),確保后續(xù)工藝(如光刻、沉積、刻蝕)的良率和器件性能。根據(jù)清洗介質(zhì)、工藝原理和設(shè)備類型的不同,晶圓
2025-07-23 14:32:16
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晶圓清洗機怎么做晶圓夾持
晶圓清洗機中的晶圓夾持是確保晶圓在清洗過程中保持穩(wěn)定、避免污染或損傷的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。以下是晶圓夾持的設(shè)計原理、技術(shù)要點及實現(xiàn)方式: 1. 夾持方式分類 根據(jù)晶圓尺寸(如2英寸到12英寸)和工藝需求,夾持
2025-07-23 14:25:43
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928不同晶圓尺寸清洗的區(qū)別
不同晶圓尺寸的清洗工藝存在顯著差異,主要源于其表面積、厚度、機械強度、污染特性及應用場景的不同。以下是針對不同晶圓尺寸(如2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸等)的清洗區(qū)別及關(guān)鍵要點:一、晶圓
2025-07-22 16:51:19
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晶圓制造中的WAT測試介紹
Wafer Acceptance Test (WAT) 是晶圓制造中確保產(chǎn)品質(zhì)量和可靠性的關(guān)鍵步驟。它通過對晶圓上關(guān)鍵參數(shù)的測量和分析,幫助識別工藝中的問題,并為良率提升提供數(shù)據(jù)支持。在芯片項目的量產(chǎn)管理中,WAT是您保持產(chǎn)線穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量的重要工具。
2025-07-17 11:43:31
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2774晶圓厚度THK幾何量測系統(tǒng)
WD4000晶圓厚度THK幾何量測系統(tǒng)兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數(shù)據(jù)更準確。它通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV
2025-07-10 13:42:33
超薄晶圓切割:振動控制與厚度均勻性保障
超薄晶圓因其厚度極薄,在切割時對振動更為敏感,易影響厚度均勻性。我將從分析振動對超薄晶圓切割的影響出發(fā),探討針對性的振動控制技術(shù)和厚度均勻性保障策略。
超薄晶圓(
2025-07-09 09:52:03
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On Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng)
On Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng)通過自主研發(fā)的核心技術(shù)將傳感器嵌入晶圓集成,實時監(jiān)控和記錄晶圓在制程過程中的溫度變化數(shù)據(jù),為半導體制造過程提供一種高效可靠的方式來監(jiān)測和優(yōu)化關(guān)鍵
2025-06-27 10:37:30
晶圓載具清洗機 確保晶圓純凈度
在半導體制造的精密流程中,晶圓載具清洗機是確保芯片良率與性能的關(guān)鍵設(shè)備。它專門用于清潔承載晶圓的載具(如載具、花籃、托盤等),避免污染物通過載具轉(zhuǎn)移至晶圓表面,從而保障芯片制造的潔凈度與穩(wěn)定性。本文
2025-06-25 10:47:33
晶圓厚度測量設(shè)備
WD4000晶圓厚度測量設(shè)備兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數(shù)據(jù)更準確。它通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV,BOW
2025-06-18 15:40:06
晶圓邊緣 TTV 測量的意義和影響
摘要:本文探討晶圓邊緣 TTV 測量在半導體制造中的重要意義,分析其對芯片制造工藝、器件性能和生產(chǎn)良品率的影響,同時研究測量方法、測量設(shè)備精度等因素對測量結(jié)果的作用,為提升半導體制造質(zhì)量提供理論依據(jù)
2025-06-14 09:42:58
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晶圓清洗設(shè)備概述
晶圓經(jīng)切割后,表面常附著大量由聚合物、光致抗蝕劑及蝕刻雜質(zhì)等組成的顆粒物,這些物質(zhì)會對后續(xù)工序中芯片的幾何特征與電性能產(chǎn)生不良影響。顆粒物與晶圓表面的粘附力主要來自范德華力的物理吸附作用,因此業(yè)界主要采用物理或化學方法對顆粒物進行底切處理,通過逐步減小其與晶圓表面的接觸面積,最終實現(xiàn)脫附。
2025-06-13 09:57:01
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864半導體晶圓檢測與直線電機的關(guān)系
晶圓檢測是指在晶圓制造完成后,對晶圓進行的一系列物理和電學性能的測試與分析,以確保其質(zhì)量和性能符合設(shè)計要求。這一過程是半導體制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),直接影響后續(xù)封裝和芯片的良品率。 隨著圖形化和幾何結(jié)構(gòu)
2025-06-06 17:15:28
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請問ModusToolbox?是否支持與 Infineon WiFi BLE 配對的 ST MCU?
在什么情況下可以使用ModusToolbox?來支持 ST MCU 與 Infineon WiFi BLE 配對的應用程序?
據(jù)我了解,所有與英飛凌 WiFi BLE 模塊配對的 ST MCU
2025-06-05 07:14:21
什么是晶圓貼膜
貼膜是指將一片經(jīng)過減薄處理的晶圓(Wafer)固定在一層特殊的膠膜上,這層膜通常為藍色,業(yè)內(nèi)常稱為“ 藍膜 ”。貼膜的目的是為后續(xù)的晶圓切割(劃片)工藝做準備。
2025-06-03 18:20:59
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wafer晶圓厚度(THK)翹曲度(Warp)彎曲度(Bow)等數(shù)據(jù)測量的設(shè)備
晶圓是半導體制造的核心基材,所有集成電路(IC)均構(gòu)建于晶圓之上,其質(zhì)量直接決定芯片性能、功耗和可靠性,是摩爾定律持續(xù)推進的物質(zhì)基礎(chǔ)。其中晶圓的厚度(THK)、翹曲度(Warp) 和彎曲度(Bow
2025-05-28 16:12:46
Wafer晶圓厚度量測系統(tǒng)
WD4000系列Wafer晶圓厚度量測系統(tǒng)采用白光光譜共焦多傳感器和白光干涉顯微測量雙向掃描技術(shù),完成非接觸式掃描并建立表面3D層析圖像,實現(xiàn)Wafer厚度、翹曲度、平面度、線粗糙度、總體厚度變化
2025-05-27 13:54:33
提高鍵合晶圓 TTV 質(zhì)量的方法
關(guān)鍵詞:鍵合晶圓;TTV 質(zhì)量;晶圓預處理;鍵合工藝;檢測機制 一、引言 在半導體制造領(lǐng)域,鍵合晶圓技術(shù)廣泛應用于三維集成、傳感器制造等領(lǐng)域。然而,鍵合過程中諸多因素會導致晶圓總厚度偏差(TTV
2025-05-26 09:24:36
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激光退火后,晶圓 TTV 變化管控
摘要:本文針對激光退火后晶圓總厚度偏差(TTV)變化的問題,深入探討從工藝參數(shù)優(yōu)化、設(shè)備改進、晶圓預處理以及檢測反饋機制等方面,提出一系列有效管控 TTV 變化的方法,為提升激光退火后晶圓質(zhì)量提供
2025-05-23 09:42:45
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優(yōu)化濕法腐蝕后晶圓 TTV 管控
摘要:本文針對濕法腐蝕工藝后晶圓總厚度偏差(TTV)的管控問題,探討從工藝參數(shù)優(yōu)化、設(shè)備改進及檢測反饋機制完善等方面入手,提出一系列優(yōu)化方法,以有效降低濕法腐蝕后晶圓 TTV,提升晶圓制造質(zhì)量
2025-05-22 10:05:57
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降低晶圓 TTV 的磨片加工方法
摘要:本文聚焦于降低晶圓 TTV(總厚度偏差)的磨片加工方法,通過對磨片設(shè)備、工藝參數(shù)的優(yōu)化以及研磨拋光流程的改進,有效控制晶圓 TTV 值,提升晶圓質(zhì)量,為半導體制造提供實用技術(shù)參考。 關(guān)鍵詞:晶
2025-05-20 17:51:39
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晶圓Warp翹曲度量測系統(tǒng)
WD4000晶圓Warp翹曲度量測系統(tǒng)采用高精度光譜共焦傳感技術(shù)、光干涉雙向掃描技術(shù),完成非接觸式掃描并建立3D Mapping圖,實現(xiàn)晶圓厚度、TTV、LTV、Bow、Warp、TIR、SORI
2025-05-20 14:02:17
減薄對后續(xù)晶圓劃切的影響
前言在半導體制造的前段制程中,晶圓需要具備足夠的厚度,以確保其在流片過程中的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。盡管芯片功能層的制備僅涉及晶圓表面幾微米范圍,但完整厚度的晶圓更有利于保障復雜工藝的順利進行,直至芯片前制程
2025-05-16 16:58:44
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簡單認識晶圓減薄技術(shù)
在半導體制造流程中,晶圓在前端工藝階段需保持一定厚度,以確保其在流片過程中的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,避免彎曲變形,并為芯片制造工藝提供操作便利。不同規(guī)格晶圓的原始厚度存在差異:4英寸晶圓厚度約為520微米,6
2025-05-09 13:55:51
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1975晶圓制備工藝與清洗工藝介紹
晶圓制備是材料科學、熱力學與精密控制的綜合體現(xiàn),每一環(huán)節(jié)均凝聚著工程技術(shù)的極致追求。而晶圓清洗本質(zhì)是半導體工業(yè)與污染物持續(xù)博弈的縮影,每一次工藝革新都在突破物理極限。
2025-05-07 15:12:30
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晶圓浸泡式清洗方法
晶圓浸泡式清洗方法是半導體制造過程中的一種重要清洗技術(shù),它旨在通過將晶圓浸泡在特定的化學溶液中,去除晶圓表面的雜質(zhì)、顆粒和污染物,以確保晶圓的清潔度和后續(xù)加工的質(zhì)量。以下是對晶圓浸泡式清洗方法的詳細
2025-04-14 15:18:54
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765晶圓表面形貌量測系統(tǒng)
WD4000晶圓表面形貌量測系統(tǒng)通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。 
2025-04-11 11:11:00
在晶圓制造領(lǐng)域,Chiller溫度控制能夠確保晶圓加工過程中的質(zhì)量和產(chǎn)量,有助于提高晶圓制造過程的質(zhì)量#
晶圓
冠亞恒溫發(fā)布于 2025-04-01 16:38:53


晶圓甩干機如何降低碎片率
在半導體制造過程中,晶圓甩干機發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。然而,晶圓甩干過程中的碎片問題一直是影響生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。晶圓作為半導體器件的載體,其完整性對于后續(xù)的制造工藝至關(guān)重要。即使是極小
2025-03-25 10:49:12
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766注塑工藝—推動PEEK晶圓夾在半導體的高效應用
在半導體行業(yè)的核心—晶圓制造中,材料的選擇至關(guān)重要。PEEK具有耐高溫、耐化學腐蝕、耐磨、尺寸穩(wěn)定性和抗靜電等優(yōu)異性能,在晶圓制造的各個階段發(fā)揮著重要作用。其中晶圓夾用于在制造中抓取和處理晶圓。注塑
2025-03-20 10:23:42
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802
晶圓微觀幾何輪廓測量系統(tǒng)
WD4000系列晶圓微觀幾何輪廓測量系統(tǒng)采用高精度光譜共焦傳感技術(shù)、光干涉雙向掃描技術(shù),完成非接觸式掃描并建立3D Mapping圖,實現(xiàn)晶圓厚度、TTV、LTV、Bow、Warp、TIR、SORI
2025-03-19 17:36:45
芯片制造的畫布:晶圓的奧秘與使命
芯片制造的畫布 芯片制造的畫布:晶圓的奧秘與使命 在芯片制造的宏大舞臺上,晶圓(Wafer)扮演著至關(guān)重要的角色。它如同一張潔白的畫布,承載著無數(shù)工程師的智慧與夢想,見證著從砂礫到智能的奇跡之旅。晶
2025-03-10 17:04:25
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1542晶圓翹曲度幾何量測系統(tǒng)
WD4000晶圓翹曲度幾何量測系統(tǒng)兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數(shù)據(jù)更準確。儀器通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV
2025-03-07 16:19:24
深入探索:晶圓級封裝Bump工藝的關(guān)鍵點
隨著半導體技術(shù)的飛速發(fā)展,晶圓級封裝(WLP)作為先進封裝技術(shù)的重要組成部分,正逐漸成為集成電路封裝的主流趨勢。在晶圓級封裝過程中,Bump工藝扮演著至關(guān)重要的角色。Bump,即凸塊,是晶圓級封裝中
2025-03-04 10:52:57
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4978
晶圓幾何形貌量測機
WD4000晶圓幾何形貌量測機通過非接觸測量,自動測量 Wafer 厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV,BOW
2025-02-21 14:09:42
日本Sumco宮崎工廠硅晶圓計劃停產(chǎn)
日本硅晶圓制造商Sumco宣布,將在2026年底前停止宮崎工廠的硅晶圓生產(chǎn)。 Sumco報告稱,主要用于消費、工業(yè)和汽車應用的小直徑晶圓需求仍然疲軟。具體而言,隨著客戶要么轉(zhuǎn)向200毫米晶圓,要么在
2025-02-20 16:36:31
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815Sumco計劃2026年底前停止宮崎工廠硅晶圓生產(chǎn)
近日,日本知名硅晶圓制造商Sumco宣布了一項重要戰(zhàn)略決策,計劃于2026年底前停止其宮崎工廠的硅晶圓生產(chǎn)。這一舉措是Sumco為優(yōu)化產(chǎn)品組合、提高盈利能力而采取的關(guān)鍵步驟。
2025-02-13 16:46:52
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1215晶圓切割的定義和功能
Dicing 是指將制造完成的晶圓(Wafer)切割成單個 Die 的工藝步驟,是從晶圓到獨立芯片生產(chǎn)的重要環(huán)節(jié)之一。每個 Die 都是一個功能單元,Dicing 的精準性直接影響芯片的良率和性能。
2025-02-11 14:28:49
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2943高精度晶圓厚度幾何量測系統(tǒng)
WD4000高精度晶圓厚度幾何量測系統(tǒng)兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數(shù)據(jù)更準確。它通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩(wěn)定計算晶圓厚度,TTV
2025-02-11 14:01:06
詳解晶圓的劃片工藝流程
在半導體制造的復雜流程中,晶圓歷經(jīng)前道工序完成芯片制備后,劃片工藝成為將芯片從晶圓上分離的關(guān)鍵環(huán)節(jié),為后續(xù)封裝奠定基礎(chǔ)。由于不同厚度的晶圓具有各異的物理特性,因此需匹配不同的切割工藝,以確保切割效果與芯片質(zhì)量。
2025-02-07 09:41:00
3048
3048
特氟龍夾具的晶圓夾持方式,相比真空吸附方式,對測量晶圓 BOW 的影響
在半導體制造領(lǐng)域,晶圓作為芯片的基礎(chǔ)母材,其質(zhì)量把控的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一便是對 BOW(彎曲度)的精確測量。而在測量過程中,特氟龍夾具的晶圓夾持方式與傳統(tǒng)的真空吸附方式有著截然不同的特性,這些差異深刻影響
2025-01-21 09:36:24
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微軟裁員計劃不涉印度員工
近期,微軟宣布將在全球范圍內(nèi)啟動新一輪基于績效的裁員計劃,然而這一消息并未給印度地區(qū)的員工帶來恐慌。印度和南亞區(qū)總裁Puneet Chandok明確表示,本次裁員計劃將不會波及印度地區(qū)的員工。 在
2025-01-15 15:24:08
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905功率器件晶圓測試及封裝成品測試介紹
???? 本文主要介紹功率器件晶圓測試及封裝成品測試。?????? ? 晶圓測試(CP)???? 如圖所示為典型的碳化硅晶圓和分立器件電學測試的系統(tǒng),主要由三部分組成,左邊為電學檢測探針臺阿波羅
2025-01-14 09:29:13
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全自動晶圓清洗機是如何工作的
都說晶圓清洗機是用于晶圓清洗的,既然說是全自動的。我們更加好奇的點一定是如何自動實現(xiàn)晶圓清洗呢?效果怎么樣呢?好多疑問。我們先來給大家介紹這個根本問題,就是全自動晶圓清洗機的工作是如何實現(xiàn)
2025-01-10 10:09:19
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1113晶圓的環(huán)吸方案相比其他吸附方案,對于測量晶圓 BOW/WARP 的影響
在半導體制造領(lǐng)域,晶圓的加工精度和質(zhì)量控制至關(guān)重要,其中對晶圓 BOW(彎曲度)和 WARP(翹曲度)的精確測量更是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。不同的吸附方案被應用于晶圓測量過程中,而晶圓的環(huán)吸方案因其獨特
2025-01-09 17:00:10
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晶圓制造及直拉法知識介紹
晶圓是集成電路、功率器件及半導體分立器件的核心原材料,超過90%的集成電路均在高純度、高品質(zhì)的晶圓上制造而成。晶圓的質(zhì)量及其產(chǎn)業(yè)鏈供應能力,直接關(guān)乎集成電路的整體性能和競爭力。今天我們將詳細介紹
2025-01-09 09:59:26
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