手機(jī)/平板漸融合 通用型PMIC加速發(fā)展
奧地利微電子(Austria Microelectronics)市場經(jīng)理Don Travers(圖4)表示,以往手機(jī)、平板PMIC規(guī)格有所差異,隨著產(chǎn)品尺寸日益多元,上市時(shí)程壓力劇增,品牌和處理器業(yè)者均希望盡量縮減設(shè)計(jì)改變幅度和成本,并達(dá)到新產(chǎn)品快速上市的目標(biāo),已刺激手機(jī)、平板通用型PMIC方案崛起。
此外,行動(dòng)裝置處理器與PMIC之間溝通緊密,傳統(tǒng)設(shè)計(jì)上大多將兩顆晶片的距離拉近,以減輕資料傳輸負(fù)擔(dān)與功耗,卻也引發(fā)熱源集中的問題,反而影響系統(tǒng)效率。為改進(jìn)散熱問題,PMIC業(yè)者競相提出新的系統(tǒng)布局模式,并針對(duì)大尺寸手機(jī)更加復(fù)雜的多核心處理器、背光模組功率管理需求,取法平板電源控制的優(yōu)點(diǎn),以兼顧手機(jī)效能與續(xù)航力。
Travers強(qiáng)調(diào),因應(yīng)市場需求,奧地利微電子即跳脫一般PMIC商專攻手機(jī)或平板的單線發(fā)展模式,除積極擴(kuò)張手機(jī)、平板通用型PMIC陣容外,近期更發(fā)布一項(xiàng)PMIC遠(yuǎn)端回饋線路專利,大幅簡化行動(dòng)裝置系統(tǒng)設(shè)計(jì)與散熱問題。
據(jù)悉,該方案目標(biāo)係簡化電源管理系統(tǒng)布線,并拉開處理器與PMIC的距離以分散熱源,透過在處理器端外掛一顆功率級(jí)(Power Stage)模組,再以遠(yuǎn)端回饋線路串連高整合度PMIC,可因應(yīng)處理器動(dòng)態(tài)電源負(fù)載變化做出迅速反應(yīng),同時(shí)提供較高的轉(zhuǎn)換效率及更靈活的印刷電路板 (PCB)布局。
隨著PMIC整合更多控制元件與電路,并引進(jìn)數(shù)位設(shè)計(jì)拓?fù)涮嵘?,晶圓代工廠和電源晶片商也研擬導(dǎo)入先進(jìn)製程,開發(fā)新一代異質(zhì)功能整合PMIC,滿足復(fù)雜的系統(tǒng)電源管理需求。
邁向異質(zhì)功能整合 PMIC加速制程演進(jìn)腳步
聯(lián)電市場行銷處技術(shù)經(jīng)理?xiàng)畹翘模▓D5)表示,高通、戴樂格(Dialog)正積極布局整合MCU及DSP核心的下世代PMIC,藉以提升晶片整合度,讓行動(dòng)裝置業(yè)者有更多設(shè)計(jì)空間塞進(jìn)新應(yīng)用功能,并提高電源管理效率。隨著類比/數(shù)位異質(zhì)晶片融合需求浮現(xiàn),PMIC晶片商將改變以往類比IC不追求先進(jìn)製程的概念,加速從現(xiàn)階段主流的0.18微米製程,跨入0.13/0.11微米,甚至在1?2年內(nèi)朝90、65/55奈米邁進(jìn)。
不同于數(shù)位晶片、隨機(jī)存取記憶體(RAM)均須倚賴奈米先進(jìn)制程,才能提高邏輯密度及運(yùn)算效能,同時(shí)減輕功耗、尺寸及生產(chǎn)成本;PMIC等各種類比晶片對(duì)電晶體密度的要求則較低,反而著重在晶圓后段導(dǎo)線製作或深溝層隔離(Deep Trench Isolation, DTI)等技術(shù),以改善導(dǎo)通電阻(RDS(ON))及各種操作特性,因此主流製程仍停留在0.18微米以上,晶圓尺寸也還在用六吋、八吋方案,每2年晶片體積微縮比率僅有10~25%。
然而,楊登棠分析,目前行動(dòng)裝置PMIC內(nèi)部至少都有二十到五十個(gè)功能區(qū)塊,且接腳數(shù)超過兩百個(gè);加上晶片商正致力研發(fā)類比/數(shù)位異質(zhì)晶片整合型 PMIC,而新增的MCU、DSP、雜訊消除IC等數(shù)位核心一定要以先進(jìn)製程來做才能發(fā)揮經(jīng)濟(jì)效益,在PMIC整合度不斷翻升之下,朝奈米製程演進(jìn)的需求已開始涌現(xiàn)。同時(shí),相關(guān)大廠考量先進(jìn)製程成本較高,更研擬在2?3年內(nèi)全面改搭12吋晶圓生產(chǎn),將晶片產(chǎn)出數(shù)量提升兩倍以上,進(jìn)而縮減10%左右的量產(chǎn)成本。
因應(yīng)新世代PMIC製作需求,楊登棠透露,聯(lián)電將部署0.11微米、65/55奈米BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)等多元製程。其中,0.11微米方案已開始試產(chǎn),今年底將正式上線,該公司旗下七個(gè)八吋晶圓廠將有五個(gè)支援此製程節(jié)點(diǎn),至于65/55奈米BCD方案則是未來主攻重點(diǎn),將持續(xù)加碼投資。此外,聯(lián)電近期還與一家晶片廠攜手合作90奈米客製化PMIC製程,并已進(jìn)入測試階段。
事實(shí)上,行動(dòng)裝置品牌廠不僅希望節(jié)省晶片耗電,也須要開闢更多電力來源,以滿足用戶行動(dòng)運(yùn)算的需求,因而帶動(dòng)晶片商投入發(fā)展微型、高效率交流對(duì)直流(AC-DC)充電方案。
確保充電快又準(zhǔn) 充電器/測試方案翻新
恩智浦(NXP)電源方案資深產(chǎn)品行銷經(jīng)理張錫亮(圖6)強(qiáng)調(diào),EuP Lot 6節(jié)能規(guī)範(fàn)施行后,行動(dòng)裝置業(yè)者已面臨更嚴(yán)格的產(chǎn)品功耗要求,包括在待機(jī)模式下不得超過1瓦(W);而關(guān)機(jī)模式則須低于0.5瓦耗電量等規(guī)範(fàn),因而須導(dǎo)入更新一代的電源轉(zhuǎn)換器晶片方案,提高電源轉(zhuǎn)換效率。
張錫亮分析,要降低待機(jī)功耗的首要關(guān)鍵就是減少系統(tǒng)零組件用量,因此電源晶片商正競相發(fā)展一次側(cè)回授(PSR)、同步整流AC-DC拓?fù)湓O(shè)計(jì)方案,將充電器的零組件控制在叁十顆以下,并滿足各種國際節(jié)能規(guī)範(fàn)的電源效率要求。
尤其近來手機(jī)和平板充電器共用的設(shè)計(jì)趨勢成形,更將驅(qū)動(dòng)AC-DC電源設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)變。張錫亮指出,由于手機(jī)充電功率為5瓦,而平板多在11瓦左右,因此新一代充電器須偵測裝置所需電壓,以辨別并切換手機(jī)或平板充電模式。目前恩智浦已開發(fā)一套小型化AC-DC解決方案,可透過在二次側(cè)偵測負(fù)載變化,動(dòng)態(tài)調(diào)整一次側(cè)的開關(guān)模式電源(SMPS)控制器,同步支援平板、手機(jī)充電。
隨著行動(dòng)裝置充電技術(shù)革新,新興系統(tǒng)與電池電流量測方案的需求也開始涌現(xiàn)。安捷倫應(yīng)用工程部資深專案經(jīng)理祁子年(圖7)表示,手機(jī)廠在開發(fā)軟硬體時(shí)須執(zhí)行一系列標(biāo)竿測試,包括評(píng)估整體裝置與電路的電池消耗,以及驗(yàn)證應(yīng)用程式對(duì)系統(tǒng)電力供應(yīng)的影響等。
祁子年指出,行動(dòng)裝置大多皆導(dǎo)入省電模式,以短叢發(fā)的發(fā)訊方式運(yùn)作節(jié)省電力,由于裝置在此模式下耗電流非常低,傳統(tǒng)量測方案的動(dòng)態(tài)範(fàn)圍無法準(zhǔn)確測量出系統(tǒng)功耗變化,因此業(yè)界正興起互補(bǔ)累計(jì)分布函數(shù)(CCDF)量測方案,并搭配脈衝式電流抽取技術(shù),同時(shí)擴(kuò)充儀器的動(dòng)態(tài)電流範(fàn)圍,從而分析并最佳化行動(dòng)裝置省電模式的運(yùn)作模式。
增加手機(jī)電力來源 電池廠競逐新材料技術(shù)
儘管系統(tǒng)節(jié)能設(shè)計(jì)功夫已有長足進(jìn)步,但手機(jī)廠最終的期待仍是擴(kuò)充電池容量,工研院IEK產(chǎn)業(yè)分析師呂學(xué)?。▓D8)表示,手機(jī)電池效能每年提升比重僅約 5~8%,遠(yuǎn)不及新產(chǎn)品功能演進(jìn)速度,因此,電池業(yè)者已規(guī)畫從電池正負(fù)極材料、驅(qū)動(dòng)電壓和極板設(shè)計(jì)叁方面著手,期能兼顧電池體積、容量和成本。
呂學(xué)隆透露,叁星SDI近期已在電池表面鍍上新材料,開發(fā)出4.4伏特(V)高壓驅(qū)動(dòng)的鋰電池方案,藉以改善電流耗損過多的問題,并妥善利用每一分電力;同時(shí),該公司也利用涂布製程及特殊復(fù)合材料,提高電池極板的能量密度。至于樂金化學(xué)(LG Chemical)和日本戶田工業(yè)等日韓電池材料大廠,則投入開發(fā)下世代正負(fù)極材料,將以鋰叁元系、氧化硅等方案增加蓄電量。
顯而易見,隨著行動(dòng)裝置功能規(guī)格迅速攀升,晶片商、電池和量測業(yè)者均不遺余力發(fā)展「開源節(jié)流」的解決方案。其中,由于PMIC掌管系統(tǒng)供電,對(duì)新一代行動(dòng)裝置的發(fā)展尤其重要,產(chǎn)值可望從2012年的15億美元,飆升至2016年的24億美元,為相關(guān)業(yè)者帶來更多商機(jī)。
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