資料介紹
半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識(shí)的總結(jié)
半導(dǎo)體技術(shù)復(fù)習(xí)資料
一、名詞解釋、選擇和填空題復(fù)習(xí)內(nèi)容
※1、雙極性晶體管穿通電壓(P102):當(dāng)基區(qū)寬度較小、雜質(zhì)濃度較低時(shí)。。。這種情況稱
※2、n溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管n-JFET(P133):在一塊n型半導(dǎo)體。。。晶體管稱為溝道n-JFET。
3、JFET的漏源電導(dǎo)gds(P140):
※4、雪崩擊穿:當(dāng)N區(qū)(P區(qū))的一個(gè)雜散空穴(電子)進(jìn)入空間電荷層時(shí),在它掠向P區(qū)(N區(qū))的過程中,它將從電場(chǎng)獲得動(dòng)能??昭ǎ娮樱е吣芎途Ц衽鲎?,并從晶格中電離出一個(gè)電子,產(chǎn)生一個(gè)電子-空穴對(duì)。在第一次碰撞之后,原始和產(chǎn)生的載流子將繼續(xù)它們的行程,并且可能發(fā)生更多的碰撞,產(chǎn)生更多的載流子。結(jié)果,載流子的增加是倍增過程,稱為雪崩倍增或碰撞電離,由此造成的PN結(jié)擊穿稱為雪崩擊穿。
5、PN結(jié):任何兩種物質(zhì)(絕緣體除外)的冶金學(xué)接觸都稱為結(jié)或接觸。由N型和P型半導(dǎo)體形成的結(jié)稱為PN結(jié)。
※6、同質(zhì)結(jié):由同種半導(dǎo)體構(gòu)成的結(jié)稱為同質(zhì)結(jié)。同質(zhì)結(jié)又有同型同質(zhì)結(jié)和異型同質(zhì)結(jié)之分(這里指的是導(dǎo)電類型)。
※7、異質(zhì)結(jié):由不同種半導(dǎo)體構(gòu)成的結(jié)稱為異質(zhì)結(jié)。異質(zhì)結(jié)又有同型異質(zhì)結(jié)和異型異質(zhì)結(jié)之分(這里指的是導(dǎo)電類型)。
※8、金屬—半導(dǎo)體結(jié):由金屬和半導(dǎo)體形成的結(jié)稱為金屬—半導(dǎo)體結(jié),又稱為金屬半導(dǎo)體接觸。
9、突變結(jié):P型區(qū)和N型區(qū)之間的雜質(zhì)分布變化陡峭的PN結(jié)。
10、中性區(qū):中性區(qū)的第一個(gè)含義就是指沒有空間電荷存在,電場(chǎng)為零;第二個(gè)含義是其電阻與空間電荷區(qū)的電阻相比可以忽略,加偏壓時(shí)它們承受的電壓降可以忽略。
※11、耗盡區(qū)與耗盡近似:空間電荷區(qū)里自由載流子濃度與電離雜質(zhì)濃度相比可以忽略,可以說自由載流子被耗盡了,因此把空間電荷區(qū)稱為耗盡區(qū)。這種假設(shè)稱為耗盡近似。
※12勢(shì)壘區(qū):與空間電荷區(qū)兩側(cè)內(nèi)建電勢(shì)能差稱為勢(shì)壘。由于空間電荷區(qū)兩側(cè)存在電子和空穴的勢(shì)壘,因此,也把空間電荷區(qū)稱為勢(shì)壘區(qū)。勢(shì)壘區(qū)、空間電荷區(qū)、耗盡區(qū)指的是同一件事。
※13、少子擴(kuò)散區(qū):在空間電荷區(qū)兩側(cè)中性區(qū)里一個(gè)到幾個(gè)擴(kuò)散長(zhǎng)度的區(qū)域內(nèi),注入少子以擴(kuò)散方式運(yùn)動(dòng),這個(gè)區(qū)域稱為少子擴(kuò)散區(qū),簡(jiǎn)稱擴(kuò)大散區(qū)。
14、擴(kuò)散電容:PN結(jié)擴(kuò)散區(qū)內(nèi)的儲(chǔ)存電荷量會(huì)隨著外加偏壓的變化而變化,相應(yīng)的電容稱為過渡電容,表示為CD=(TPI)/(2VT)
15、擴(kuò)散電阻:對(duì)于PN結(jié)電阻,正偏PN結(jié)擴(kuò)散電阻很小,反偏PN結(jié)擴(kuò)散電阻是直流電導(dǎo)的倒數(shù)。
※16、穿通擊穿:在基極開路情況下,隨著VCE的增加,集電結(jié)的空間電荷區(qū)將展寬。很可能在發(fā)生雪崩擊穿之前集電結(jié)的空間電荷區(qū)就已經(jīng)擴(kuò)展到了發(fā)射結(jié),這種現(xiàn)象稱為基區(qū)穿通?;鶇^(qū)穿通時(shí)晶體管中會(huì)有很大的電流流過,晶體管發(fā)生擊穿,這種擊穿常稱為穿通擊穿。

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