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標簽 > 光刻工藝
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在之前的文章里,我們介紹了晶圓制造、氧化過程和集成電路的部分發(fā)展史。現(xiàn)在,讓我們繼續(xù)了解光刻工藝,通過該過程將電子電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻過程與使用膠...
功率半導體分立器件的應用十分廣泛,幾乎覆蓋了所有的電子制造業(yè),傳統(tǒng)應用領域包括消費電子、網(wǎng)絡通信、工業(yè)電機等。近年來,新能源汽車及充電系統(tǒng)、軌道交通、智...
半導體產(chǎn)業(yè)中,制造工工程被稱為工藝(Process),理由是什么?雖然沒有明確的答案,但與其說加工尺寸微?。壳笆莕m制程),不如說制造過程無法用肉眼看到所致。
束流消除器:兩個平行板電極之間的直流偏置(~42 v)是否垂直于電子路徑,使電子偏離軸,從而“轉(zhuǎn)動”關閉/阻塞/被下面的孔所覆蓋。
傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的,普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見下表)。這是因...
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