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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進行開孔，以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術。
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LED替代汞燈在紫外光源中的使用已成為大勢所趨。友思特先進的 UV-LED-EXP 系統(tǒng)可作為OEM集成、汞燈光刻設備改造或直接定制光路設計和曝光設備，...
一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場和痛點
共讀好書 前烘對正膠顯影的影響 前烘對負膠膠顯影的影響 需要這個原報告的朋友可轉發(fā)這篇文章獲取百份資料，內(nèi)含光刻膠多份精品報告【贈2024電子資料百份】...
來源：半導體行業(yè)觀察，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺積電以及日本即將落成的先進晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準備將...
精密光子制造中為什么要使用飛秒激光?飛秒激光器發(fā)射持續(xù)時間低于一皮秒的超短光脈沖，達到飛秒級(1fs=10-15s)。飛秒激光的特點是脈沖寬度極短，峰值...
阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯(lián)合打造的High-NA EUV光刻實驗室正式啟用
近日，全球領先的半導體制造設備供應商阿斯麥(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)共同宣布，位于荷蘭費爾德霍芬的High-NAEUV光刻實驗室正式...
新思科技x Multibeam推出業(yè)界首款可量產(chǎn)電子束光刻系統(tǒng) 無需掩膜
? 基于掩膜的傳統(tǒng)光刻技術，其成本正呈指數(shù)級攀升。而無掩膜的電子束光刻技術提供了補充性選項，可以幫助芯片制造商更快地將產(chǎn)品推向市場。電子束光刻技術采用電...
英特爾推進面向未來節(jié)點的技術創(chuàng)新，在2025年后鞏固制程領先性
英特爾正在按計劃實現(xiàn)其“四年五個制程節(jié)點”的目標，目前，Intel 7，采用EUV（極紫外光刻）技術的Intel 4和Intel 3均已實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。...
SK海力士聯(lián)手TEMC開發(fā)氖氣回收技術，年度節(jié)省400億韓元
SK海力士聯(lián)合 TEMC 研發(fā)出一套氖氣回收裝置，用以收集及分類處理光刻工藝環(huán)境中的氖氣，然后交予 TEMC 進行純化處理，最后回流至 SK 海力士使用。
美光計劃部署納米印刷技術，降低DRAM芯片生產(chǎn)成本
3 月 5 日消息，美光科技公司計劃率先支持佳能的納米印刷技術，從而進一步降低生產(chǎn) DRAM 存儲芯片的單層成本。 美光公司近日舉辦了一場演講，介紹在將...
半導體作為全球最重要的一個產(chǎn)業(yè)，每年為全球經(jīng)濟貢獻數(shù)千億美元產(chǎn)值。在整個產(chǎn)業(yè)鏈上，除我們耳熟能詳?shù)挠⑻貭?、AMD、高通、臺積電等生產(chǎn)商外，還包括了眾多著...
來源：半導體芯科技編譯 投資半導體設備行業(yè)新的生產(chǎn)設備 Jenoptik公司計劃投資數(shù)億歐元，為目前在德累斯頓建設的高科技工廠建造最先進的系統(tǒng)。新型電子...
針對HBC太陽電池圖形化技術高成本的瓶頸，隆基綠能持續(xù)自主創(chuàng)新研發(fā)，放棄了高成本的光刻工藝，采用全激光圖形化技術實現(xiàn)了27.09%的轉換效率。
龍圖光罩科創(chuàng)板IPO獲批，募投項目技術和經(jīng)濟可行性是關鍵?
龍圖光罩擁有130nm及以上節(jié)點的半導體掩模版制備頂尖技術，覆蓋 CAM、光刻、檢測全流程。在功率半導體掩模版領域，其工藝節(jié)點已能充分滿足全球主流制程的需求。
IBM、美光、應用材料、東京電子宣布合作建設 High-NA EUV 研發(fā)中心
12 月 12 日消息，今天早些時候，紐約州長凱西?霍楚爾（Kathy Hochul ）宣布與 IBM、美光、應用材料、東京電子（東京威力科創(chuàng)）等半導體...
現(xiàn)代激光加工，以超快激光加工為主，即使用高強度的超快激光進行材料加工。具有峰值功率高、熱熔區(qū)域小、加工速度快和重復精度高的特點。 濱松LCOS-SLM則...
該定向熱輻射器件具有四大特點：（a）超寬帶特性：器件在整個中波紅外（3-5 μm）和長波紅外大氣窗口（8-14 μm）都表現(xiàn)出定向熱輻射特性。
機械真空吸附通過真空泵創(chuàng)建負壓環(huán)境，真空泵用于從吸附區(qū)域抽氣，從而降低壓力，在晶圓與吸附盤之間產(chǎn)生真空區(qū)域。通常需要密封圈來確保吸附區(qū)域的密封，防止外界...
八億時空：光刻膠樹脂量產(chǎn)產(chǎn)能不斷提升 預計明年將會貢獻一定營收
該公司目前集中開發(fā)krf光刻樹脂及其衍生物，分為負離子聚合的狹窄分布樹脂和包括三重聚合物在內(nèi)的自由基聚合的廣泛分布樹脂。現(xiàn)在下游客戶對這兩個地區(qū)都有需求...
生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（光增感劑、光致產(chǎn)酸劑幫助其更好發(fā)揮作用）、樹脂、溶劑和其他添加劑等，我國由于資金和技術的差距，如感光劑、樹脂等被外企壟斷，...
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