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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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生命科學(xué)、醫(yī)藥健康和電子科技三大業(yè)務(wù)協(xié)同創(chuàng)新
材料來(lái)源：化合物半導(dǎo)體 本刊記者 日前，旗下?lián)碛猩茖W(xué)、醫(yī)藥健康和電子科技三大業(yè)務(wù)板塊的科技公司默克重磅亮相第五屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)（進(jìn)博會(huì)），并宣布...
俄羅斯政府預(yù)計(jì)2030年開發(fā)出28納米制程技術(shù)
，俄羅斯政府推出了一項(xiàng)國(guó)家計(jì)劃，到2030年開發(fā)出自己的28納米制程技術(shù)，并盡可能利用外國(guó)芯片進(jìn)行逆向工程取得技術(shù)，同時(shí)也要培養(yǎng)本土人才從事國(guó)產(chǎn)芯片的生產(chǎn)工作。
在本文中，首先論述半導(dǎo)體業(yè)界中存在著怎樣的“傻瓜的圍墻”。接下來(lái)，由于半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)到處都有壁壘，所以行業(yè)內(nèi)外之間存在著巨大的差異。然后進(jìn)一步說(shuō)明汽車與半...
重磅：DLP-SLA混合光固化3D打印技術(shù)將商業(yè)化
據(jù)知悉阿姆斯特丹大學(xué)（UVA）已同意將其專利混合立體光刻（SLA）技術(shù)授權(quán)給數(shù)字光處理（DLP）3D打印機(jī)制造商atum3D。這種混合SLA工藝由UVA...
不使用EUV突破1nm極限？美國(guó)推出全新光刻系統(tǒng)，分辨率0.768nm！
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/梁浩斌）最近，一家名為Zyvex Labs的美國(guó)公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1，據(jù)稱分辨率可以達(dá)到0...
在設(shè)備級(jí)別，我們?nèi)A林科納制造了像素間距為10μm（F IGURE 4）的OLED陣列，相當(dāng)于2500 ppi。在這種情況下，一個(gè)重要的參數(shù)是對(duì)準(zhǔn)精度，它...
現(xiàn)代社會(huì)已經(jīng)習(xí)慣了視覺信息的溢出，大多數(shù)用戶界面的中心都有顯示器。引進(jìn)新技術(shù)和降低制造成本的步伐令人印象深刻，似乎并沒(méi)有 放緩。最突出的例子是OLED顯...
根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖...
我們所知道的第一個(gè)半導(dǎo)體路線圖可能是摩爾觀察到的，以他為名字的“摩爾定律”預(yù)計(jì)，芯片的計(jì)算能力隨著時(shí)間的增長(zhǎng)呈指數(shù)增長(zhǎng)。
IRDS路線圖中More Moore部分預(yù)測(cè)了傳統(tǒng)邏輯和存儲(chǔ)芯片的改進(jìn)。這部分升級(jí)是由大數(shù)據(jù)、物聯(lián)網(wǎng)、云計(jì)算和性能改進(jìn)的一般需求驅(qū)動(dòng)的。據(jù)預(yù)測(cè)，高性能邏...
帕克推出新型半導(dǎo)體工具Park NX-Hybrid WLI
2022年5月20日，美國(guó)總統(tǒng)拜登在韓國(guó)總統(tǒng)尹錫悅陪同下視察了三星半導(dǎo)體工廠擴(kuò)建的最新產(chǎn)線，三星半導(dǎo)體的工作人員向總統(tǒng)們介紹了其產(chǎn)品的部署進(jìn)展時(shí)，介紹了...
雖然通過(guò)蝕刻的結(jié)構(gòu)化是通過(guò)(例如抗蝕劑)掩模對(duì)襯底的全表面涂層進(jìn)行部分腐蝕來(lái)完成的，但是在剝離過(guò)程中，材料僅沉積在不受抗蝕劑掩模保護(hù)的位置。本文章描述了...
本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量...
在未來(lái)幾代器件中，去除光刻膠和殘留物變得非常關(guān)鍵。在前端線后離子注入（源極/漏極、擴(kuò)展），使用PR來(lái)阻斷部分電路導(dǎo)致PR基本上硬化并且難以去除。在后端線...
通過(guò)臭氧微氣泡進(jìn)行半導(dǎo)體晶圓的光刻膠去除實(shí)驗(yàn)
半導(dǎo)體的清洗在制造工序中也是非常重要的。特別是光刻膠的去除是最困難的，一般使用硫酸和過(guò)氧化氫混合的溶液(SPM)等。但是，這些廢液的處理是極其困難的，與...
英特爾欲助力歐洲半導(dǎo)體生產(chǎn)制造份額提升至20%
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）不久之前，英特爾宣布在歐洲開展野心勃勃的擴(kuò)張計(jì)劃，未來(lái)十年內(nèi)在歐洲投資800多億歐元，欲助力歐洲的半導(dǎo)體生產(chǎn)制造份額從如今...
什么是光刻？光刻是將掩模上的幾何形狀轉(zhuǎn)移到硅片表面的過(guò)程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗；阻擋層的形成；光刻膠應(yīng)用；軟烤；掩模對(duì)準(zhǔn)；曝光和顯影；和硬烤。
光刻是在掩模中轉(zhuǎn)移幾何形狀圖案的過(guò)程，是覆蓋在表面的一層薄薄的輻射敏感材料(稱為抗輻射劑) ，也是一種半導(dǎo)體晶片。 圖5.1簡(jiǎn)要說(shuō)明了光刻用于集成電路制...
在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩?！?，其作用是在硅片上選定的區(qū)域中對(duì)一個(gè)不透明的圖形模板遮...
我們?nèi)A林科納研究了用于電解門制造的潔凈室工藝用于生物傳感的晶片尺度石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管。 我們的制造該工藝克服了兩個(gè)主要問(wèn)題:去除石墨烯圖案化后的表面殘留...
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