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標簽 > 等離子體
等離子體又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產(chǎn)生的正負離子組成的離子化氣體狀物質，尺度大于德拜長度的宏觀電中性電離氣體，其運動主要受電磁力支配，并表現(xiàn)出顯著的集體行為。它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質存在的第四態(tài)。
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遠程等離子體刻蝕技術通過非接觸式能量傳遞實現(xiàn)材料加工，其中熱輔助離子束刻蝕（TAIBE）作為前沿技術，尤其適用于碳氟化合物（FC）材料（如聚四氟乙烯PT...
在5納米以下的芯片制程中，晶體管柵極介質層的厚度已縮至1納米以下（約5個原子層）。此時，傳統(tǒng)二氧化硅（SiO?）如同漏水的薄紗，電子隧穿導致的漏電功耗可...
隨著集成電路特征尺寸的縮小，工藝窗口變小，可靠性成為更難兼顧的因素，設計上的改善對于優(yōu)化可靠性至關重要。本文介紹了等離子刻蝕對高能量電子和空穴注入柵氧化...
碳化硅（SiC）作為一種高性能材料，在大功率器件、高溫器件和發(fā)光二極管等領域有著廣泛的應用。其中，基于等離子體的干法蝕刻在SiC的圖案化及電子器件制造中...
等離子體刻蝕和濕法刻蝕是集成電路制造過程中常用的兩種刻蝕方法，雖然它們都可以用來去除晶圓表面的材料，但它們的原理、過程、優(yōu)缺點及適用范圍都有很大的不同。...
等離子體，英文名稱plasma，是物質的第四態(tài)，其他三態(tài)有固態(tài)，液態(tài)，氣態(tài)。在半導體領域一般是氣體被電離后的狀態(tài)，又被稱為‘電漿’，具有帶電性和流動性的特點。
等離子體蝕刻機需要與濕法蝕刻相同的元素：化學蝕刻劑和能量源。從物理上講，等離子體蝕刻機由室、真空系統(tǒng)、氣體供應、終點檢測器和電源組成（如下圖所示）。晶圓...
激光誘導擊穿光譜(英語:Laser-induced breakdown spectroscopy，LIBS) 技術，通過超短脈沖激光聚焦樣品表面形成等離...
實驗名稱：等離子體壓力傳感器及其在動態(tài)壓力測量中的應用研究方向：壓力傳感器測試目的：如何準確測量高超沖壓發(fā)動機隔離段和航空發(fā)動機壓氣機部件的內部流場是提...
ICP-RIE全稱是電感耦合等離子體刻蝕機，是半導體芯片微納加工過程中必不可少的設備，可加工微米級納米級的微型圖案。
當?shù)入x子體轉變到這種狀態(tài)時，電子密度處于最低水平。一般來說，等離子體密度下降的水平取決于占空比和脈沖頻率。通過調整脈沖的占空比，可以將時間平均離子能量分...
引言 半導體器件的設計規(guī)則收縮是集成過程中每一步的一個挑戰(zhàn)。在隔離的間隙-fll過程中，使用沉積工藝不能抑制接縫和空隙的形成，甚至具有良好的臺階覆蓋。為...
干法刻蝕技術是一種在大氣或真空條件下進行的刻蝕過程，通常使用氣體中的離子或化學物質來去除材料表面的部分，通過掩膜和刻蝕參數(shù)的調控，可以實現(xiàn)各向異性及各向...
等離子電視和液晶電視區(qū)別 等離子電視和液晶電視哪個比較好
等離子電視和液晶電視是兩種不同的顯示技術，各自有其優(yōu)點和特點。在決定哪種電視更好之前，我們應該了解兩種技術的區(qū)別。下面將詳細介紹等離子電視和液晶電視的特...
在過去的幾年中，MOSFET結構從平面結構改變?yōu)轹捫徒Y構(FinFETs ),這改善了短溝道效應，并導致更高的驅動電流泄漏。然而，隨著柵極長度減小到小于...
需要鋁金屬的地方太多了，在DRAM和flash等存儲器產(chǎn)品中，鋁連線由于成本低廉和加工簡便仍被廣泛使用。這些存儲器設備通常不像高性能邏輯芯片那樣對電阻和...
本期和大家分享下關于涂層附著力的原理和影響因素，首先我們都知道涂層和基材之間是可以通過機械咬合、物理吸附、形成氫鍵和化學鍵、互相擴散等作用結合在一起，由...
2023-12-14 標簽：等離子體 5.6k 0
書接上節(jié)，常見的物質的第四種自然狀態(tài)是等離子體狀態(tài)。我們比較熟知的恒星天體就是等離子體態(tài)的一個例子。當然，它和我們最常見到的固體、液體或氣體的定義的定義...
光捕獲技術是提高太陽能電池光吸收率的有效方法之一，它可以減少材料厚度，從而降低成本。近年來，表面等離子體（SP）在這一領域取得了長足的進步。利用表面等離...
磁場輔助激光加工技術是利用磁場約束激光加工誘導的等離子體，致使等離子體沿磁場方向膨脹，其余方向受壓縮，因而等離子體的密度會很低，大大削弱了屏蔽效果，使更...
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