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28nm是指集成電路工藝光刻所能達到的最小線條寬度 ，一般指半導(dǎo)體器件的最小尺寸。
28nm作為先進工藝與非先進工藝的分界點，經(jīng)過數(shù)年的不斷完善應(yīng)該屬于工藝成熟度高、性能功耗比高和總體性價比高的優(yōu)秀工藝。