技術(shù)節(jié)點(diǎn)的每次進(jìn)步都要求對(duì)制造工藝變化進(jìn)行更嚴(yán)格的控制。最先進(jìn)的工藝現(xiàn)在可以達(dá)到僅7 nm的fin寬度,比30個(gè)硅原子稍大一點(diǎn)。半導(dǎo)體制造已經(jīng)跨越了從納米級(jí)到原子級(jí)工藝的門(mén)檻。
2020-06-02 18:04:46
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在之前的文章里,我們介紹了晶圓制造、氧化過(guò)程和集成電路的部分發(fā)展史。現(xiàn)在,讓我們繼續(xù)了解光刻工藝,通過(guò)該過(guò)程將電子電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻過(guò)程與使用膠片相機(jī)拍照非常相似。但是具體是怎么實(shí)現(xiàn)的呢?
2023-06-28 10:07:47
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上周我們講到了PCB基本概念和鉆孔的一些基本知識(shí),那么本篇內(nèi)容,小編將以pcb圖形轉(zhuǎn)移和阻焊等方向,為大家詳細(xì)介紹其他PCB工藝制程能力。如果對(duì)該內(nèi)容感興趣的朋友可以關(guān)注公眾號(hào)【華秋電子】,并查看
2023-08-31 15:54:29
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定向自組裝光刻技術(shù)通過(guò)材料科學(xué)與自組裝工藝的深度融合,正在重構(gòu)納米制造的工藝組成。主要內(nèi)容包含圖形結(jié)構(gòu)外延法、化學(xué)外延法及圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)。
2025-05-21 15:24:25
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圖形反轉(zhuǎn)工藝用于金屬層剝離的研究研究了AZ?5214 膠的正、負(fù)轉(zhuǎn)型和形成適用于剝離技術(shù)的倒臺(tái)面圖形的工藝技術(shù)。用掃描電鏡和臺(tái)階儀測(cè)試制作出的光刻膠斷面呈倒臺(tái)面,傾角約為60°,膠厚1?4μm。得到
2009-10-06 10:05:30
親愛(ài)的先生,我正在使用來(lái)自Cyu***的實(shí)用工具0YFFLoad下載在使用FX2LP的MMA設(shè)備中的固件,但是我得到了“控制錯(cuò)誤轉(zhuǎn)移錯(cuò)誤”。有什么具體的事情需要我檢查嗎????我知道這是非常小的信息
2019-06-12 15:51:45
轉(zhuǎn)移指令的原理是什么?
2022-01-20 06:16:13
轉(zhuǎn)移類(lèi)指令有哪些分類(lèi)?
2022-01-20 06:35:15
I3C 控制器角色轉(zhuǎn)移如何實(shí)現(xiàn)
2025-03-14 10:08:50
MATLAB建立和控制圖形窗口和坐標(biāo)系命令建立和控制圖形窗口 Figure 建立圖形 Gcf 獲取當(dāng)前圖形的句柄 Clf 清除當(dāng)前圖形 Close 關(guān)閉圖形 建立和控制坐標(biāo)系
2009-09-22 16:00:57
銜接上文,繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。如圖,第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移的目的為:利用光化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上,再利用化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路在印制板上制作
2023-02-17 11:46:54
,圖形轉(zhuǎn)移的首件確認(rèn)工作,絕大多數(shù)情況下,并不在圖形轉(zhuǎn)移確認(rèn),而是在AOI,而AOI,其實(shí)也是圖形轉(zhuǎn)移的檢驗(yàn)子流程之一。只不過(guò),因?yàn)榇俗恿鞒谭浅V匾?,為了更好地確保所生產(chǎn)出線(xiàn)路圖形的品質(zhì),與便于生產(chǎn)管理
2023-02-27 10:48:09
,圖形轉(zhuǎn)移的首件確認(rèn)工作,絕大多數(shù)情況下,并不在圖形轉(zhuǎn)移確認(rèn),而是在AOI,而AOI,其實(shí)也是圖形轉(zhuǎn)移的檢驗(yàn)子流程之一。只不過(guò),因?yàn)榇俗恿鞒谭浅V匾?,為了更好地確保所生產(chǎn)出線(xiàn)路圖形的品質(zhì),與便于生產(chǎn)管理
2023-02-27 11:10:48
就被轉(zhuǎn)移到板子上了。其整個(gè)工藝流程如下圖。對(duì)于設(shè)計(jì)人員來(lái)說(shuō),我們最主要考慮的是布線(xiàn)的最小線(xiàn)寬、間距的控制及布線(xiàn)的均勻性。因?yàn)殚g距過(guò)小會(huì)造成夾膜,膜無(wú)法褪盡造成短路。線(xiàn)寬太小,膜的附著力不足,造成線(xiàn)路
2019-03-12 06:30:00
、寫(xiě)操作時(shí)序中,SDRAM地址、數(shù)據(jù)、控制信號(hào)和RAM部分的地址、數(shù)據(jù)、讀寫(xiě)控制信號(hào)均由有限狀態(tài)機(jī)產(chǎn)生,因此在狀態(tài)轉(zhuǎn)移過(guò)程中還必須仔細(xì)考慮RAM部分輸出控制信號(hào)的時(shí)序關(guān)系。4 VHDL實(shí)現(xiàn)硬件描述
2019-06-10 05:00:08
工藝都突出,所以許多問(wèn)題最后都反映在它上面。同時(shí),這也是由于蝕刻是自貼膜,感光開(kāi)始的一個(gè)長(zhǎng)系列工藝中的最后一環(huán),之后,外層圖形即轉(zhuǎn)移成功了。環(huán)節(jié)越多,出現(xiàn)問(wèn)題的可能性就越大。這可以看成是印制電路
2018-04-05 19:27:39
這里是PCB印刷電路板制造工藝系列節(jié)目,我會(huì)分多期視頻,帶您全面了解PCB印刷電路板的整個(gè)制造過(guò)程。我會(huì)針對(duì)每一個(gè)單一環(huán)節(jié)做深度的講解,其中包括鉆孔、沉銅、電鍍、LDI曝光等流程,也會(huì)給您分析在
2023-02-14 10:15:57
這里是PCB印刷電路板制造工藝系列視頻,會(huì)分多期視頻,帶您全面了解PCB印刷電路板的整個(gè)制造過(guò)程。并且會(huì)針對(duì)每一個(gè)單一環(huán)節(jié)做深度的講解,其中包括鉆孔、沉銅、電鍍、LDI曝光等流程,也會(huì)給您分析在
2023-02-27 10:04:30
什么是圖形顯示控制器(GDC)?圖形顯示控制器(GDC)有什么作用?
2021-05-11 06:06:30
式電鍍、垂直連續(xù)電鍍。(參看下圖)【龍門(mén)式電鍍】【垂直連續(xù)電鍍】而如果縱觀整個(gè)行業(yè)來(lái)看,可以基于產(chǎn)品對(duì)工藝的要求,而區(qū)分為:全板電鍍、圖形電鍍、填孔電鍍。關(guān)于全板電鍍與圖形電鍍,在行業(yè)內(nèi)的應(yīng)用基本是全
2023-02-10 11:59:46
,印制板的模版使用,是貫穿于整個(gè)多層印制板的制作加工過(guò)程的。它包括生產(chǎn)工具中重氮片模版的翻制、內(nèi)層圖形的轉(zhuǎn)移制作、外層圖形的轉(zhuǎn)移制作、阻焊膜圖形制作和字符圖形的制作?! ? 印制模版制作工藝技術(shù)及要求
2018-08-31 14:13:13
近年來(lái)制造雙面孔金屬化印制板的典型工藝是SMOBC法和圖形電鍍法。在某些特定場(chǎng)合也有使用工藝導(dǎo)線(xiàn)法?! ? 圖形電鍍工藝流程 覆箔板 --> 下料 --> 沖鉆基準(zhǔn)孔 -->
2018-09-14 11:26:07
→曝光→顯影(貼干膜→曝光→顯影)→形成負(fù)相圖象→圖形鍍銅→圖形電鍍金屬抗蝕層→去膜→蝕刻→進(jìn)入下工序 圖像轉(zhuǎn)移有兩種方法,一種是網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移
2010-03-09 16:22:39
單面板工藝流程 下料磨邊→鉆孔→外層圖形→(全板鍍金)→蝕刻→檢驗(yàn)→絲印阻焊→(熱風(fēng)整平)→絲印字符→外形加工→測(cè)試→檢驗(yàn) 雙面板噴錫板工藝流程 下料磨邊→鉆孔→沉銅加厚→外層圖形→鍍錫
2018-08-29 10:53:03
不同的工藝流程做詳細(xì)的介紹?! ?、單面板工藝流程下料磨邊→鉆孔→外層圖形→(全板鍍金)→蝕刻→檢驗(yàn)→絲印阻焊→(熱風(fēng)整平)→絲印字符→外形加工→測(cè)試→檢驗(yàn)?! ?、雙面板噴錫板工藝流程下料磨邊→鉆孔→沉銅
2017-12-19 09:52:32
我下載了最新的MLA,找到了有用的USB演示。但是我沒(méi)有發(fā)現(xiàn)任何在PIC18上使用控制轉(zhuǎn)移的演示。有人試圖實(shí)現(xiàn)它嗎?
2019-08-05 06:04:17
就被轉(zhuǎn)移到板子上了。其整個(gè)工藝流程如下圖。對(duì)于設(shè)計(jì)人員來(lái)說(shuō),我們最主要考慮的是布線(xiàn)的最小線(xiàn)寬、間距的控制及布線(xiàn)的均勻性。因?yàn)殚g距過(guò)小會(huì)造成夾膜,膜無(wú)法褪盡造成短路。線(xiàn)寬太小,膜的附著力不足,造成線(xiàn)路
2018-09-20 17:29:41
銜接上文,繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。如圖,第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移的目的為:利用光化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上,再利用化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路在印制板上制作
2023-02-17 11:54:22
對(duì)于PCB生產(chǎn)工藝的基礎(chǔ)知識(shí)了解較少,請(qǐng)?jiān)倏聪聢D:如圖,單從流程上看,其實(shí)負(fù)片和正片的最大差異就是,是否需要在圖形轉(zhuǎn)移中的“顯影”之后,再進(jìn)行“圖形電鍍”。如果再結(jié)合PCB的截面變化來(lái)看,顯然,正片
2022-12-08 13:56:51
對(duì)于PCB生產(chǎn)工藝的基礎(chǔ)知識(shí)了解較少,請(qǐng)?jiān)倏聪聢D:如圖,單從流程上看,其實(shí)負(fù)片和正片的最大差異就是,是否需要在圖形轉(zhuǎn)移中的“顯影”之后,再進(jìn)行“圖形電鍍”。如果再結(jié)合PCB的截面變化來(lái)看,顯然,正片
2022-12-08 13:47:17
。導(dǎo)致了濕膜的后續(xù)生產(chǎn)問(wèn)題較多,過(guò)程控制起來(lái)困難,最終濕膜***膜取代了。 隨著PCB裝配技術(shù)發(fā)展,以及PCB的線(xiàn)條和線(xiàn)間距愈來(lái)愈小、精度和密度要求也提高了,傳統(tǒng)干膜在這樣的PCB圖形轉(zhuǎn)移
2018-08-29 10:20:48
刻蝕•光刻就是在光刻膠上形成圖形•下一步就是將光刻膠上的圖形通過(guò)刻蝕轉(zhuǎn)移到光刻膠下面的層上•刻蝕工藝分為濕法和干法刻蝕的品質(zhì)•刻
2010-06-21 17:29:40
73 在材料科學(xué)領(lǐng)域,鐳射轉(zhuǎn)移復(fù)合紙剝離試驗(yàn)機(jī)作為一種先進(jìn)的測(cè)試設(shè)備,發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。這種試驗(yàn)機(jī)主要用于研究各種材料的剝離性能,特別是在紙張、塑料、金屬等材料的復(fù)合剝離方面,具有廣泛的應(yīng)用價(jià)值。一
2023-10-30 16:29:48
介紹了在QNX實(shí)時(shí)操作系統(tǒng)圖形界面開(kāi)發(fā)環(huán)境PhAB下軟件設(shè)計(jì)的特點(diǎn),并結(jié)合船舶動(dòng)力裝置控制系統(tǒng)的具體要求,設(shè)計(jì)了船舶動(dòng)力裝置控制系統(tǒng)圖形控制界面和程序。
2010-07-08 14:41:41
32 控制轉(zhuǎn)移指令用于控制程序的流向,所控制的范圍即為程序存儲(chǔ)器區(qū)間,MCS-51系列單片機(jī)的控制轉(zhuǎn)移指令相對(duì)豐富,有可對(duì)64kB程序空間地址單元進(jìn)行訪(fǎng)問(wèn)的長(zhǎng)調(diào)用、長(zhǎng)轉(zhuǎn)移指令,也
2006-04-03 22:45:08
1456 精密圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)控制要點(diǎn)一·高密度FPC柔性電路圖形轉(zhuǎn)移
2006-04-16 21:18:14
1286 引 言:PCB制造工藝(Technology)中,無(wú)論是單、雙面板及多層板(MLB
2006-04-16 21:18:21
1397 圖形液晶顯示實(shí)驗(yàn)
一. 實(shí)驗(yàn)?zāi)康牧私?b class="flag-6" style="color: red">圖形液晶模塊(單色)的控制方法,實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單圖形顯示算法。二. 實(shí)驗(yàn)設(shè)備及器件IBM PC
2008-09-26 15:56:20
3561 控制轉(zhuǎn)移指令
控制轉(zhuǎn)移類(lèi)指令用于控制程序的走向,故其作用區(qū)間是程序存儲(chǔ)器空間。利用具有16位地址的長(zhǎng)調(diào)用、長(zhǎng)轉(zhuǎn)移指令可對(duì)64K程序存儲(chǔ)器的任一地址單元進(jìn)行訪(fǎng)問(wèn),也可
2009-03-14 15:34:56
2450 電鍍工藝知識(shí)資料
一. 電鍍工藝的分類(lèi):酸性光亮銅電鍍 電鍍鎳/金 電鍍錫 二. 工藝流程:浸酸→全板電鍍銅→圖形轉(zhuǎn)移→酸性除油→二級(jí)逆
2009-04-08 17:58:50
1795 PCB油墨選用知識(shí) (液態(tài)感光線(xiàn)路油墨應(yīng)用工藝)
引 言 : CB制造工藝(Technology)中,無(wú)論是單、雙面板及多層板(MLB),最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移,即將照相底
2009-04-08 18:01:37
4694 在圖形轉(zhuǎn)移工藝時(shí)檢測(cè)板上余膠的方法
在圖形轉(zhuǎn)移工藝時(shí)如何檢測(cè)板上的余膠?方法有二: 方法一、將板放入1%甲基紫酒精水溶液或1-2%
2010-03-11 15:22:02
1087 描述觸發(fā)器的邏輯功能還可以采用圖形方式,即狀態(tài)轉(zhuǎn)移圖來(lái)描述。圖13-4為基本觸發(fā)器的狀態(tài)轉(zhuǎn)移圖。圖中兩
2010-08-13 09:31:41
24315 
一、高密度多層板圖形轉(zhuǎn)移工藝控制技術(shù)
2010-10-22 17:29:39
946 圖形轉(zhuǎn)移就是將照相底版圖形轉(zhuǎn)移到敷銅箔基材上,是PCB制造工藝中重要的一環(huán),其工藝方法有很多,如絲網(wǎng)印刷圖形轉(zhuǎn)移工藝、干膜圖形轉(zhuǎn)移工藝、液態(tài)光致抗蝕劑圖形轉(zhuǎn)
2010-10-25 16:29:58
841 狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣是現(xiàn)代控制理論的重要概念,在線(xiàn)性控制系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)分析起著重要的作用。分別對(duì)連續(xù)時(shí)間線(xiàn)性時(shí)變系統(tǒng).判斷矩陣函數(shù)一線(xiàn)性系統(tǒng)狀態(tài)轉(zhuǎn)移矩陣的充分條件,并求出了其對(duì)
2011-05-23 15:35:52
0 本文詳細(xì)介紹了已在實(shí)際項(xiàng)目中應(yīng)用的基于FPGA的圖形式AMLCD控制器設(shè)計(jì),這種設(shè)計(jì)方法稍作修改即可應(yīng)用于常見(jiàn)VGA視頻接口電路的設(shè)計(jì)。
2011-12-21 10:38:20
1783 
隨著電子產(chǎn)品高精度成像的需求,對(duì)印制電路板的設(shè)計(jì)與制造的要求也越來(lái)越高。這推動(dòng)了PCB生產(chǎn)所需的曝光設(shè)備的研制。為此研發(fā)出平行光曝光設(shè)備是制作密集細(xì)線(xiàn)路的關(guān)鍵。文章介紹了平行曝光機(jī)工作原理及圖形轉(zhuǎn)移技術(shù),跟隨小編來(lái)詳細(xì)的了解一下吧。
2018-04-10 16:05:28
10056 
根據(jù)國(guó)家行業(yè)標(biāo)準(zhǔn) HG20505-92《過(guò)程檢測(cè)和控制系統(tǒng)用文字代號(hào)和圖形符號(hào)》,我們參照 GB2625-81 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、化工自控常用圖形及文字代號(hào)為大家整理如下。
2018-10-05 16:58:00
36664 每一個(gè)項(xiàng)目在投標(biāo)前都會(huì)經(jīng)設(shè)計(jì)院設(shè)計(jì)工藝流程圖,然后投標(biāo)者依據(jù)流程圖上標(biāo)識(shí)的DCS控制點(diǎn)及設(shè)備連接線(xiàn)路和連鎖來(lái)分析控制原理。但是對(duì)于剛剛接觸DCS行業(yè)的人員,或非自動(dòng)化專(zhuān)業(yè)人員,難免會(huì)遇到無(wú)法正確識(shí)別DCS工藝流程圖中圖形符號(hào)的困擾,導(dǎo)致無(wú)法正確讀圖。
2018-10-03 18:26:00
82163 圖形化工藝是要在晶圓內(nèi)和表面層建立圖形的一系列加工,這些圖形根據(jù)集成電路中物理部件的要求來(lái)確定其尺寸和位置。 圖形化工藝還包括光刻、光掩模、掩模、去除氧化膜、去除金屬膜和微光刻。圖形化工藝是半導(dǎo)體
2018-12-03 16:46:01
2618 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是PCB的生產(chǎn)工藝流程資料免費(fèi)下載。1、開(kāi)料,2、鉆孔3、沉銅,4、圖形轉(zhuǎn)移,5、圖形電鍍,6、退膜,7、蝕刻,8、AOI 檢測(cè),9、綠油,10、字符,11、鍍金手指,12、鍍錫板,13、烘烤,14、成型,15、測(cè)試,16、終檢,17、包裝好之后,就可以出貨了
2019-03-07 08:00:00
0 據(jù)悉,Micro LED應(yīng)用的商業(yè)化取決于何時(shí)可以克服巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)的瓶頸,這項(xiàng)技術(shù)也正是制造Micro LED顯示器的關(guān)鍵工藝。
2019-03-26 14:16:53
2339 A * STAR和Soitec宣布推出聯(lián)合計(jì)劃,以開(kāi)發(fā)全新先進(jìn)封裝層轉(zhuǎn)移工藝,具備成本競(jìng)爭(zhēng)力的全新晶圓到晶圓層轉(zhuǎn)移工藝可幫助實(shí)現(xiàn),基于微電子研究院的晶圓級(jí)扇出封裝(FOWLP)和2.5D硅中介層
2019-03-27 12:25:00
1150 PCB板的一般工藝流程包括: 開(kāi)料--鉆孔--沉銅--圖形轉(zhuǎn)移--圖形電鍍--蝕刻--阻焊--字符--表面處理--啤鑼--終檢--包裝出貨。開(kāi)料和鉆孔對(duì)于多數(shù)PCB愛(ài)好者來(lái)說(shuō)不難理解,所以本文
2019-07-24 14:57:51
30263 
基板的表面處理—— 》涂布(絲?。奉A(yù)烘——》曝光——》顯影——》干燥——》檢查——》蝕刻——》褪膜——》檢查 (備注:內(nèi)層板)
基板的表面處理—— 》涂布(絲印)——》預(yù)烘——》曝光——》顯影——》干燥——》檢查——》電鍍——》褪膜——》蝕刻——》檢查 (備注:外層板)
2019-07-05 14:47:32
3352 
圖形轉(zhuǎn)移是制造高密度多層板的關(guān)鍵控制點(diǎn),也是技術(shù)難點(diǎn),其質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響多層板的合格率。所以,在制作過(guò)程中,必須要達(dá)到以下幾點(diǎn):
2019-04-28 14:50:38
3387 圖形顯示控制器(GDC)是位于車(chē)輛信息和娛樂(lè)系統(tǒng)中心的關(guān)鍵引擎,通常這些信息娛樂(lè)系統(tǒng)包括需要各類(lèi)人機(jī)接口的頭端單元和全配置的各種儀器。開(kāi)始為日本和歐洲市場(chǎng)上的高端車(chē)輛中的導(dǎo)航系統(tǒng)設(shè)計(jì)的圖形顯示控制器,現(xiàn)在已經(jīng)出現(xiàn)在世界各地的各種型號(hào)的中檔乃至低端車(chē)輛中。在車(chē)輛的娛樂(lè)系統(tǒng)中也在采用。
2019-05-12 09:25:40
2773 
在印制電路板的制作工藝中,圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵工序,以前常用干膜工藝來(lái)進(jìn)行印制電路圖形的轉(zhuǎn)移?,F(xiàn)在,濕膜主要用于多層印制電路板的內(nèi)層線(xiàn)路圖形的制作和雙面及多層板的外層線(xiàn)路圖形的制作。
2019-05-21 16:51:42
7062 在印制板的制作工藝中,圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵工序,以前常用干膜工藝來(lái)進(jìn)行印制電路圖形的轉(zhuǎn)移。
2019-11-15 11:20:22
2152 最早PCB生產(chǎn)過(guò)程的圖形轉(zhuǎn)移材料采用濕膜,隨著濕膜的不斷使用和PCB的技術(shù)要求提高
2019-10-20 09:10:25
5982 在PCB制作中我們會(huì)提到圖形轉(zhuǎn)移這個(gè)概念,因?yàn)閷?dǎo)電圖形的制作是PCB制作的根本。
2019-08-26 10:38:19
661 與過(guò)去相比,研究人員現(xiàn)在已經(jīng)將EUVL作為存儲(chǔ)器關(guān)鍵結(jié)構(gòu)的圖形化工藝的一個(gè)選項(xiàng),例如DRAM的柱體結(jié)構(gòu)及STT-MRAM的MTJ。在本文的第二部分,IMEC的研發(fā)工程師Murat Pak提出了幾種STT-MRAM關(guān)鍵結(jié)構(gòu)的圖形化方案。
2019-09-05 11:45:00
9114 中的用途為圖形轉(zhuǎn)移中的感光掩膜圖形,包括線(xiàn)路圖形和光致阻圖形;網(wǎng)印工藝中的絲網(wǎng)膜的制作,包括阻焊圖形和字符;機(jī)加工(鉆孔和外形銑)數(shù)控機(jī)床編程依據(jù)及鉆孔參考。 基板材料 覆銅箔層壓板(Copper Clad Laminaters,CLL),簡(jiǎn)稱(chēng)覆銅箔層或覆銅板,是制
2020-11-13 10:31:46
3894 在PCB制作中我們會(huì)提到圖形轉(zhuǎn)移這個(gè)概念,因?yàn)閷?dǎo)電圖形的制作是PCB制作的根本。所以圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程對(duì)PCB制作來(lái)說(shuō),有非常重要的意義。
2021-01-20 17:29:05
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文章目錄前言一、無(wú)條件轉(zhuǎn)移指令LJMP addr16AJMP addr11SJMP relJMP @A + DPTR關(guān)于SJMP、AJMP、LJMP的選擇二、條件轉(zhuǎn)移指令JZ rel前言控制指令是將
2021-11-23 09:06:02
153 法: 通過(guò)網(wǎng)印或曝光形成圖形,經(jīng)鉆孔、沉銅、轉(zhuǎn)移層壓等工藝加工,直接將導(dǎo)電圖形制作在絕緣基材上。 ?減成法: 在覆銅箔基材上,通過(guò)鉆孔、孔金屬化、圖形轉(zhuǎn)移、電鍍、蝕刻或雕刻等工藝加工,選擇性地去除部分銅箔,形成導(dǎo)電圖形。 ?半加成法: 將
2022-11-24 18:10:03
2062 SADP 技術(shù)先利用浸沒(méi)式光刻機(jī)形成節(jié)距較大的線(xiàn)條,再利用側(cè)墻圖形轉(zhuǎn)移的方式形成 1/2 節(jié)距的線(xiàn)條,這種技術(shù)比較適合線(xiàn)條排列規(guī)則的圖形層,如 FinFET 工藝中的 Fin 或后段金屬線(xiàn)條。
2022-11-25 10:14:44
12823 繼續(xù)為朋友們分享關(guān)于PCB生產(chǎn)工藝的知識(shí)。 現(xiàn)代PCB生產(chǎn)工藝,目前主要分為:加成法、減成法與半加成法。 其具體定義如下: 加成法: 通過(guò)網(wǎng)印或曝光形成圖形,經(jīng)鉆孔、沉銅、轉(zhuǎn)移層壓等工藝加工,直接將
2022-11-25 10:39:17
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? 請(qǐng)看下圖: 當(dāng)然,這樣是不夠直觀的,假如朋友們對(duì)于PCB生產(chǎn)工藝的基礎(chǔ)知識(shí)了解較少,請(qǐng)?jiān)倏聪聢D: 如圖,單從流程上看,其實(shí)負(fù)片和正片的最大差異就是,是否需要在圖形轉(zhuǎn)移中的“顯影”之后,再進(jìn)行“圖形電鍍”。 如果再結(jié)合PCB的
2022-12-08 18:15:03
2927 刻蝕是移除晶圓表面材料,達(dá)到IC設(shè)計(jì)要求的一種工藝過(guò)程??涛g有兩種:一種為圖形 化刻蝕,這種刻蝕能將指定區(qū)域的材料去除,如將光刻膠或光刻版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底薄膜 上
2023-02-01 09:09:35
4217 銜接上文,繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖,第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為: 利用光化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上,再利用化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路在印制板上制作
2023-02-16 21:00:07
3637 銜接上文,繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖,第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為: 利用光化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上,再利用化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路在印制板上制作
2023-02-17 11:59:00
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我們以多層板的工藝流程作為PCB工藝介紹的引線(xiàn),選擇其中的圖形電鍍工藝進(jìn)行流程說(shuō)明
2023-03-07 11:50:54
5095 銜接上文,繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。 如圖,第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。 圖形轉(zhuǎn)移的目的為: 利用光化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上,再利用化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路在印制板上制作
2023-04-06 09:20:03
1726 繼續(xù)為朋友們分享關(guān)于PCB生產(chǎn)工藝的知識(shí)?,F(xiàn)代PCB生產(chǎn)工藝,目前主要分為:加成法、減成法與半加成法。其具體定義如下:加成法:通過(guò)網(wǎng)印或曝光形成圖形,經(jīng)鉆孔、沉銅、轉(zhuǎn)移層壓等工藝加工,直接將導(dǎo)電圖形
2022-11-25 11:39:50
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對(duì)于PCB生產(chǎn)工藝的基礎(chǔ)知識(shí)了解較少,請(qǐng)?jiān)倏聪聢D:如圖,單從流程上看,其實(shí)負(fù)片和正片的最大差異就是,是否需要在圖形轉(zhuǎn)移中的“顯影”之后,再進(jìn)行“圖形電鍍”。如果再
2022-12-08 15:28:04
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銜接上文,繼續(xù)為朋友們分享普通單雙面板的生產(chǎn)工藝流程。如圖,第五道主流程為圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移的目的為:利用光化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路的形狀轉(zhuǎn)移到印制板上,再利用化學(xué)原理,將圖形線(xiàn)路在印制板上制作
2023-02-17 13:52:20
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上周我們講到了PCB基本概念和鉆孔的一些基本知識(shí),那么本篇內(nèi)容,小編將以pcb圖形轉(zhuǎn)移和阻焊等方向,為大家詳細(xì)介紹其他PCB工藝制程能力。如果對(duì)該內(nèi)容感興趣的朋友可以關(guān)注公眾號(hào)【華秋電子】,并查看
2023-08-31 15:51:34
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也有其獨(dú)到之處。其中最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移,即將照相底版圖形轉(zhuǎn)移到陶瓷基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點(diǎn),也是技術(shù)難點(diǎn)所在。其工藝方法有很多,如絲網(wǎng)印刷(Screen Printing
2023-09-12 11:31:51
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持續(xù)的器件微縮導(dǎo)致特征尺寸變小,工藝步驟差異變大,工藝窗口也變得越來(lái)越窄[1]。半導(dǎo)體研發(fā)階段的關(guān)鍵任務(wù)之一就是尋找工藝窗口較大的優(yōu)秀集成方案。如果晶圓測(cè)試數(shù)據(jù)不足,評(píng)估不同集成方案的工藝窗口會(huì)變得困難。為克服這一不足,我們將舉例說(shuō)明如何借助虛擬制造評(píng)估 DRAM 電容器圖形化工藝的工藝窗口。
2023-11-16 16:55:04
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以工藝窗口建模探索路徑:使用虛擬制造評(píng)估先進(jìn)DRAM電容器圖形化的工藝窗口
2023-11-23 09:04:42
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半導(dǎo)體前端工藝(第四篇):刻蝕——有選擇性地刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形
2023-11-27 16:54:26
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另外一種工藝方法是整個(gè)板子上都鍍銅,感光膜以外的部分僅僅是錫或鉛錫抗蝕層。這種工藝稱(chēng)為“全板鍍銅工藝“。與圖形電鍍相比,全板鍍銅的缺點(diǎn)是板面各處都要鍍兩次銅而且蝕刻時(shí)還必須都把它們腐蝕掉。
2023-12-06 15:03:45
2207 微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移母版掩膜版(Photomask)又稱(chēng)光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版,是圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。
2024-01-06 11:33:55
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圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言,負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)膠工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下,通過(guò)適當(dāng)?shù)?b class="flag-6" style="color: red">工藝參數(shù),可以獲得底切的側(cè)壁
2024-07-09 16:06:00
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刻蝕工藝的核心機(jī)理與重要性 刻蝕工藝是半導(dǎo)體圖案化過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),與光刻機(jī)和薄膜沉積設(shè)備并稱(chēng)為半導(dǎo)體制造的三大核心設(shè)備??涛g的主要作用是將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到功能膜層,具體而言,是通過(guò)物理及化學(xué)
2025-04-27 10:42:45
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一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過(guò)光刻膠在特殊波長(zhǎng)光線(xiàn)或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝過(guò)程,將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)
2025-06-09 15:51:16
2128 引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻圖形線(xiàn)寬變化直接影響器件性能與集成度。精確控制光刻圖形線(xiàn)寬是保障工藝精度的關(guān)鍵。本文將介紹改善光刻圖形線(xiàn)寬變化的方法,并探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中
2025-06-30 15:24:55
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引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻圖形的垂直度對(duì)器件的電學(xué)性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準(zhǔn)控制光刻圖形垂直度是保障先進(jìn)制程工藝精度的關(guān)鍵。本文將系統(tǒng)介紹改善光刻圖形垂直度的方法,并
2025-06-30 09:59:13
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晶圓蝕刻與擴(kuò)散是半導(dǎo)體制造中兩個(gè)關(guān)鍵工藝步驟,分別用于圖形化蝕刻和雜質(zhì)摻雜。以下是兩者的工藝流程、原理及技術(shù)要點(diǎn)的詳細(xì)介紹:一、晶圓蝕刻工藝流程1.蝕刻的目的圖形化轉(zhuǎn)移:將光刻膠圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面
2025-07-15 15:00:22
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的均勻性直接影響光刻工藝中曝光深度、圖形轉(zhuǎn)移精度等關(guān)鍵參數(shù) 。當(dāng)前,如何優(yōu)化玻璃晶圓 TTV 厚度在光刻工藝中的反饋控制,以提高光刻質(zhì)量和生產(chǎn)效率,成為亟待研究的重要
2025-10-09 16:29:24
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在半導(dǎo)體濕法腐蝕工藝中,選擇合適的掩模圖形以控制腐蝕區(qū)域是一個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)。以下是一些重要的考慮因素和方法: 明確設(shè)計(jì)目標(biāo)與精度要求 根據(jù)器件的功能需求確定所需形成的微觀結(jié)構(gòu)形狀、尺寸及位置精度。例如
2025-10-27 11:03:53
312 導(dǎo)語(yǔ) 顯影工藝作為光刻制程的核心環(huán)節(jié),直接決定晶圓圖形轉(zhuǎn)移的精度與良率。顯影濕法設(shè)備憑借高均勻性噴淋、精準(zhǔn)溫度控制及智能缺陷攔截系統(tǒng),突破16nm以下制程的顯影挑戰(zhàn),為邏輯芯片、存儲(chǔ)器件及先進(jìn)封裝
2025-12-24 15:03:51
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評(píng)論