2019年10月9日消息，近日，半導(dǎo)體制造商臺(tái)積電公布了9月份營(yíng)收?qǐng)?bào)告，報(bào)告顯示，該公司2019年9月營(yíng)收約為1021.7億元（約合237億元人民幣）同比增長(zhǎng)7.6%。同時(shí)，臺(tái)積電宣布7納米制程技術(shù)（N7）超過(guò)一年時(shí)間的情況下，使用EUV技術(shù)的N7+良率與N7已相當(dāng)接近；6納米制程技術(shù)（N6）也將于2020年第1季試產(chǎn)、年底前量產(chǎn)。 受到諸多利好消息影響，臺(tái)積電的股價(jià)節(jié)節(jié)攀升，總市值達(dá)到2482億美元超越英特爾，成為半導(dǎo)體行業(yè)第一。

據(jù)臺(tái)積電稱，采用EUV光刻技術(shù)的N7+（7nm+）工藝已經(jīng)大批量的供應(yīng)客戶，但官方?jīng)]有透露具體的合作廠商，目前唯一可完全確認(rèn)的就是華為麒麟990 5G，AMD下一代Zen 3架構(gòu)將使用7nm+工藝。

臺(tái)積電的EUV光刻技術(shù)技術(shù)是全行業(yè)首個(gè)商用EUV極紫外光刻技術(shù)的工藝，其EUV光刻機(jī)已經(jīng)能穩(wěn)定輸出日常生產(chǎn)需求的250W功率，完全滿足現(xiàn)在及未來(lái)新工藝的需求。7nm+是臺(tái)積電史上最快量產(chǎn)的工藝之一，并且良品率已經(jīng)達(dá)到了一年以前的7nm工藝的水平，N7+（7nm+）工藝將會(huì)給產(chǎn)品帶來(lái)15%-20%的晶體管密度提升，進(jìn)一步降低芯片功耗。

目前，在半導(dǎo)體領(lǐng)域臺(tái)積電已經(jīng)一馬當(dāng)先走在的最前沿，其已經(jīng)在計(jì)劃量產(chǎn)6納米制程工藝，而其最大的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手三星，雖然此前在7nm工藝節(jié)點(diǎn)上引入EVU，但是產(chǎn)品的良品率始終困擾著三星，在進(jìn)度方面明顯和臺(tái)積電拉開了差距。