91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

中芯國際與ASML光刻機問題解決,開始進(jìn)入光刻階段

汽車玩家 ? 來源:快科技 ? 作者:快科技 ? 2019-12-10 16:04 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

半導(dǎo)體工藝進(jìn)入 10nm 節(jié)點之后,制造越來越困難,其中最復(fù)雜的一步——光刻需要用到 EUV 光刻機了,而后者目前只有荷蘭 ASML 阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國際去年也訂購了一臺 EUV 光刻機,日前該公司表示與 ASML 之間已解決光刻機的問題,EUV 技術(shù)研發(fā)步入正軌。

前不久有消息稱 ASML 停止對中芯國際供應(yīng) EUV 光刻機,隨后 ASML 公司表示不是停供,而是延期,主要是在準(zhǔn)備該國政府的出口申請文本工作。

中芯國際董事長周子學(xué)日前在韓國訪問,韓媒報道稱周子學(xué)表態(tài)已經(jīng)解決了與 ASML 之間就光刻機供應(yīng)存在的問題,強調(diào)中芯國際在先進(jìn)工藝上的研發(fā)、生產(chǎn)一直處于穩(wěn)定的軌道上,與客戶及設(shè)備供應(yīng)商之間沒有任何問題。

ASML 公司是 EUV 光刻機目前唯一的供應(yīng)商,今年四季度,ASML 預(yù)計交付 8 臺 EUV 光刻機,平均每臺價格達(dá)到了 1.2 億歐元,折合人民幣 9.3 億元,堪稱人類最昂貴的設(shè)備了。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 中芯國際
    +關(guān)注

    關(guān)注

    27

    文章

    1450

    瀏覽量

    67999
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    615

    瀏覽量

    88820
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV)光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?1w次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布EUV<b class='flag-5'>光刻機</b>路線圖,挑戰(zhàn)<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飆升!ASML光刻機直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統(tǒng)的光刻機設(shè)備,尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同?能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點問題? 針對2nm、3nm芯片制造難題,光刻機龍頭企業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 07-24 09:29 ?8294次閱讀
    AI需求飆升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻機</b>直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    壟斷 EUV 光刻機之后,阿斯麥劍指先進(jìn)封裝

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 當(dāng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)陷入 “先進(jìn)制程競賽” 的白熱化階段,極紫外(EUV)光刻機作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成為決定產(chǎn)業(yè)格局的核心力量。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球唯一
    的頭像 發(fā)表于 03-05 09:19 ?1880次閱讀

    國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機順利出廠

    近日,深圳穩(wěn)頂聚技術(shù)有限公司(簡稱“穩(wěn)頂聚”)宣布,其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機已成功出廠,標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚出廠的步進(jìn)式
    的頭像 發(fā)表于 10-10 17:36 ?2043次閱讀

    今日看點丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世;智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺

    全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世,精度比肩國際主流 ? 近日,全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測試階段
    發(fā)表于 08-15 10:15 ?3117次閱讀
    今日看點丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束<b class='flag-5'>光刻機</b>問世;智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺

    全球市占率35%,國內(nèi)90%!上微裝第500臺步進(jìn)光刻機交付

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,近日,上海上微裝科技股份有限公司(簡稱:上微裝,英文簡稱:AMIES)第500臺步進(jìn)光刻機成功交付,并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機 交付儀式。 ? ?
    發(fā)表于 08-13 09:41 ?2342次閱讀
    全球市占率35%,國內(nèi)90%!<b class='flag-5'>芯</b>上微裝第500臺步進(jìn)<b class='flag-5'>光刻機</b>交付

    光刻機實例調(diào)試#光刻機 #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備

    光刻機
    jf_90915507
    發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月啟用新光刻機工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用

    7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報道,日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
    的頭像 發(fā)表于 08-04 17:39 ?907次閱讀

    改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng),使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備,如極紫外(EUV)
    的頭像 發(fā)表于 06-30 15:24 ?976次閱讀
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?2066次閱讀

    ASML光刻 」勢力知識挑戰(zhàn)賽正式啟動

    ASML光刻」勢力知識挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起,是一項面向中國半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML
    的頭像 發(fā)表于 06-23 17:04 ?1279次閱讀
    <b class='flag-5'>ASML</b>杯<b class='flag-5'>光刻</b>「<b class='flag-5'>芯</b> 」勢力知識挑戰(zhàn)賽正式啟動

    MEMS制造領(lǐng)域中光刻Overlay的概念

    在 MEMS(微機電系統(tǒng))制造領(lǐng)域,光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層設(shè)計圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻
    的頭像 發(fā)表于 06-18 11:30 ?1919次閱讀
    MEMS制造領(lǐng)域中<b class='flag-5'>光刻</b>Overlay的概念

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長,尤
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?1432次閱讀

    不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時代的“心臟”,其制造過程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備,但實際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?4041次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機</b>!芯片制造的五大工藝大起底!