中芯國際表示深圳工廠進(jìn)口光刻機不是EUV光刻機
IT之家3月6日消息 據(jù)中國證券報報道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺大型光刻機，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴充，并非外界所稱的EUV光刻機。
IT之家今天早些時候報道，3月4日早上8點不到，中芯國際集成電路制造（深圳）有限公司從從荷蘭進(jìn)口的一臺大型光刻機順利通過出口加工區(qū)場站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū)，這臺機器主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴容。
據(jù)IT之家獲悉，EUV光刻機主要用于7nm及以下制程。中芯國際目前量產(chǎn)的最先進(jìn)制程為第一代FinFET 14nm，已貢獻(xiàn)2019年第四季度1%營收。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
中芯國際
+關(guān)注
關(guān)注
27文章
1450瀏覽量
67998 -
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1199瀏覽量
48928 -
EUV
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
615瀏覽量
88818
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)！
其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進(jìn)制程芯片 時代，不僅需要EUV光刻機，更需要
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公
AI需求飆升！ASML新光刻機直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光刻機龍頭企業(yè)ASML新款
壟斷 EUV 光刻機之后，阿斯麥劍指先進(jìn)封裝
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 當(dāng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)陷入 “先進(jìn)制程競賽” 的白熱化階段，極紫外（EUV）光刻機作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”，成為決定產(chǎn)業(yè)格局的核心力量。荷蘭阿斯麥（ASML）作為全球唯一
光刻機的“精度錨點”：石英壓力傳感器如何守護納米級工藝
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機
國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚
今日看點丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世；智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺
全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測試階段。該設(shè)備精度達(dá)到0.6nm，線寬
發(fā)表于 08-15 10:15
?3117次閱讀
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進(jìn)光刻機交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進(jìn)光刻機成功交付，并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機 交付儀式。 ? ?
發(fā)表于 08-13 09:41
?2337次閱讀
今日看點丨佳能再開新光刻機工廠；中國移動首款全自研光源芯片研發(fā)成功
? ? 時隔21年，佳能再開新光刻機工廠 ? 日前，據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》報道，佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式，這也是佳能時隔21年開設(shè)的首家新光刻機廠。
發(fā)表于 08-05 10:23
?2249次閱讀
佳能9月啟用新光刻機工廠，主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報道，日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?2054次閱讀
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
工商網(wǎng)監(jiān)
評論