一、技術(shù)發(fā)展方向半導(dǎo)體產(chǎn)品在由二維向三維發(fā)展，從技術(shù)發(fā)展方向半導(dǎo)體產(chǎn)品出現(xiàn)了系統(tǒng)級(jí)封裝（SiP）等新的封裝方式，從技術(shù)實(shí)現(xiàn)方法出現(xiàn)了倒裝（FlipChip），凸塊（Bumping），晶圓級(jí)封裝（Waferlevelpackage），2.5D封裝（interposer，RDL等），3D封裝（TSV）等先進(jìn)封裝技術(shù)。

SoC vs.SiP

SoC：全稱System-on-chip，系統(tǒng)級(jí)芯片，是芯片內(nèi)不同功能電路的高度集成的芯片產(chǎn)品。

SiP：全稱System-in-package，系統(tǒng)級(jí)封裝，是將多種功能芯片，包括處理器、存儲(chǔ)器等功能芯片集成在一個(gè)封裝內(nèi)，從而實(shí)現(xiàn)一個(gè)基本完整的功能。

隨著摩爾定律的放緩，半導(dǎo)體行業(yè)逐漸步入后摩爾時(shí)代，SoC與SiP都是實(shí)現(xiàn)更高性能，更低成本的方式。一般情況下，從集成度來講，SoC集成度更高，功耗更低，性能更好；而SiP的優(yōu)勢(shì)在靈活性更高，更廣泛的兼容兼容性，成本更低，生產(chǎn)周期更短。所以，面對(duì)生命周期相對(duì)較長的產(chǎn)品，SoC更加適用。對(duì)于生命周期短，面積小的產(chǎn)品，SiP更有優(yōu)勢(shì)，靈活性較高。

傳統(tǒng)封裝vs.先進(jìn)封裝

傳統(tǒng)封裝概念從最初的三極管直插時(shí)期后開始產(chǎn)生。傳統(tǒng)封裝過程如下：將晶圓切割為晶粒（Die）后，使晶粒貼合到相應(yīng)的基板架的小島（LeadframePad）上，再利用導(dǎo)線將晶片的接合焊盤與基板的引腳相連（WireBond），實(shí)現(xiàn)電氣連接，最后用外殼加以保護(hù)（Mold，或Encapsulation）。典型封裝方式有DIP、SOP、TSOP、QFP等。

先進(jìn)封裝主要是指倒裝（FlipChip），凸塊（Bumping），晶圓級(jí)封裝（Waferlevelpackage），2.5D封裝（interposer，RDL等），3D封裝（TSV）等封裝技術(shù)。先進(jìn)封裝在誕生之初只有WLP，2.5D封裝和3D封裝幾種選擇，近年來，先進(jìn)封裝的發(fā)展呈爆炸式向各個(gè)方向發(fā)展，而每個(gè)開發(fā)相關(guān)技術(shù)的公司都將自己的技術(shù)獨(dú)立命名注冊(cè)商標(biāo)，如臺(tái)積電的InFO、CoWoS，日月光的FoCoS，Amkor的SLIM、SWIFT等。盡管很多先進(jìn)封裝技術(shù)只有微小的區(qū)別，大量的新名詞和商標(biāo)被注冊(cè)，導(dǎo)致行業(yè)中出現(xiàn)大量的不同種類的先進(jìn)封裝，而其誕生通常是由客制化產(chǎn)品的驅(qū)動(dòng)。

IEEE在2018年5月的電子元件和技術(shù)大會(huì)上推出2.x式命名法，但這一命名方法的行業(yè)接受程度有待觀察。我們將在先進(jìn)封裝領(lǐng)域主要討論倒裝（FlipChip），凸塊（Bumping），晶圓級(jí)封裝（Waferlevelpackage），2.5D封裝（interposer，RDL等），3D封裝（TSV）等技術(shù)。

傳統(tǒng)封裝測(cè)試流程

封裝：集成電路封裝是半導(dǎo)體器件制造的最后一步。封裝是指將制作好的半導(dǎo)體器件放入具有支持，保護(hù)的塑料，陶瓷或金屬外殼中，并與外界驅(qū)動(dòng)電路及其他電子元器件相連這一過程。經(jīng)過封裝的半導(dǎo)體器件將可以在更高的溫度環(huán)境下工作，抵御物理的損害與化學(xué)腐蝕。封裝給半導(dǎo)體器件帶來了更佳的性能表現(xiàn)與耐用度。

測(cè)試：這里的半導(dǎo)體測(cè)試指的是封裝后測(cè)試。測(cè)試把已經(jīng)制造完畢的半導(dǎo)體元器件進(jìn)行結(jié)構(gòu)和電氣功能的確認(rèn)，測(cè)試的目的是排除電子功能差的芯片，以保證其各項(xiàng)性能符合系統(tǒng)的要求。測(cè)試也可以被稱為“終段測(cè)試”，與晶圓探針測(cè)試（封裝前測(cè)試）不同。

先進(jìn)封裝優(yōu)勢(shì)

先進(jìn)封裝提高加工效率，提高設(shè)計(jì)效率，減少設(shè)計(jì)成本。先進(jìn)封裝主要包括倒裝類（FlipChip,Bumping），晶圓級(jí)封裝（WLCSP，F(xiàn)OWLP，PLP），2.5D封裝（Interposer）和3D封裝（TSV）等。以晶圓級(jí)封裝為例，產(chǎn)品生產(chǎn)以圓片形式批量生產(chǎn)，可以利用現(xiàn)有的晶圓制備設(shè)備，封裝設(shè)計(jì)可以與芯片設(shè)計(jì)一次進(jìn)行。這將縮短設(shè)計(jì)和生產(chǎn)周期，降低成本。

先進(jìn)封裝提高封裝效率，降低產(chǎn)品成本。隨著后摩爾定律時(shí)代的到來，傳統(tǒng)封裝已經(jīng)不再能滿足需求。傳統(tǒng)封裝的封裝效率（裸芯面積/基板面積）較低，存在很大改良的空間。芯片制程受限的情況下，改進(jìn)封裝便是另一條出路。舉例來說，QFP封裝效率最高為30%，那么70%的面積將被浪費(fèi)。DIP、BGA浪費(fèi)的面積會(huì)更多。

先進(jìn)封裝以更高效率、更低成本、更好性能為驅(qū)動(dòng)。先進(jìn)封裝技術(shù)于上世紀(jì)90年代出現(xiàn)，通過以點(diǎn)帶線的方式實(shí)現(xiàn)電氣互聯(lián)，實(shí)現(xiàn)更高密度的集成，大大減小了對(duì)面積的浪費(fèi)。SiP技術(shù)及PoP技術(shù)奠定了先進(jìn)封裝時(shí)代的開局，2D集成技術(shù)，如WaferLevelPackaging（WLP，晶圓級(jí)封裝），F(xiàn)lip-Chip（倒晶），以及3D封裝技術(shù)，ThroughSiliconVia（硅通孔，TSV）等技術(shù)的出現(xiàn)進(jìn)一步縮小芯片間的連接距離，提高元器件的反應(yīng)速度，未來將繼續(xù)推進(jìn)著先進(jìn)封裝的腳步。

二、先進(jìn)封裝技術(shù)及發(fā)展趨勢(shì)

先進(jìn)封裝：Flip-Chip & BumpingFlipChip指的是芯片倒裝，以往的封裝技術(shù)都是將芯片的有源區(qū)面朝上，背對(duì)基板和貼后鍵合。而FlipChip則將芯片有源區(qū)面對(duì)著基板，通過芯片上呈陣列排列的焊料凸點(diǎn)（Bumping）實(shí)現(xiàn)芯片與襯底的互聯(lián)。硅片直接以倒扣方式安裝到PCB從硅片向四周引出I/O，互聯(lián)長度大大縮短，減小了RC（Resistance-Capacitance）延遲，有效的提高了電性能。 FlipChip的優(yōu)勢(shì)主要在于以下幾點(diǎn)：小尺寸，功能增強(qiáng)（增加I/O數(shù)量），性能增強(qiáng)（互聯(lián)短），提高了可靠性（倒裝芯片可減少2/3的互聯(lián)引腳數(shù)），提高了散熱能力（芯片背面可以有效進(jìn)行冷卻）。

Bumping是一種新型的芯片與基板間電氣互聯(lián)的方式?？梢酝ㄟ^小的球形導(dǎo)電材料實(shí)現(xiàn)，這種導(dǎo)電球體被稱為Bump，制作導(dǎo)電球這一工序被稱為Bumping。當(dāng)粘有Bump的晶粒被倒臵(Flip-Chip)并與基板對(duì)齊時(shí)，晶粒便很容易的實(shí)現(xiàn)了與基板Pad(觸墊)的連接。相比傳統(tǒng)的引線連接，F(xiàn)lip-Chip有著諸多的優(yōu)勢(shì)，比如更小的封裝尺寸與更快的器件速度。

FlipChip的關(guān)鍵一步是Bumping，可以通過在晶圓上制作外延材料來實(shí)現(xiàn)。當(dāng)芯片制作工序完成后，制造UBM（Underbumpmetallization）觸墊將被用于實(shí)現(xiàn)芯片和電路的連接，Bump也會(huì)被淀積與觸點(diǎn)之上。焊錫球（Solderball）是最常見的Bumping材料，但是根據(jù)不同的需求，金、銀、銅、鈷也是不錯(cuò)的選擇。對(duì)于高密度的互聯(lián)及細(xì)間距的應(yīng)用，銅柱是一種新型的材料。焊錫球在連接的時(shí)候會(huì)擴(kuò)散變形，而銅柱會(huì)很好的保持其原始形態(tài)，這也是銅柱能用于更密集封裝的原因。FlipChip是先進(jìn)封裝成長主要?jiǎng)恿?。根?jù)Yole預(yù)測(cè)，受移動(dòng)無線（尤其是智能手機(jī)）、LED、CMOS圖像傳感器的驅(qū)動(dòng)，倒裝芯片需求將從2014年的1600萬片（等效12寸晶圓）增長到2020年的3200萬片，市場(chǎng)產(chǎn)值將達(dá)到250億美元。

FlipChip產(chǎn)品對(duì)應(yīng)不同bumping類型增長速度不一。根據(jù)Yole預(yù)測(cè)，采用倒裝芯片技術(shù)的集成電路出貨量將保持穩(wěn)定增長，預(yù)計(jì)產(chǎn)能將以9.8%的復(fù)合年增長率擴(kuò)張，從2014年的約合1600萬片12寸晶圓增長到2020年的2800萬片。終端應(yīng)用主要為計(jì)算類芯片，如臺(tái)式機(jī)和筆記本電腦的CPU、GPU和芯片組應(yīng)用等。其中鍍金晶圓凸點(diǎn)（Au-platedwaferbumping）將穩(wěn)定增長，由于IC顯示驅(qū)動(dòng)器（4K2K超高清電視和高清晰度、大屏幕平板電腦和智能手機(jī)）的市場(chǎng)驅(qū)動(dòng)。預(yù)計(jì)產(chǎn)能將以4%的復(fù)合年增長率擴(kuò)大，從2014年的430萬片增長到2020年的540萬片。金釘頭凸點(diǎn)（Austudbumping）產(chǎn)能將略有下滑，從2014年的30.4萬片降到2020年的29.3萬片，主要原因是射頻器件從倒裝芯片轉(zhuǎn)移至晶圓級(jí)芯片尺寸封裝（WLCSP）。但是，新興應(yīng)用的需求將增加，如CMOS圖像傳感器模組、高亮度LED等。中道封裝技術(shù)需求增長，將帶來行業(yè)上下游的跨界競(jìng)爭(zhēng)。針對(duì)3DIC和2.5D中介層平臺(tái)的“中端工藝（middleend-process）”基礎(chǔ)設(shè)施的出現(xiàn)將使Fab和IDM受益，并在較小程度上分給OSAT。2.5D中介層平臺(tái)的發(fā)展將會(huì)產(chǎn)生價(jià)值的轉(zhuǎn)移，從襯底供應(yīng)商轉(zhuǎn)向前端代工廠。

先進(jìn)封裝：FIWLP&FOWLP，PLP首先我們先要提及Wafer-levelpackaging(WLP，晶圓級(jí)封裝)的概念。在傳統(tǒng)封裝概念中，晶圓是先被切割成小的晶粒，之后再進(jìn)行連接和塑封。而晶圓級(jí)封裝工序恰好相反，晶圓級(jí)封裝將晶粒在被切割前封裝完成，保護(hù)層將會(huì)被附著在晶圓的正面或是背面，電路連接在切割前已經(jīng)完成。

FIWLP：全稱Fan-inWafer-levelpackaging，又稱WLCSP（Wafer-levelChipScalePackage），扇入式晶圓級(jí)封裝，也就是傳統(tǒng)的晶圓級(jí)封裝，切割晶粒在最后進(jìn)行，適用于低引腳數(shù)的集成電路。隨著集成電路信號(hào)輸出的引腳數(shù)目的增加，焊錫球的尺寸也就變得越來越嚴(yán)格，PCB對(duì)集成電路封裝后尺寸以及信號(hào)輸出接腳位臵的調(diào)整需求得不到滿足，因此衍生出了扇出型晶圓級(jí)封裝。扇入晶圓級(jí)封裝的特征是封裝尺寸與晶粒同大小。

FOWLP:全稱Fan-outWafer-levelpackaging，扇出式晶圓級(jí)封裝，開始就將晶粒切割，再重布在一塊新的人工模塑晶圓上。它的優(yōu)勢(shì)在于減小了封裝的厚度，增大了扇出（更多的I/O接口），獲得了更優(yōu)異的電學(xué)性質(zhì)及更好的耐熱表現(xiàn)。

FIWLP與FOWLP用途不同，均為今后的主流封裝手段。FIWLP在模擬和混合信號(hào)芯片中用途最廣，其次是無線互聯(lián)，CMOS圖像傳感器也采用FIWLP技術(shù)封裝。FOWLP將主要用于移動(dòng)設(shè)備的處理器芯片中。 根據(jù)Yole的預(yù)測(cè)，2018年以前FOWLP的主要驅(qū)動(dòng)為蘋果智能手機(jī)的處理器芯片，2018年以后的FOWLP的主要驅(qū)動(dòng)除了其他安卓手機(jī)處理器的增長，主要是高密度FOWLP在其他處理芯片的應(yīng)用，如AI、機(jī)器學(xué)習(xí)、物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域。

PLP：全稱Panel-levelpackaging，平板級(jí)封裝，封裝方法與FOWLP類似，只不過將晶粒重組于更大的矩形面板上，而不是圓形的晶圓。更大的面積意味著節(jié)約更多的成本，更高的封裝效率。而且切割的晶粒為方形，晶圓封裝會(huì)導(dǎo)致邊角面積的浪費(fèi)，矩形面板恰恰解決了浪費(fèi)問題。但也對(duì)光刻及對(duì)準(zhǔn)提出了更高的要求。

▌ 2.5D封裝：RDL&中介層

RDL(Redistributionlayer，再分布層)：在晶圓水平上，觸點(diǎn)再分布可以很高效的進(jìn)行。再分布層用于使連線路徑重新規(guī)劃，落到我們希望的區(qū)域，也可以獲得更高的觸點(diǎn)密度。再分布的過程，實(shí)際上是在原本的晶圓上又加了一層或幾層。首先淀積的是一層電介質(zhì)用于隔離，接著我們會(huì)使原本的觸點(diǎn)裸露，再淀積新的金屬層來實(shí)現(xiàn)重新布局布線。UBM在這里會(huì)被用到，作用是支撐焊錫球或者其他材料的接觸球。

中介層(Interposer)：指的是焊錫球和晶粒之間導(dǎo)電層。它的作用是擴(kuò)大連接面，使一個(gè)連接改線到我們想要的地方。與再分布層作用類似。

3D封裝：TSV，PoP和MEMS

TSV（Through-siliconvia，硅通孔）：Bump和RDL會(huì)占用芯片接合到基板上的平面面積，TSV可以將芯片堆疊起來使三維空間被利用起來。更重要的是，堆疊技術(shù)改善了多芯片連接時(shí)的電學(xué)性質(zhì)。引線鍵合可以被用于堆疊技術(shù)，但TSV吸引力更大。TSV實(shí)現(xiàn)了貫穿整個(gè)芯片厚度的電氣連接，更開辟了芯片上下表面之間的最短通路。芯片之間連接的長度變短也意味著更低的功耗和更大的帶寬。TSV技術(shù)最早在CMOS圖像傳感器中被應(yīng)用，未來在FPGA、存儲(chǔ)器、傳感器等領(lǐng)域都將被應(yīng)用。根據(jù)Yole預(yù)測(cè)，2016~2021年，應(yīng)用TSV技術(shù)的晶圓數(shù)量將以10%的年復(fù)合增長率增長。3D存儲(chǔ)芯片封裝也會(huì)在將來大量的用到TSV。

PoP(PackageonPackage，堆疊封裝）：PoP是一種將分離的邏輯和存儲(chǔ)BGA(Ballgridarray，球狀引腳柵格陣列）包在垂直方向上結(jié)合起來的封裝技術(shù)。在這種結(jié)構(gòu)中，兩層以上的封裝單元自下而上堆疊在一起，中間留有介質(zhì)層來傳輸信號(hào)。PoP技術(shù)增大了器件的集成密度，底層的封裝單元直接與PCB板接觸。傳統(tǒng)的PoP是基于基板的堆疊，隨著存儲(chǔ)器對(duì)高帶寬的需求，球間間隔要求更小，未來將會(huì)與FOWLP技術(shù)相結(jié)合，做基于芯片的堆疊。

MEMS封裝：微機(jī)電系統(tǒng)在近些年應(yīng)用越來越廣泛，隨著傳感器、物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用的大規(guī)模落地，MEMS封裝也備受關(guān)注。MEMS的封裝不同與集成電路封裝，分為芯片級(jí)、模組級(jí)、卡級(jí)、板級(jí)、門級(jí)等多元垂直分級(jí)封裝，設(shè)計(jì)時(shí)也需考慮不同模組間的相互影響。目前MEMS封裝市場(chǎng)規(guī)模在27億美元左右，2016~2020年間將會(huì)維持16.7%的年復(fù)合增長率高速增長。其中RFMEMS封裝市場(chǎng)是主要驅(qū)動(dòng)，2016~2020年間，年復(fù)合增長率高達(dá)35.1%。

在整個(gè)MEMS生態(tài)系統(tǒng)中，MEMS封裝發(fā)展迅速，晶圓級(jí)和3D集成越來越重要。主要的趨勢(shì)是為低溫晶圓鍵合等單芯片集成開發(fā)出與CMOS兼容的MEMS制造工藝。另一個(gè)新趨勢(shì)是裸片疊層應(yīng)用于低成本無鉛半導(dǎo)體封裝，這種技術(shù)可為量產(chǎn)帶來更低的成本和更小的引腳封裝。但是，MEMS器件的CMOS和3D集成給建模、測(cè)試和可靠性帶來挑戰(zhàn)。

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