91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

ASML最新一代EUV光刻生產(chǎn)效率增加18%

21克888 ? 來源:電子發(fā)燒友 ? 作者:Norris ? 2020-10-16 10:24 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

本土晶圓代工企業(yè)崛起之際,設(shè)備進(jìn)口議題備受關(guān)注。光刻機(jī)龍頭ASML近日表示,從荷蘭向中國出口DUV光刻機(jī)無需許可證。


“根據(jù)當(dāng)前法規(guī),ASML無需獲得美國出口許可證便可以繼續(xù)從荷蘭向中國客戶出貨DUV光刻系統(tǒng);對于直接從美國發(fā)貨系統(tǒng)或零件到受法規(guī)影響的客戶,ASML需獲得許可證?!惫饪虣C(jī)龍頭ASML總裁兼CEO Peter Wennink 在最新季度財(cái)報(bào)說明會(huì)上對中芯國際等中國客戶的出貨情況做了解釋。

ASML近日公布了光刻機(jī)產(chǎn)品的最新進(jìn)展。其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發(fā)中的最先進(jìn)光刻機(jī)系統(tǒng),終于敲定最終規(guī)格。具體來說,30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出貨交付,客戶還需要一定時(shí)間等待,價(jià)格應(yīng)該不會(huì)低于現(xiàn)款老型號(hào)的1.2億美元。

目前,ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進(jìn)光刻機(jī)是3400C,但主力出貨型號(hào)是3400B。參數(shù)方面,3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小時(shí)可曝光125片晶圓。

另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了軟件升級(jí)。全新的DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:2050i已經(jīng)在三季度結(jié)束驗(yàn)證,四季度早期開始正式出貨。

據(jù)悉,在截止9月30日的單季度,ASML共獲得60臺(tái)光刻機(jī)收入,出貨了10臺(tái)EUV光刻機(jī)。關(guān)于最為先進(jìn)的EUV光刻機(jī)出口中國的政策,ASML并未提及。

本文由電子發(fā)燒友綜合報(bào)道,內(nèi)容參考自ASML,CnBeta,轉(zhuǎn)載請注明以上來源。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    615

    瀏覽量

    88822
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    737

    瀏覽量

    43535
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)芯片,直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠,還需要光刻
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?6678次閱讀

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    了全球 EUV 光刻設(shè)備市場,成為各國晶圓廠邁向 7nm、5nm 乃至更先進(jìn)制程繞不開的 “守門人”。然而,近日俄羅斯科學(xué)院微結(jié)構(gòu)物理研究所公布的份國產(chǎn) EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?1w次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    壟斷 EUV 光刻機(jī)之后,阿斯麥劍指先進(jìn)封裝

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 當(dāng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)陷入 “先進(jìn)制程競賽” 的白熱化階段,極紫外(EUV光刻機(jī)作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成為決定產(chǎn)業(yè)格局的核心力量。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球唯
    的頭像 發(fā)表于 03-05 09:19 ?2210次閱讀

    今日看點(diǎn):華為2025年銷售收入超8800億元;ASML公布EUV光源技術(shù)突破

    阿斯麥ASML公布EUV光源技術(shù)突破 ? 阿斯麥(ASML )的研究人員表示,他們找到了種方法,可以提升關(guān)鍵芯片制造設(shè)備中的光源功率,到2030年使芯片產(chǎn)量提高多達(dá)50%。 ?
    的頭像 發(fā)表于 02-25 09:16 ?1274次閱讀

    EUV光源重大突破!ASML:芯片產(chǎn)量將提升50%

    紫外光刻EUV)設(shè)備的公司。EUV設(shè)備堪稱芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)計(jì)算芯片的“神器”,像臺(tái)積電、英特爾等行業(yè)巨頭都高度依賴它。EUV
    的頭像 發(fā)表于 02-25 09:15 ?2042次閱讀

    澤攸科技 | EBL和EUV光刻機(jī)有何區(qū)別?如何影響半導(dǎo)體行業(yè)?

    從技術(shù)路徑上看,電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同類問題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是種直
    的頭像 發(fā)表于 01-06 16:49 ?777次閱讀
    澤攸科技 | EBL和<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>機(jī)有何區(qū)別?如何影響半導(dǎo)體行業(yè)?

    白光干涉儀在EUV光刻后的3D輪廓測量

    EUV(極紫外)光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長,成為 7nm 及以下節(jié)點(diǎn)集成電路制造的核心工藝,其光刻后形成的三維圖形(如鰭片、柵極、接觸孔等)尺寸通常在 5-50nm 范圍,高度 50-500nm。
    的頭像 發(fā)表于 09-20 09:16 ?803次閱讀

    【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

    為我們重點(diǎn)介紹了AI芯片在封裝、工藝、材料等領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新。 、摩爾定律 摩爾定律是計(jì)算機(jī)科學(xué)和電子工程領(lǐng)域的條經(jīng)驗(yàn)規(guī)律,指出集成電路上可容納的晶體管數(shù)量每18-24個(gè)月會(huì)增加一
    發(fā)表于 09-15 14:50

    EUV光刻膠材料取得重要進(jìn)展

    突破的核心力量。 ? 然而,EUV光刻的廣泛應(yīng)用并非坦途,其光源本身存在反射損耗大、亮度低等固有缺陷,這對配套的光刻膠材料提出了前所未有的嚴(yán)苛要求——不僅需要具備高效的
    的頭像 發(fā)表于 08-17 00:03 ?4725次閱讀

    中科院微電子所突破 EUV 光刻技術(shù)瓶頸

    激光(IR)轟擊 Sn 等離子體,從而釋放出 EUV 輻射,隨后通過收集鏡將 EUV 輻射會(huì)聚到中間焦點(diǎn)(IF)處。 然而,在這過程中,冗余的紅外輻射若進(jìn)入曝光光學(xué)系統(tǒng),將會(huì)產(chǎn)生熱負(fù)載,對
    的頭像 發(fā)表于 07-22 17:20 ?1161次閱讀
    中科院微電子所突破 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)瓶頸

    新一代高效電機(jī)技術(shù)—PCB電機(jī)

    純分享帖,點(diǎn)擊下方附件免費(fèi)獲取完整資料~~~ *附件:新一代高效電機(jī)技術(shù)—PCB電機(jī).pdf 內(nèi)容有幫助可以關(guān)注、點(diǎn)贊、評論支持下,謝謝! 【免責(zé)聲明】本文系網(wǎng)絡(luò)轉(zhuǎn)載,版權(quán)歸原作者所有。本文所用視頻、圖片、文字如涉及作品版權(quán)問題,請第
    發(fā)表于 07-17 14:35

    ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?2066次閱讀

    ASML光刻「芯 」勢力知識(shí)挑戰(zhàn)賽正式啟動(dòng)

    ASML光刻「芯」勢力知識(shí)挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起,是項(xiàng)面向中國半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML
    的頭像 發(fā)表于 06-23 17:04 ?1280次閱讀
    <b class='flag-5'>ASML</b>杯<b class='flag-5'>光刻</b>「芯 」勢力知識(shí)挑戰(zhàn)賽正式啟動(dòng)

    新一代光纖涂覆機(jī)

    ,固化效率高,避免時(shí)間過久造成涂層變形。 ?總結(jié) 濰坊華纖光電科技的新一代光纖涂覆機(jī)系列在技術(shù)、功能和可靠性方面均處于水平,能夠滿足各類常規(guī)及特種光纖的涂覆需求。其的設(shè)計(jì)和核心技術(shù)優(yōu)勢,使其成為國產(chǎn)光纖涂
    發(fā)表于 04-03 09:13

    DSA技術(shù):突破EUV光刻瓶頸的革命性解決方案

    為了補(bǔ)償光子不足,制造商可能會(huì)增加曝光劑量,這又會(huì)延長光刻過程中停留的時(shí)間。然而,這種做法直接影響了生產(chǎn)效率,使得整個(gè)過程變得更慢,經(jīng)濟(jì)性降低。此外,隨著幾何尺寸的縮小以適應(yīng)更小的技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 03-19 11:10 ?1491次閱讀
    DSA技術(shù):突破<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>瓶頸的革命性解決方案