導(dǎo) 讀

日前，南大光電公告稱，由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶使用認證，線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。

圖：南大光電公告 公告稱，“ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國家“02 專項”的一個重點攻關(guān)項目。本次產(chǎn)品的認證通過，標志著“ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國內(nèi)通過產(chǎn)品驗證的第一只國產(chǎn) ArF 光刻膠。 此舉意味著國產(chǎn)193nm ArF 光刻膠產(chǎn)品正式由研發(fā)走向量產(chǎn)階段。

認證評估報告顯示，“本次認證選擇客戶50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的 ArF 光刻膠產(chǎn)品測試各項性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達標?！? 本次驗證使用的 50nm 閃存技術(shù)平臺，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm 光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm 光刻需求，該工藝平臺的光刻膠在業(yè)界有代表性。 公告稱與該客戶的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中，但公告并未透露使用該光刻膠的閃存客戶是哪一家。

圖：半導(dǎo)體光刻膠的分類（來源：興業(yè)證券） ■ 南大光電“02專項”項目前程提要 在2018年，南大光電曾發(fā)表關(guān)于實施國家“02專項”ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā) 與產(chǎn)業(yè)化的可行性研究報告。報告指出，江蘇南大光電材料股份有限公司（以下簡稱“南大光電”、“公司”、 “本公司”）成立于2000年12月，注冊資本27,346.88萬元，為全球MO源主要供應(yīng)商之一。南大光電經(jīng)過多年的技術(shù)積累及創(chuàng)新，已經(jīng)擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的MO源獨特生產(chǎn)技術(shù)。作為全球MO源的主要供應(yīng)商，產(chǎn)品在滿足國內(nèi)需求時，已遠銷日本、臺灣，韓國、歐洲和美國。公司獲得了ISO9001質(zhì)量認證體系、ISO14001環(huán)境認證體系及OHSAS18001職業(yè)健康體系的認證。公司2012年8月7日在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板成功上市。公司目前擁有MO源、電子特氣、光刻膠三大業(yè)務(wù)板塊，努力成為國際一流的MO源供應(yīng)商、國內(nèi)領(lǐng)先的電子特氣供應(yīng)商和國內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻膠供應(yīng)商并力爭在五到十年內(nèi)發(fā)展成為國際上優(yōu)秀的電子材料生產(chǎn)企業(yè)。

而公司擬投資65,557萬元實施“193nm（ArF）光刻膠材料開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項目，項目實施主體寧波南大光電材料有限公司是本公司的全資子公司。按照他們所說，193nm（ArF）光刻膠和MO源都屬于高純電子材料，在生產(chǎn)工藝、分析測試等方面有一定的相似性，公司現(xiàn)有的很多生產(chǎn)技術(shù)和管理經(jīng)驗可以直接應(yīng)用到此項目中。南大光電經(jīng)過多年的技術(shù)積累及創(chuàng)新，已經(jīng)擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的MO源獨特生產(chǎn)技術(shù)。在產(chǎn)品的合成、純化、分析、封裝、儲運及安全操作等方面均已經(jīng)達到國際先進水平。同時，為了此次項目的開發(fā)，南大光電已完成1500平方米研發(fā)中心的建設(shè)工作。 根據(jù)規(guī)劃，公司將通過3年的建設(shè)、投產(chǎn)及實現(xiàn)銷售，達到年產(chǎn)25噸193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模。產(chǎn)品滿足集成電路行業(yè)需求標準，同時建成先進光刻膠分析測試中心和高分辨率光刻膠研發(fā)中心，為公司新的高端光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化提供技術(shù)保障。目前本項目的主要建設(shè)內(nèi)容為生產(chǎn)車間、分析測試中心、研發(fā)中心、倉庫、水電、道路等配套設(shè)施的建設(shè)。

他們在報告中指出，作為集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料(如：ArF光刻膠)，幾乎完全依賴于進口。這種局面已經(jīng)嚴重制約了我國集成電路產(chǎn)業(yè)的自主發(fā)展。更有甚者，我國集成電路工業(yè)使用的高檔光刻膠中，80%以上都是從日本一個國家進口（剩余的部分從美國進口）。這樣壟斷式的依賴格局使得中國集成電路產(chǎn)業(yè)在我國發(fā)生嚴重自然災(zāi)害、政治沖突、商業(yè)沖突或軍事沖突時受到嚴重的負面影響。從產(chǎn)品性質(zhì)方面分析，相較于可以長時間保存（3年左右，甚至更長）的大硅片和先進制造設(shè)備， 高檔光刻膠的保質(zhì)期很短（6個月左右，甚至更短）。一旦遇到上述的自然災(zāi)害或沖突，我國集成電路產(chǎn)業(yè)勢必面臨芯片企業(yè)短期內(nèi)全面停產(chǎn)的嚴重局面。因此，盡快實現(xiàn)全面國產(chǎn)化和產(chǎn)業(yè)化高檔光刻膠材料具有十分重要的戰(zhàn)略意義和經(jīng)濟價值。

但南大光電也強調(diào)，ArF光刻膠產(chǎn)品的配方包括成膜樹脂、光敏劑、添加劑和溶劑等組分材料。是否能夠?qū)⒏鱾€組分的功能有效地結(jié)合在一起，關(guān)系到光刻膠配方的成敗，這是調(diào)制光刻膠配方的最大挑戰(zhàn)和難點，也是一個光刻膠公司技術(shù)能力的基本體現(xiàn)。國際上只有為數(shù)很少的幾家光刻膠公司可以做到產(chǎn)品級 ArF光刻膠配方的調(diào)制。針對此種情況，一方面，我們可以進行外部引“智”，從光刻膠技術(shù)先進的美國和日本等國家引進相關(guān)領(lǐng)域的專家。另一方面，我們應(yīng)該進行內(nèi)部尋“智”，聯(lián)合國內(nèi)光刻膠的研究單位，積極培養(yǎng)國內(nèi)的光刻膠研發(fā)人才。通過人才的“內(nèi)外結(jié)合”，我們將自主研發(fā)出國產(chǎn)ArF光刻膠產(chǎn)品。同時，我們又可以此團隊為基礎(chǔ)，建設(shè)屬于我國自己本土的光刻膠人才隊伍，為公司先進光刻膠產(chǎn)品的升級換代和我國集成電路行業(yè)的后續(xù)發(fā)展奠定基礎(chǔ)。 ■ 日本絕對領(lǐng)導(dǎo)的光刻膠市場 據(jù)智研咨詢統(tǒng)計，2019年全球光刻膠市場規(guī)模預(yù)計近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%。預(yù)計該市場未來3年仍將以年均5%的速度增長，至2022年全球光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。

根據(jù)下圖，我們可以了解到低端的g/i-line的占總的半導(dǎo)體光刻膠市場份額31%，高端的KrF、ArF-i光刻膠的市場份額最大，達到45%，基本是被日本的企業(yè)壟斷，所以讓日本在半導(dǎo)體領(lǐng)域有極大的控制能力。

以 ArF 光刻膠產(chǎn)品為代表的先進光刻膠以及工藝的主要技術(shù)和專利都掌握在國外的企業(yè)與研究部門，如日本的信越化學(xué)(Shin-Etsu Chemical)、合 成橡膠(JSR)、東京應(yīng)化(TOK)、住友化學(xué)(Sumitomochem)、富士膠片 (Fujifilm)和美國陶氏(Dow Chemical Company)，其中尤其是日本企業(yè)，占有率極高。在KrF光刻膠方面，日本也是占了主導(dǎo)地位，在這領(lǐng)域有全球5%市場占有率的韓國企業(yè)和11%的美國企業(yè)。

數(shù)據(jù)來源：網(wǎng)絡(luò)公開資料，富途證券整理

南大光電表示，本項目已作為我國“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”的核心 部分被列入我國國家科技重大專項，受到國家科技部的高度支持。作為對 提升國家綜合國力有重大推動作用的戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，ArF(干式和浸沒式)光 刻膠是我國集成電路產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵原材料，與國家經(jīng)濟及社會發(fā)展的需求緊 密結(jié)合。本項目不僅能夠極大提高我國本土企業(yè)的自主創(chuàng)新能力，更重要 的是通過重大關(guān)鍵技術(shù)的突破，將帶動和提升我國整個電子工業(yè)體系的技 術(shù)水平和國際競爭力。項目符合國家的產(chǎn)業(yè)政策，按國家基本建設(shè)程序進行實施，項目的建設(shè)是可行的。

來源：綜合自芯片大師、半導(dǎo)體行業(yè)觀察

原文標題：突破！首款國產(chǎn)ArF光刻膠通過認證，可用于45nm工藝

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