91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

不造光刻機(jī)我們還可以造光刻膠

傳感器技術(shù) ? 來(lái)源:BOO聊通信 ? 作者:BOO聊通信 ? 2021-06-15 09:32 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

提到半導(dǎo)體芯片,大家往往能想到的公司是設(shè)計(jì)類的高通海思英偉達(dá)、AMD聯(lián)發(fā)科、蘋果,代工類的臺(tái)積電、中芯國(guó)際,以及全能型的英特爾三星。

但是,以上這些公司若想把芯片真正搞出來(lái),上游有一類公司雖然平時(shí)低調(diào)的很卻必不可缺,那就是半導(dǎo)體材料公司。

啥是半導(dǎo)體材料?說(shuō)白了就是真正把芯片造出來(lái)的原材料,如果把芯片比作面包,那么材料就是面粉。但是,由于芯片的復(fù)雜性,在其制作過程中,所需要的材料當(dāng)然不會(huì)像面包那么簡(jiǎn)單,每種材料都有各自的作用且不可或缺。

比如硅片,可以說(shuō)是芯片之母,芯片就是通過對(duì)硅片進(jìn)行光刻、離子注入等手段后制造出來(lái)的。

比如特種氣體,泛指在芯片制造過程中使用到的各種奇奇怪怪的看到名字都覺得在化學(xué)考試最后一道拔高題中也不會(huì)出現(xiàn)的化學(xué)氣體。特種氣體們主要在半導(dǎo)體薄膜沉積環(huán)節(jié)發(fā)揮不可取代的作用,是形成薄膜的主要原材料。

再比如——光刻膠,今天文章的主角。光刻機(jī)大家都知道,就是各種文章中提到的芯片制造核心設(shè)備,高端產(chǎn)品由荷蘭公司ASML全球唯一壟斷。

而這個(gè)光刻膠中的光刻就是光刻機(jī)的光刻,光刻機(jī)的作用是將芯片從電路設(shè)計(jì)圖紙上像膠卷相機(jī)一樣用光刻在硅片上形成實(shí)實(shí)在在的集成電路,而在這個(gè)過程中,光刻膠會(huì)被涂抹在硅片上,被光刻機(jī)按照電路圖曝光形成電路的“影印”,進(jìn)而成為芯片電路的遮板最終幫助電路在硅片上被刻蝕出來(lái)。

所以,光刻膠對(duì)于造芯片來(lái)說(shuō)不但重要,而且必不可少。那有同學(xué)可能就要疑惑了,看你標(biāo)題的意思,咱國(guó)家造不出來(lái)光刻機(jī),難道還造不出來(lái)光刻膠嗎?

還真就比較費(fèi)盡。。。在目前全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)上,最重要的供應(yīng)國(guó)家是日本,可以說(shuō)日本對(duì)于半導(dǎo)體材料領(lǐng)域是有統(tǒng)治性地位的。目前,日本企業(yè)在全球半導(dǎo)體材料領(lǐng)域占據(jù)市場(chǎng)份額超過一半。

其實(shí)不光是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,日本同樣占據(jù)很大的市場(chǎng)份額,這是因?yàn)樵谏蟼€(gè)世紀(jì)80年代左右,日本曾經(jīng)舉國(guó)體制搞半導(dǎo)體,甚至對(duì)美國(guó)構(gòu)成了很大的威脅,最終遭到了美國(guó)方面的強(qiáng)烈反制,結(jié)果就是日本和半導(dǎo)體設(shè)計(jì)相關(guān)的公司比如東芝、NEC、日立等后面都萎了,無(wú)力與美國(guó)一眾芯片公司競(jìng)爭(zhēng),但在半導(dǎo)體材料和半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域卻起來(lái)了一片至今都NB大發(fā)了的公司。

這些公司雖然由于做后臺(tái)工作不會(huì)像芯片大廠那么出名,但他們?nèi)绻敫赡膫€(gè)國(guó)家,那真的可以把這個(gè)國(guó)家的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)徹底干廢。

舉個(gè)例子,19年韓國(guó)日本曾經(jīng)出現(xiàn)關(guān)系嚴(yán)重惡化,這期間兩國(guó)互相之間出臺(tái)了很多針對(duì)對(duì)方的打壓政策。

那最后這事兒是怎么結(jié)的呢?后來(lái)日本直接把對(duì)韓國(guó)出口的部分關(guān)鍵半導(dǎo)體材料給停了(禁運(yùn))。。。要知道,韓國(guó)是芯片大國(guó),三星、海力士、LG等芯片大廠嚴(yán)重依賴日本提供的各類半導(dǎo)體材料制造芯片,如果韓國(guó)的芯片產(chǎn)業(yè)倒了,那么對(duì)韓國(guó)整個(gè)國(guó)家的影響是巨大的。

所以,韓國(guó)后來(lái)只能“忍辱負(fù)重”與日本好說(shuō)好商量,氣勢(shì)一下就沒了。

具體到光刻膠領(lǐng)域,全球前五企業(yè)占據(jù)接近90%市場(chǎng),其中除了羅門哈斯,剩下都是日本企業(yè),什么叫統(tǒng)治力,這就叫統(tǒng)治力。

而這里面的日本信越,不但在光刻膠領(lǐng)域是全球主要供應(yīng)商,在硅片領(lǐng)域更是全球市占率第一的供應(yīng)商。

而與韓國(guó)一樣,中國(guó)企業(yè)同樣嚴(yán)重依賴日本企業(yè)的半導(dǎo)體材料供應(yīng)。但是上周傳來(lái)消息,日本信越,要對(duì)中國(guó)企業(yè)限制供應(yīng)了。。

具體來(lái)說(shuō),信越化學(xué)要對(duì)中國(guó)多家一線芯片代工廠限制供貨半導(dǎo)體KrF光刻膠,還已通知更小規(guī)模代工廠,表示將完全停止供貨KrF光刻膠。

這里面的KrF光刻膠,是光刻膠中的一種,主要用于生產(chǎn)幾百nm級(jí)別的芯片。

目前全球芯片市占率中,百nm級(jí)別份額不到20%。別看這個(gè)制程的芯片看似低端,但制造高端芯片的臺(tái)積電雖然用不到,可中國(guó)廣大芯片制造企業(yè)需求量可不小。

因?yàn)殡m然這個(gè)級(jí)別的芯片沒法用在手機(jī)電腦上,但卻可以應(yīng)用在入門級(jí)MCU單片機(jī),各類控制領(lǐng)域都有應(yīng)用)、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備、各類智能卡、車規(guī)芯片、家電上,這反而是國(guó)內(nèi)芯片制造市場(chǎng)份額較大的領(lǐng)域。

信越化學(xué)為什么斷供?并不是因?yàn)檎我蛩?,而是信越化學(xué)自己產(chǎn)能的問題。今年2月,日本發(fā)生7級(jí)以上地震,造成信越化學(xué)的工廠遭到破壞,部分產(chǎn)線停工,至今還未修復(fù)完成,產(chǎn)能下降疊加全球需求增加,這才使得信越化學(xué)只能減少或停止對(duì)部分芯片制造企業(yè)的光刻膠供應(yīng)。

本身就不是特別高端的光刻膠,那中國(guó)企業(yè)為啥就造不了?

看看信越化學(xué)的成長(zhǎng)經(jīng)歷就知道為什么了。在中國(guó)還處于亂世的1926年,信越化學(xué)的前身信越氮肥料株式會(huì)社就成立了,成立之初,從名字就可以看出來(lái),當(dāng)年的信越只干一件事兒:生產(chǎn)氮肥。

二戰(zhàn)結(jié)束后,美日關(guān)系修復(fù),日本開始成為美國(guó)的小跟班,這時(shí)的信越化學(xué)注意到了美國(guó)信息革命隨之而來(lái)的對(duì)半導(dǎo)體芯片需求量的暴增。

于是乎,信越開始轉(zhuǎn)型做芯片原材料——硅,畢竟能造的了氮肥,咋就提純不了硅片,反正都是基礎(chǔ)材料領(lǐng)域。而隨后幾十年,日本本土芯片企業(yè)群雄崛起(見下圖,看看當(dāng)年日本企業(yè)多勇),更加助長(zhǎng)了對(duì)半導(dǎo)體基礎(chǔ)材料的需求,乘著東風(fēng),信越化學(xué)工藝逐步進(jìn)步,訂單越來(lái)越多,最終成長(zhǎng)為今天的半導(dǎo)體材料領(lǐng)軍者。

所以,之所以日本半導(dǎo)體材料企業(yè)能實(shí)現(xiàn)今天這樣的統(tǒng)治力,根本原因在于一是入行入的早(日本的工業(yè)現(xiàn)代化起點(diǎn)明治維新時(shí)中國(guó)還在清朝),二是長(zhǎng)期在美國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中被分配了位置,能夠跟隨美國(guó)信息化浪潮一同成長(zhǎng)。

而基礎(chǔ)材料這樣的領(lǐng)域,不是說(shuō)互聯(lián)網(wǎng)公司們靠工程師紅利996寫代碼就能趕超美國(guó)的領(lǐng)域,而是需要用時(shí)間和實(shí)踐、靠著一代代工匠去砸出來(lái),何況如今中國(guó)的材料學(xué)子們也都轉(zhuǎn)行去寫代碼了。

所以,就算是今天在芯片領(lǐng)域NB哄哄的中國(guó)臺(tái)灣和韓國(guó),日本給你斷供不用多,就一種材料,你看他跪不跪就完了。而之前日韓糾紛時(shí),日本政府就玩兒很絕,我不是給你全部斷供,就給韓國(guó)禁運(yùn)三種材料,出口額在日本出口韓國(guó)總額中占比不過 0.01%,韓國(guó)就服了。

就算強(qiáng)如臺(tái)積電,在信越面前也沒有一點(diǎn)面子,臺(tái)積電曾經(jīng)表示要和上游硅片供應(yīng)商重新談價(jià)格簽合同降成本,信越直接公告回復(fù)沒有調(diào)整價(jià)格的打算,愛買不買。。。

而上周隨著信越化學(xué)“斷供”消息的傳來(lái),國(guó)內(nèi)一眾光刻膠企業(yè)紛紛漲停,可背后的現(xiàn)實(shí)卻是這些企業(yè)加起來(lái)在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額不超過日本企業(yè)的零頭,半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品要么偏低端,要么就僅僅是有個(gè)公告說(shuō)我已經(jīng)在研發(fā)了。。。

所以,少一點(diǎn)急躁,多一些沉淀,這個(gè)節(jié)點(diǎn),能讓化學(xué)材料學(xué)子、專家們重新愿意回歸本行,比什么都重要。

編輯:jq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • mcu
    mcu
    +關(guān)注

    關(guān)注

    147

    文章

    18954

    瀏覽量

    399026
  • 臺(tái)積電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    44

    文章

    5803

    瀏覽量

    176496
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    354

    瀏覽量

    31799
  • 半導(dǎo)體芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    61

    文章

    944

    瀏覽量

    72669

原文標(biāo)題:造不了光刻機(jī),咱咋還造不了光刻膠

文章出處:【微信號(hào):WW_CGQJS,微信公眾號(hào):傳感器技術(shù)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    中國(guó)打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)芯片,一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?6698次閱讀

    光刻膠液體吸收行為的橢圓偏振對(duì)比研究

    ,導(dǎo)致厚度顯著增加(約7%)并伴隨折射率下降(約-0.4%),且吸水行為受膠體年齡與后處理工藝影響,在表面呈現(xiàn)非均勻分布。此外,液體還可能萃取光刻膠中的光酸產(chǎn)生劑等
    的頭像 發(fā)表于 01-16 18:04 ?324次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>液體吸收行為的橢圓偏振對(duì)比研究

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn):濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?2001次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測(cè)方法

    在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測(cè)薄膜厚度測(cè)量?jī)xAF系列憑借高精度、高速度的特點(diǎn),為光刻膠厚度監(jiān)測(cè)提供了可靠
    的頭像 發(fā)表于 08-22 17:52 ?1808次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監(jiān)測(cè)方法

    國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長(zhǎng)期被日美巨頭壟斷,國(guó)外企業(yè)對(duì)原料和配方高度保密,我國(guó)九成以上光刻膠依賴進(jìn)口。不過近期,國(guó)產(chǎn)光刻膠領(lǐng)域捷報(bào)頻
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?6908次閱讀

    針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?1069次閱讀
    針對(duì)晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝對(duì)金屬結(jié)構(gòu)的保護(hù)至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝質(zhì)量的關(guān)鍵。本文將介紹金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合
    的頭像 發(fā)表于 06-24 10:58 ?796次閱讀
    金屬低蝕刻率<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對(duì)銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)測(cè)量對(duì)確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?895次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來(lái)的成本、環(huán)保等問題備受關(guān)注。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?845次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對(duì)金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用,并
    的頭像 發(fā)表于 06-16 09:31 ?803次閱讀
    金屬低刻蝕的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?915次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    如果說(shuō)最終制造出來(lái)的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來(lái)可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?1610次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?1372次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng),而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?9656次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性